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11. 发明专利

TW201503606A 電子裝置與控制方法审中-公开
简体标题：电子设备与控制方法
公开(公告)号：TW201503606A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW102123428
申请日：2013-07-01
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳家銘 , CHEN, JIA MING , 劉家維 , LIU, JIA WEI , 曾銘健 , TSENG, MING CHIEN , 陳世揚 , CHEN, SHI YANG
IPC分类号： H04B1/38 , H04B10/25
CPC分类号： H04B1/48 , H04L5/14
摘要：本揭露提供一種電子裝置，包括一耦合器、一收發切換器、以及一控制電路。耦合器根據來自一頭端單元之下行信號產生一耦合下行信號。收發切換器根據一控制信號切換上行信號與下行信號之傳輸。控制電路用以接收耦合下行信號，依據耦合下行信號之功率狀態產生一狀態計數信號，並且依據狀態計數信號產生控制信號，其中僅當耦合下行信號之準位低於一振幅門檻值且超過一狀態計數時間時，控制電路將狀態計數信號自一第一邏輯準位轉變為相對於第一邏輯準位之一第二邏輯準位，否則控制電路將狀態計數信號維持在第一邏輯準位。
简体摘要：本揭露提供一种电子设备，包括一耦合器、一收发切换器、以及一控制电路。耦合器根据来自一头端单元之下行信号产生一耦合下行信号。收发切换器根据一控制信号切换上行信号与下行信号之传输。控制电路用以接收耦合下行信号，依据耦合下行信号之功率状态产生一状态计数信号，并且依据状态计数信号产生控制信号，其中仅当耦合下行信号之准位低于一振幅门槛值且超过一状态计数时间时，控制电路将状态计数信号自一第一逻辑准位转变为相对于第一逻辑准位之一第二逻辑准位，否则控制电路将状态计数信号维持在第一逻辑准位。

12. 发明专利

TW201325731A 霧化裝置及其控制方法审中-公开
简体标题：雾化设备及其控制方法
公开(公告)号：TW201325731A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100146741
申请日：2011-12-16
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：董福慶 , TUNG, FU CHING , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU
IPC分类号： B05B5/00 , B05B7/24
摘要：一種霧化裝置，包括控制單元、相互連接的密閉液體容器和噴頭、連接噴頭供第一氣體進入噴頭的第一氣體管路、感測第一氣體管路內氣體壓力以產生第一訊號的第一壓力感測器、連接密閉液體容器供第二氣體進入密閉液體容器的第二氣體管路、感測密閉液體容器內背壓以產生第二訊號的第二壓力感測器及控制第二氣體流量的第二流量控制件，其中，流入噴頭的液體經第一氣體的噴撞而霧化。控制單元接收第一、二訊號並進行運算，以根據運算結果令第二流量控制件調整第二氣體進入密閉液體容器的流量，來控制密閉液體容器的背壓，進而控制自噴頭噴出之經霧化的液體流量。
简体摘要：一种雾化设备，包括控制单元、相互连接的密闭液体容器和喷头、连接喷头供第一气体进入喷头的第一气体管路、传感第一气体管路内气体压力以产生第一信号的第一压力传感器、连接密闭液体容器供第二气体进入密闭液体容器的第二气体管路、传感密闭液体容器内背压以产生第二信号的第二压力传感器及控制第二气体流量的第二流量控制件，其中，流入喷头的液体经第一气体的喷撞而雾化。控制单元接收第一、二信号并进行运算，以根据运算结果令第二流量控制件调整第二气体进入密闭液体容器的流量，来控制密闭液体容器的背压，进而控制自喷头喷出之经雾化的液体流量。

13. 实用新型

TW399743U 晶圓背面保護裝置失效
简体标题：晶圆背面保护设备
公开(公告)号：TW399743U
公开(公告)日：2000-07-21
申请号：TW088215788
申请日：1999-09-15
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：董褔慶 , 陳宏銘 , 林武郎 , 陳家銘 , 黃振榮 , 彼德.曼尼克 , 王家康
IPC分类号： G03F
CPC分类号： H01L21/6708 , G03F7/707 , G03F7/70916 , H01L21/67028
摘要：本創作係有關於一種晶圓背面保護裝置，包括一馬達、一真空吸附夾盤、一背環座以及一上蓋，該馬達具有一輸出軸可輸出旋轉動力﹔該夾盤係固定於馬達之上並利用其正面之吸附頭將晶圓之背面吸附住，該夾盤之背面設有一集水環以及複數個細小斜孔，上述斜孔係由集水環延伸至夾盤之正面﹔該背環座係固定於夾盤下方，其並設有二對稱之斜向噴嘴，上述二斜向噴嘴口係以一仰角並斜向馬達旋轉之方向噴灑保護液﹔該上蓋係覆蓋於夾盤之上並形成一封閉反應室，本創作係利用背環座之斜向噴嘴持續地將保護液噴灑於夾盤背面之集水環，利用馬達帶動夾盤與晶圓同步旋轉，使集水環內部之保護液因為離心力的作用，經由細小斜孔向外噴出，並於夾盤與晶圓之間形成一道保護液膜而達到保護晶圓背面之效果，避免製程中之化學液流向晶圓背面造成侵蝕與污染。
简体摘要：本创作系有关于一种晶圆背面保护设备，包括一马达、一真空吸附夹盘、一背环座以及一上盖，该马达具有一输出轴可输出旋转动力﹔该夹盘系固定于马达之上并利用其正面之吸附头将晶圆之背面吸附住，该夹盘之背面设有一集水环以及复数个细小斜孔，上述斜孔系由集水环延伸至夹盘之正面﹔该背环座系固定于夹盘下方，其并设有二对称之斜向喷嘴，上述二斜向喷嘴口系以一仰角并斜向马达旋转之方向喷洒保护液﹔该上盖系覆盖于夹盘之上并形成一封闭反应室，本创作系利用背环座之斜向喷嘴持续地将保护液喷洒于夹盘背面之集水环，利用马达带动夹盘与晶圆同步旋转，使集水环内部之保护液因为离心力的作用，经由细小斜孔向外喷出，并于夹盘与晶圆之间形成一道保护液膜而达到保护晶圆背面之效果，避免制程中之化学液流向晶圆背面造成侵蚀与污染。

14. 实用新型

TW497481U 噴嘴與調整裝置失效
简体标题：喷嘴与调整设备
公开(公告)号：TW497481U
公开(公告)日：2002-08-01
申请号：TW089220404
申请日：2000-11-24
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：董福慶 , 陳家銘 , 黃振榮 , 王家康 , 彼得曼尼克
IPC分类号： B05B
摘要：一種噴嘴與調整裝置，係關於晶圓於積體電路製程處理中，化學品之噴灑與調整裝置，尤指以當晶圓載入至化學反應室的夾盤後，製程所需五種化學品由壓縮氣體壓送至噴灑系統管路，並經不同噴嘴噴灑至旋轉的晶圓表面，再利用主馬達旋轉所產生的離心力，將化學品迅速且均勻的佈滿整個晶圓片。再者，為達機台維修方便、不同應用製程的化學反應室高度與噴嘴水平調整等功能需求，才創作分別設計出噴灑臂旋轉機構、反應室上蓋升降裝置與噴頭固定座的夾持設計。本創作可同時適用於密閉與開放式晶圓反應室，噴頭並具有特有角度設計與水平調整、高度調整功能，深具製程彈性化。
简体摘要：一种喷嘴与调整设备，系关于晶圆于集成电路制程处理中，化学品之喷洒与调整设备，尤指以当晶圆加载至化学反应室的夹盘后，制程所需五种化学品由压缩气体压送至喷洒系统管路，并经不同喷嘴喷洒至旋转的晶圆表面，再利用主马达旋转所产生的离心力，将化学品迅速且均匀的布满整个晶圆片。再者，为达机台维修方便、不同应用制程的化学反应室高度与喷嘴水平调整等功能需求，才创作分别设计出喷洒臂旋转机构、反应室上盖升降设备与喷头固定座的夹持设计。本创作可同时适用于密闭与开放式晶圆反应室，喷头并具有特有角度设计与水平调整、高度调整功能，深具制程弹性化。

15. 发明专利

TWI375761B 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 有权
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TWI375761B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置，其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設，且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件，軸封件係設置於遠離真空系統之一側，且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣，使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣，而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上，形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障，以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备，其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设，且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件，轴封件系设置于远离真空系统之一侧，且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘，使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘，而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上，形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障，以确保真空系统之真空度。

16. 发明专利

TW201113452A 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 审中-公开
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TW201113452A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置,其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設,且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件,軸封件係設置於遠離真空系統之一側,且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣,使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣,而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上,形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障,以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备,其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设,且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件,轴封件系设置于远离真空系统之一侧,且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘,使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘,而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上,形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障,以确保真空系统之真空度。

17. 发明专利

TW201221687A 電漿處理裝置 PLASMA PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：等离子处理设备 PLASMA PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW201221687A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW099140765
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：吳佩珊 , 董福慶 , 何榮振 , 沈添沐 , 陳家銘
IPC分类号： C23C , H05H
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357
摘要：一種電漿處理裝置,包含一陰極總成、一陽極、一連接高頻電源之電極與複數第二通道;該陽極具有一中空腔室以容置該陰極總成;該電極連接該陰極總成;該陰極總成包括複數第一通道,該陽極相對於複數第一通道具有至少一個輸出孔;複數第二通道係穿設過陽極,該複數第一通道與該複數第二通道係穿插設置。一第一氣體由電漿處理裝置外部進入每一第一通道,藉由高頻電源進行碰撞解離反應並生成電漿;在每一第一通道產生之電漿會經由輸出孔流出,形成一電漿擴散區;一第二氣體由電漿處理裝置外部進入每一第二通道,輸出至電漿擴散區。
简体摘要：一种等离子处理设备,包含一阴极总成、一阳极、一连接高频电源之电极与复数第二信道;该阳极具有一中空腔室以容置该阴极总成;该电极连接该阴极总成;该阴极总成包括复数第一信道,该阳极相对于复数第一信道具有至少一个输出孔;复数第二信道系穿设过阳极,该复数第一信道与该复数第二信道系穿插设置。一第一气体由等离子处理设备外部进入每一第一信道,借由高频电源进行碰撞解离反应并生成等离子;在每一第一信道产生之等离子会经由输出孔流出,形成一等离子扩散区;一第二气体由等离子处理设备外部进入每一第二信道,输出至等离子扩散区。

18. 发明专利

TW201109462A 具有升降系統之鍍膜機台 COATING MACHINE WITH LIFTING SYSTEM 审中-公开
简体标题：具有升降系统之镀膜机台 COATING MACHINE WITH LIFTING SYSTEM
公开(公告)号：TW201109462A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW098130172
申请日：2009-09-08
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：董福慶 , 陳冠州 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 陳家銘 , 何榮振 , 簡榮禎
IPC分类号： C23C
摘要：一種具有升降系統之鍍膜機台,鍍膜機台的殼體中具有反應腔室,反應腔室中設有基板傳輸系統,用以傳輸被鍍基板進出反應腔室以進行鍍膜製程,反應腔室的頂部設有反應源,並且於殼體與反應源之間設置升降系統來承載反應源,由升降系統帶動反應源升降,以改變反應源與被鍍基板間的距離,進而改變鍍膜品質與厚度均勻性。
简体摘要：一种具有升降系统之镀膜机台,镀膜机台的壳体中具有反应腔室,反应腔室中设有基板传输系统,用以传输被镀基板进出反应腔室以进行镀膜制程,反应腔室的顶部设有反应源,并且于壳体与反应源之间设置升降系统来承载反应源,由升降系统带动反应源升降,以改变反应源与被镀基板间的距离,进而改变镀膜品质与厚度均匀性。

19. 发明专利

TWI400739B 陰極放電裝置有权
简体标题：阴极放电设备
公开(公告)号：TWI400739B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW097144774
申请日：2008-11-19
申请人：工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：董福慶 , TUNG, FU CHING , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 陳冠州 , CHEN, KUAN CHOU , 簡榮禎 , CHIEN, JUNG CHEN , 梁沐旺 , LIANG, MUH WANG
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/3244

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