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1. 发明专利

TW201410573A 具有弧形載盤之旋轉定位裝置、自動取放系統及其操作方法审中-公开
简体标题：具有弧形载盘之旋转定位设备、自动取放系统及其操作方法
公开(公告)号：TW201410573A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102129675
申请日：2013-08-19
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳冠州 , CHEN, KUAN CHOU , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 李昇亮 , LEE, SHENG LANG , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 董福慶 , 李志中 , LEE, JYH JONE , 林灣松 , LIN, WAN SUNG , 陳冠翰 , CHEN, KUAN HAN
IPC分类号： B65G49/07
CPC分类号： H01L21/68 , C23C14/505 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49998
摘要：一種旋轉定位裝置，包括一固定座、一旋轉機構、一第一驅動模組、一載盤以及一第二驅動模組。旋轉機構設置於固定座上。第一驅動模組設置於固定座上，並且耦接旋轉機構，以驅動旋轉機構繞著一第一轉軸相對於固定座旋轉。載盤具有多個容置槽，位於該載盤之一圓弧面上，且載盤經由一第二轉軸樞接於旋轉機構。所述第二轉軸通過圓弧面的曲率中心並且垂直於第一轉軸，且曲率中心位於第一轉軸上。第二驅動模組配置於旋轉機構上，並且耦接載盤，以驅動載盤繞著第二轉軸相對於旋轉機構旋轉。應用此旋轉定位裝置的自動取放系統及其操作方法亦被提出。
简体摘要：一种旋转定位设备，包括一固定座、一旋转机构、一第一驱动模块、一载盘以及一第二驱动模块。旋转机构设置于固定座上。第一驱动模块设置于固定座上，并且耦接旋转机构，以驱动旋转机构绕着一第一转轴相对于固定座旋转。载盘具有多个容置槽，位于该载盘之一圆弧面上，且载盘经由一第二转轴枢接于旋转机构。所述第二转轴通过圆弧面的曲率中心并且垂直于第一转轴，且曲率中心位于第一转轴上。第二驱动模块配置于旋转机构上，并且耦接载盘，以驱动载盘绕着第二转轴相对于旋转机构旋转。应用此旋转定位设备的自动取放系统及其操作方法亦被提出。

2. 发明专利

TWI609143B 偏心擺動減速裝置有权
简体标题：偏心摆动减速设备
公开(公告)号：TWI609143B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW105143909
申请日：2016-12-29
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：謝章嘉 , HSIEH, CHANG CHIA , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN
IPC分类号： F16H1/32 , F16H3/70
CPC分类号： F16H1/32 , F16H2001/323

3. 发明专利

TW201325731A 霧化裝置及其控制方法审中-公开
简体标题：雾化设备及其控制方法
公开(公告)号：TW201325731A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100146741
申请日：2011-12-16
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：董福慶 , TUNG, FU CHING , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU
IPC分类号： B05B5/00 , B05B7/24
摘要：一種霧化裝置，包括控制單元、相互連接的密閉液體容器和噴頭、連接噴頭供第一氣體進入噴頭的第一氣體管路、感測第一氣體管路內氣體壓力以產生第一訊號的第一壓力感測器、連接密閉液體容器供第二氣體進入密閉液體容器的第二氣體管路、感測密閉液體容器內背壓以產生第二訊號的第二壓力感測器及控制第二氣體流量的第二流量控制件，其中，流入噴頭的液體經第一氣體的噴撞而霧化。控制單元接收第一、二訊號並進行運算，以根據運算結果令第二流量控制件調整第二氣體進入密閉液體容器的流量，來控制密閉液體容器的背壓，進而控制自噴頭噴出之經霧化的液體流量。
简体摘要：一种雾化设备，包括控制单元、相互连接的密闭液体容器和喷头、连接喷头供第一气体进入喷头的第一气体管路、传感第一气体管路内气体压力以产生第一信号的第一压力传感器、连接密闭液体容器供第二气体进入密闭液体容器的第二气体管路、传感密闭液体容器内背压以产生第二信号的第二压力传感器及控制第二气体流量的第二流量控制件，其中，流入喷头的液体经第一气体的喷撞而雾化。控制单元接收第一、二信号并进行运算，以根据运算结果令第二流量控制件调整第二气体进入密闭液体容器的流量，来控制密闭液体容器的背压，进而控制自喷头喷出之经雾化的液体流量。

4. 发明专利

TWI499684B 具有弧形載盤之旋轉定位裝置、自動取放系統及其操作方法有权
简体标题：具有弧形载盘之旋转定位设备、自动取放系统及其操作方法
公开(公告)号：TWI499684B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW102129675
申请日：2013-08-19
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳冠州 , CHEN, KUAN CHOU , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 李昇亮 , LEE, SHENG LANG , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 董福慶 , 李志中 , LEE, JYH JONE , 林灣松 , LIN, WAN SUNG , 陳冠翰 , CHEN, KUAN HAN
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： H01L21/68 , C23C14/505 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49998

5. 发明专利

TW201823607A 偏心擺動減速裝置审中-公开
简体标题：偏心摆动减速设备
公开(公告)号：TW201823607A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105143909
申请日：2016-12-29
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：謝章嘉 , HSIEH, CHANG CHIA , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN
IPC分类号： F16H1/32 , F16H3/70
摘要：本揭露為一種偏心擺動減速裝置，包括：第一外齒輪與第二外齒輪，各別圓周上具有複數個軸通孔；複數個具有第一曲軸部及第二曲軸部之偏心軸體，該複數個偏心軸體穿過該第一外齒輪與該第二外齒輪之複數個軸通孔，使第一外齒輪設於偏心軸體之第一曲軸部上，第二外齒輪設於偏心軸體之第二曲軸部上；至少一支撐部件穿設於該第一外齒輪之第一軸通孔及該第二外齒輪之第二軸通孔，且該至少一支撐部件與該第一外齒輪之第一軸通孔及該第二外齒輪之第二軸通孔的內周緣偏心接觸；圓周上具複數個軸通孔的第一輸出部與第二輸出部，該複數個偏心軸體軸線上的兩端設於該複數個軸通孔中，該第一輸出部及該第二輸出部透過該至少一支撐部件連結；以及一內齒輪與該第一外齒輪及該第二外齒輪嚙合。本揭露還提出偏心軸體與輸出部連結的軸端設置一對滾子軸承與止推軸承，此有助於延長偏心軸體與軸承的運轉壽命。
简体摘要：本揭露为一种偏心摆动减速设备，包括：第一外齿轮与第二外齿轮，各别圆周上具有复数个轴通孔；复数个具有第一曲轴部及第二曲轴部之偏心轴体，该复数个偏心轴体穿过该第一外齿轮与该第二外齿轮之复数个轴通孔，使第一外齿轮设于偏心轴体之第一曲轴部上，第二外齿轮设于偏心轴体之第二曲轴部上；至少一支撑部件穿设于该第一外齿轮之第一轴通孔及该第二外齿轮之第二轴通孔，且该至少一支撑部件与该第一外齿轮之第一轴通孔及该第二外齿轮之第二轴通孔的内周缘偏心接触；圆周上具复数个轴通孔的第一输出部与第二输出部，该复数个偏心轴体轴在线的两端设于该复数个轴通孔中，该第一输出部及该第二输出部透过该至少一支撑部件链接；以及一内齿轮与该第一外齿轮及该第二外齿轮啮合。本揭露还提出偏心轴体与输出部链接的轴端设置一对滚子轴承与止推轴承，此有助于延长偏心轴体与轴承的运转寿命。

6. 发明专利

TWI538742B 霧化裝置及其控制方法有权
简体标题：雾化设备及其控制方法
公开(公告)号：TWI538742B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100146741
申请日：2011-12-16
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：董福慶 , TUNG, FU CHING , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU
IPC分类号： B05B5/00 , B05B7/24

7. 发明专利

TWI427183B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI427183B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW099140765
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 董福慶 , TUNG, FU CHING , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING
IPC分类号： C23C16/513 , H05H1/30
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357

8. 发明专利

TWI375761B 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 有权
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TWI375761B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置，其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設，且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件，軸封件係設置於遠離真空系統之一側，且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣，使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣，而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上，形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障，以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备，其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设，且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件，轴封件系设置于远离真空系统之一侧，且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘，使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘，而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上，形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障，以确保真空系统之真空度。

9. 发明专利

TW201113452A 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 审中-公开
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TW201113452A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置,其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設,且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件,軸封件係設置於遠離真空系統之一側,且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣,使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣,而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上,形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障,以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备,其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设,且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件,轴封件系设置于远离真空系统之一侧,且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘,使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘,而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上,形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障,以确保真空系统之真空度。

10. 发明专利

TW201221687A 電漿處理裝置 PLASMA PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：等离子处理设备 PLASMA PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW201221687A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW099140765
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：吳佩珊 , 董福慶 , 何榮振 , 沈添沐 , 陳家銘
IPC分类号： C23C , H05H
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357
摘要：一種電漿處理裝置,包含一陰極總成、一陽極、一連接高頻電源之電極與複數第二通道;該陽極具有一中空腔室以容置該陰極總成;該電極連接該陰極總成;該陰極總成包括複數第一通道,該陽極相對於複數第一通道具有至少一個輸出孔;複數第二通道係穿設過陽極,該複數第一通道與該複數第二通道係穿插設置。一第一氣體由電漿處理裝置外部進入每一第一通道,藉由高頻電源進行碰撞解離反應並生成電漿;在每一第一通道產生之電漿會經由輸出孔流出,形成一電漿擴散區;一第二氣體由電漿處理裝置外部進入每一第二通道,輸出至電漿擴散區。
简体摘要：一种等离子处理设备,包含一阴极总成、一阳极、一连接高频电源之电极与复数第二信道;该阳极具有一中空腔室以容置该阴极总成;该电极连接该阴极总成;该阴极总成包括复数第一信道,该阳极相对于复数第一信道具有至少一个输出孔;复数第二信道系穿设过阳极,该复数第一信道与该复数第二信道系穿插设置。一第一气体由等离子处理设备外部进入每一第一信道,借由高频电源进行碰撞解离反应并生成等离子;在每一第一信道产生之等离子会经由输出孔流出,形成一等离子扩散区;一第二气体由等离子处理设备外部进入每一第二信道,输出至等离子扩散区。

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