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11. 发明专利

TWI367788B 電絕緣性薄片的塗布裝置及具有塗膜之電絕緣性薄片的製造方法 COATING APPARATUS FOR INSULATING SHEET, AND METHOD FOR INSULATING SHEET HAVING COATED FILM 失效
简体标题：电绝缘性薄片的涂布设备及具有涂膜之电绝缘性薄片的制造方法 COATING APPARATUS FOR INSULATING SHEET, AND METHOD FOR INSULATING SHEET HAVING COATED FILM
公开(公告)号：TWI367788B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：TW095112779
申请日：2006-04-11
申请人：東麗股份有限公司
发明人：田中治美 , 西森豐 , 井上博之
IPC分类号： B05C , B05D
CPC分类号： B05C5/0254 , B05C1/08 , B05C9/04 , B05C9/10 , B05C11/025 , B05D3/14 , B05D7/04 , B05D2252/10 , G03C1/74 , G11B5/842
摘要：發明之電絕緣性薄片的塗布裝置及具有塗膜之電絕緣性薄片的製造方法，係在將塗液塗布於行走中之電絕緣性薄片的一方表面的步驟中，一面使該絕緣性薄片之帶電極性維持和該塗液之帶電極性為相同極性，一面將該塗液塗布於該電絕緣性薄片上。
简体摘要：发明之电绝缘性薄片的涂布设备及具有涂膜之电绝缘性薄片的制造方法，系在将涂液涂布于行走中之电绝缘性薄片的一方表面的步骤中，一面使该绝缘性薄片之带电极性维持和该涂液之带电极性为相同极性，一面将该涂液涂布于该电绝缘性薄片上。

12. 发明专利

TW200938872A 抗眩光表面處理的方法 METHOD OF ANTI-GLARE SURFACE TREATMENT 审中-公开
简体标题：抗眩光表面处理的方法 METHOD OF ANTI-GLARE SURFACE TREATMENT
公开(公告)号：TW200938872A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW097109128
申请日：2008-03-14
申请人：中華映管股份有限公司 CHUNGHWA PICTURE TUBES, LTD.
发明人：黃莉貞 HUANG, LI CHEN , 李懷安 LI, HUAI AN , 劉勝發 LIU, SHENG FA , 陳玉仙 CHEN, YU HSIEN , 羅宇城 LO, YU CHENG , 李重男 LEE, CHUNG NAN , 張淑美 CHANG, SHU MEI
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B05D7/04 , B05D1/40 , B05D3/06 , B05D3/12 , B05D5/06 , B32B17/10 , C03C17/32 , C03C2217/77 , C03C2218/32 , G02B1/111 , G02B1/12
摘要：一種抗眩光表面處理的方法,包括以下步驟。首先,於基材上形成樹脂層。接著,將基材置放於腔體中,其中腔體內通有水蒸氣。基材上之樹脂層表面藉由水蒸氣之碰撞而形成多個微型凹穴。然後,固化基材上之樹脂層。上述之抗眩光表面處理的方法製程簡易、成本低廉並且品質控制良好。
简体摘要：一种抗眩光表面处理的方法,包括以下步骤。首先,于基材上形成树脂层。接着,将基材置放于腔体中,其中腔体内通有水蒸气。基材上之树脂层表面借由水蒸气之碰撞而形成多个微型凹穴。然后,固化基材上之树脂层。上述之抗眩光表面处理的方法制程简易、成本低廉并且品质控制良好。

13. 发明专利

TW200831275A 基材之表面濕潤性質的改良技術 MODIFICATION OF SURFACE WETTING PROPERTIES OF A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：基材之表面湿润性质的改良技术 MODIFICATION OF SURFACE WETTING PROPERTIES OF A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200831275A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096139235
申请日：2007-10-19
申请人：新加坡科技研究局 AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH
发明人：劉弘宇 LOW, HONG YEE , 張鳳翔 ZHANG, FENGXIANG
IPC分类号： B29C , B05D
CPC分类号： B29C59/022 , B05D3/12 , B05D5/00 , B05D5/08 , B05D7/04 , B29C59/02 , B29C2059/023 , Y10T428/24479
摘要：一種改良基材之表面的濕潤性質之方法,此方法包含對該基材施用具有印痕形成表面的第一模具,以致在該基材上形成第一印痕,該印痕形成表面被選擇來改良該基材的表面濕潤性質。
简体摘要：一种改良基材之表面的湿润性质之方法,此方法包含对该基材施用具有印痕形成表面的第一模具,以致在该基材上形成第一印痕,该印痕形成表面被选择来改良该基材的表面湿润性质。

14. 发明专利

TW200822977A 塗布方法及塗布裝置 COATING METHOD AND COATING DEVICE 失效
简体标题：涂布方法及涂布设备 COATING METHOD AND COATING DEVICE
公开(公告)号：TW200822977A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096133169
申请日：2007-09-06
申请人：東麗股份有限公司 TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：井上博之 INOUE, HIROYUKI , 長井啓史 NAGAI, HIROSHI , 高島直弘 TAKASHIMA, NAOHIRO
IPC分类号： B05D , B05C
CPC分类号： B05D1/40 , B05C5/0254 , B05C9/04 , B05C11/025 , B05C11/1039 , B05D1/26 , B05D1/28 , B05D7/04 , B05D2201/00 , B05D2252/02 , B05D2252/10
摘要：本發明係將配置在樹脂膜之上面側的第1塗覆桿,一面利用具有間歇配置在該第1塗覆桿之長邊方向之複數對滾筒的支持體予以外接支持,一面按壓在前述樹脂膜而使其以與前述樹脂膜大致相同的速度順向旋轉,並且利用位於前述第1塗覆桿之下游側且為配置在烘乾裝置(tenter)之上游側的導引滾輪或第2塗覆桿來支持前述樹脂膜之下面,且利用前述第1塗覆桿將連續性計量供給至前述樹脂膜之上面的前述塗液予以平滑化。
简体摘要：本发明系将配置在树脂膜之上面侧的第1涂覆杆,一面利用具有间歇配置在该第1涂覆杆之长边方向之复数对滚筒的支持体予以外置支持,一面按压在前述树脂膜而使其以与前述树脂膜大致相同的速度顺向旋转,并且利用位于前述第1涂覆杆之下游侧且为配置在烘干设备(tenter)之上游侧的导引滚轮或第2涂覆杆来支持前述树脂膜之下面,且利用前述第1涂覆杆将连续性计量供给至前述树脂膜之上面的前述涂液予以平滑化。

15. 发明专利

TWI273978B 連續自動化成膜機 APPARATUS FOR FILM FORMATION 失效
简体标题：连续自动化成膜机 APPARATUS FOR FILM FORMATION
公开(公告)号：TWI273978B
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：TW095116661
申请日：2006-05-11
申请人：私立中原大學 CHUNG YUAN CHRISTIAN UNIVERSITY
发明人：王世明 WANG, SHIH MING , 黃聖原 , 鐘嘉祐
IPC分类号： B32B , B05C , B05D
CPC分类号： B05D3/12 , B05D1/26 , B05D1/42 , B05D7/04 , B05D2252/02
摘要：一種成膜機，包括一自動注液料機構、一張力控制機構、以及一具有高度之成膜刮板。上述自動注液料機構，可將一具有黏滯性之液料滴出於一基材上，並控制液料之滴出量，其中液料可過濾具有揮發性之氣體，且其中基材具有一形狀及一張力。上述張力控制機構，係用以控制基材之張力，以防止形狀發生改變。上述具有高度之刮板，係用以平均地刮散液料，其中刮板之高度可以進行調整。
简体摘要：一种成膜机，包括一自动注液料机构、一张力控制机构、以及一具有高度之成膜刮板。上述自动注液料机构，可将一具有黏滞性之液料滴出于一基材上，并控制液料之滴出量，其中液料可过滤具有挥发性之气体，且其中基材具有一形状及一张力。上述张力控制机构，系用以控制基材之张力，以防止形状发生改变。上述具有高度之刮板，系用以平均地刮散液料，其中刮板之高度可以进行调整。

16. 发明专利

TW200700472A 製備氟化聚醯亞胺多層薄膜之方法 PROCESSES FOR PRODUCING MULTILAYER FLUORINATED POLYIMIDE FILM 审中-公开
简体标题：制备氟化聚酰亚胺多层薄膜之方法 PROCESSES FOR PRODUCING MULTILAYER FLUORINATED POLYIMIDE FILM
公开(公告)号：TW200700472A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095112117
申请日：2006-04-06
申请人：日本觸媒股份有限公司 NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
发明人：田尻浩三 KOZO TAJIRI , 牧野朋未 TOMOMI MAKINO , 山岸洋子 YOKO YAMAGISHI , 山本二三男 FUMIO YAMAMOTO , 川上直美 NAOMI KAWAKAMI , 川田久美子 KUMIKO KAWADA
IPC分类号： C08J , C08G
CPC分类号： H05K1/0346 , B05D3/0254 , B05D5/083 , B05D7/04 , C08G73/1039 , H05K2201/015 , H05K2201/0154 , H05K2203/0759 , H05K2203/1476
摘要：製備氟化聚醯亞胺多層薄膜的方法包括至少兩次重覆將無碳–氫鍵之氟化聚醯胺酸塗覆於基質上並且緊接著烘乾氟化聚醯胺酸以形成氟化聚醯亞胺薄膜,其中烘乾係於低於380℃的溫度下至少一小時或於烘乾條件是大氣之通氣頻率為0.07次/分鐘或更高的烘乾室中完成。
简体摘要：制备氟化聚酰亚胺多层薄膜的方法包括至少两次重复将无碳–氢键之氟化聚酰胺酸涂覆于基质上并且紧接着烘干氟化聚酰胺酸以形成氟化聚酰亚胺薄膜,其中烘干系于低于380℃的温度下至少一小时或于烘干条件是大气之通气频率为0.07次/分钟或更高的烘干室中完成。

17. 发明专利

TW200510496A 拒液性塗覆組成物及具有高耐鹼性之塗層 LIQUID-REPELLENT COATING COMPOSITION AND COATING HAVING HIGH ALKALI RESISTANCE 失效
简体标题：拒液性涂覆组成物及具有高耐碱性之涂层 LIQUID-REPELLENT COATING COMPOSITION AND COATING HAVING HIGH ALKALI RESISTANCE
公开(公告)号：TW200510496A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：TW093121966
申请日：2004-07-22
申请人：新材料非營利性機構有限公司 INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH , 佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：賀爾慕舒密特 SCHMIDT, HELMUT , 彼得米勒 MULLER, PETER , 史蒂芬皮羅塔克 PILOTEK, STEFFEN , 卡斯坦貝克威林格 BECKER-WILLINGER, CARSTEN , 潘蜜拉卡蜜斯 KALMES, PAMELA , 大熊典夫 OHKUMA, NORIO , 檜野悦子 HINO, ETSUKO , 下村明彥 SHIMOMURA, AKIHIKO
IPC分类号： C09D
CPC分类号： C09D183/08 , B05D1/185 , B05D3/0209 , B05D3/0254 , B05D3/067 , B05D5/083 , B05D7/04 , B05D7/542 , C09D183/14 , C08L2666/28
摘要：一種塗覆組成物，包含a)至少一種具含氟基團的可水解矽烷與至少一種具陽離子可聚合基團的可水解矽烷之縮合產物，和b)陽離子引發劑，其適合藉由固化而提供具有耐鹼性拒液塗層之底質。
简体摘要：一种涂覆组成物，包含a)至少一种具含氟基团的可水解硅烷与至少一种具阳离子可聚合基团的可水解硅烷之缩合产物，和b)阳离子引发剂，其适合借由固化而提供具有耐碱性拒液涂层之底质。

18. 发明专利

TW201741040A 可延伸式障壁膜、採用其之物品及其之製造方法审中-公开
简体标题：可延伸式障壁膜、采用其之物品及其之制造方法
公开(公告)号：TW201741040A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105141927
申请日：2016-12-16
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：勾翠克凱文威力 , GOTRIK, KEVIN WILLY , 張培慧 , ZHANG, PEIHUI , 里昂斯克里斯多夫史戴維 , LYONS, CHRISTOPHER STEWART , 史瓦生羅納德保羅 , SWANSON, RONALD PAUL , 迪伯傑拉德史蒂芬 , DEEB, GERALD STEVEN
IPC分类号： B05D7/04 , C08J7/04
CPC分类号： C08J7/045 , B05D7/04 , B05D7/50 , B65D2565/387 , Y02W30/806
摘要：提供一種障壁膜，其包括：一障壁層，其具有兩個相對之主表面，其中該障壁層包含屈曲變形及非屈曲區域；一第一有機層，其直接接觸於該障壁層之該等相對之主表面之一者；一第二有機層，其直接接觸於該障壁層之該等相對之主表面之另一者；及一基材，其直接接觸於該第一有機層或該第二有機層。
简体摘要：提供一种障壁膜，其包括：一障壁层，其具有两个相对之主表面，其中该障壁层包含屈曲变形及非屈曲区域；一第一有机层，其直接接触于该障壁层之该等相对之主表面之一者；一第二有机层，其直接接触于该障壁层之该等相对之主表面之另一者；及一基材，其直接接触于该第一有机层或该第二有机层。

19. 发明专利

TW201736146A 光學薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201736146A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105141181
申请日：2016-12-13
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 宮崎真 , MIYAZAKI, MAKOTO
IPC分类号： B32B37/12 , B32B38/00 , B05D1/28 , B05C17/035 , G02B5/30
CPC分类号： B05D1/28 , B05D7/04 , B32B27/00 , B32B37/12 , C09J5/00 , C09J201/00 , G02B5/30
摘要：本發明之課題在於提供一種光學薄膜之製造方法，藉由該方法，即便光學薄膜為薄型仍能防止因異物及/或氣泡而產生外觀缺陷。解決手段上，本發明之光學薄膜之製造方法中，該光學薄膜包含一至少由第1薄膜及第2薄膜隔著接著劑層或黏著劑層貼合而成之積層結構，前述接著劑層或黏著劑層係由接著劑組成物或黏著劑組成物之硬化物層構成，並且該製造方法具有下述第1塗佈步驟：於貼合第1薄膜及第2薄膜之前，利用凹版輥筒塗佈系統將黏度1~10000cP的液狀物塗佈在第1薄膜之與第2薄膜貼合面為相反側之面、及第2薄膜之與第1薄膜貼合面為相反側之面中之至少一面上，藉此去除異物。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光学薄膜之制造方法，借由该方法，即便光学薄膜为薄型仍能防止因异物及/或气泡而产生外观缺陷。解决手段上，本发明之光学薄膜之制造方法中，该光学薄膜包含一至少由第1薄膜及第2薄膜隔着接着剂层或黏着剂层贴合而成之积层结构，前述接着剂层或黏着剂层系由接着剂组成物或黏着剂组成物之硬化物层构成，并且该制造方法具有下述第1涂布步骤：于贴合第1薄膜及第2薄膜之前，利用凹版辊筒涂布系统将黏度1~10000cP的液状物涂布在第1薄膜之与第2薄膜贴合面为相反侧之面、及第2薄膜之与第1薄膜贴合面为相反侧之面中之至少一面上，借此去除异物。

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