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1. 发明专利

TW201239131A 傳動機構及應用其之鍍膜裝置 TRANSMISSION MECHANISM AND THE DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
简体标题：传动机构及应用其之镀膜设备 TRANSMISSION MECHANISM AND THE DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME
公开(公告)号：TW201239131A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100109636
申请日：2011-03-22
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：杜陳忠 , 江銘通 , 梁沐旺 , 陳冠州 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/4401 , C23C16/54 , Y10T74/19642
摘要：一種傳動機構及應用其之鍍膜裝置,鍍膜裝置包含一腔室提供活性物種,於腔室內對稱設有複數傳動機構,傳動機構包括一轉軸、一傳動輪、複數滑件、一第一彈性件、一第二彈性件及一封套元件,轉軸具有一錐形軸向端部,傳動輪具有一軸孔,轉軸之錐形軸向端部同軸穿設於軸孔,複數滑件以傳動輪軸心為中心沿傳動輪徑向放射狀設置於傳動輪,第一彈性件套設於複數滑件外,第二彈性件係相對於該第一彈性件往該第一軸向端部之方向而套設於傳動輪外,封套元件具有一開口;傳動輪往復移動時,可驅動滑件沿傳動輪徑向滑移,進而改變第一彈性件外徑尺寸,使封套元件開口形成開放或封閉狀態。
简体摘要：一种传动机构及应用其之镀膜设备,镀膜设备包含一腔室提供活性物种,于腔室内对称设有复数传动机构,传动机构包括一转轴、一传动轮、复数滑件、一第一弹性件、一第二弹性件及一封套组件,转轴具有一锥形轴向端部,传动轮具有一轴孔,转轴之锥形轴向端部同轴穿设于轴孔,复数滑件以传动轮轴心为中心沿传动轮径向放射状设置于传动轮,第一弹性件套设于复数滑件外,第二弹性件系相对于该第一弹性件往该第一轴向端部之方向而套设于传动轮外,封套组件具有一开口;传动轮往复移动时,可驱动滑件沿传动轮径向滑移,进而改变第一弹性件外径尺寸,使封套组件开口形成开放或封闭状态。

2. 发明专利

TWI538742B 霧化裝置及其控制方法有权
简体标题：雾化设备及其控制方法
公开(公告)号：TWI538742B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100146741
申请日：2011-12-16
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：董福慶 , TUNG, FU CHING , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING , 吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU
IPC分类号： B05B5/00 , B05B7/24

3. 发明专利

TWI427183B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI427183B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW099140765
申请日：2010-11-25
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：吳佩珊 , WU, PEI SHAN , 董福慶 , TUNG, FU CHING , 何榮振 , HO, JUNG CHEN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU , 陳家銘 , CHEN, CHIA MING
IPC分类号： C23C16/513 , H05H1/30
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357

4. 发明专利

TW201213601A 電漿輔助原子層沉積裝置及其控制方法 APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION 审中-公开
简体标题：等离子辅助原子层沉积设备及其控制方法 APPARATUS AND CONTROL METHOD FOR PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION
公开(公告)号：TW201213601A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW099131387
申请日：2010-09-16
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：黃振榮 , 沈添沐 , 李侃峰 , 江錦忠 , 李昇亮 , 何榮振 , 王慶鈞
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/45536 , C23C16/45551
摘要：本發明係為一種電漿輔助原子層沉積裝置及其控制方法。該電漿輔助原子層沉積裝置，其係由複數個反應室以及一可移動之遮板所組成的電漿輔助原子層沉積裝置，每一個反應室至少包含兩個反應空間以及一可移動基材加熱承載模組。該控制方法係藉由控制遮板之移動，使得遮板得以選擇分隔每一個反應室中的兩個反應空間或者是使該兩個反應空間相連通，而能避免不同製程氣體交互反應所產生的微粒汙染基材表面。
简体摘要：本发明系为一种等离子辅助原子层沉积设备及其控制方法。该等离子辅助原子层沉积设备，其系由复数个反应室以及一可移动之遮板所组成的等离子辅助原子层沉积设备，每一个反应室至少包含两个反应空间以及一可移动基材加热承载模块。该控制方法系借由控制遮板之移动，使得遮板得以选择分隔每一个反应室中的两个反应空间或者是使该两个反应空间相连通，而能避免不同制程气体交互反应所产生的微粒污染基材表面。

5. 发明专利

TW201111545A 氣體分佈板及其裝置 GAS DISTRIBUTION PLATE AND APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
简体标题：气体分布板及其设备 GAS DISTRIBUTION PLATE AND APPARATUS USING THE SAME
公开(公告)号：TW201111545A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW098132442
申请日：2009-09-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：簡榮禎 , 劉俊岑 , 楊宏仁 , 沈添沐 , 梁沐旺
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/45574 , C23C16/45565
摘要：本發明提供一種氣體分佈板，其係提供至少兩種氣體通道。在一實施例中，該氣體分佈板具有一第一通道、至少一開設於該第一通道周圍之第二通道以及一錐形開孔，該錐形開孔係與該第一通道以及該第二通道相連通。在另一實施例中，該氣體分佈板，具有一貫通該分佈板第一與第二表面之一第一通道、一與該分佈板第一表面平行之第二通道以及開設於該第二表面而與該第二通道相連通之第三通道。該第一通道與該第三通道之一端具有一錐形開孔。此外，本發明更提供一種氣體分佈裝置，其係利用本發明之氣體分佈板以提供至少兩種相互獨立且可在進入反應腔室時相互混合。
简体摘要：本发明提供一种气体分布板，其系提供至少两种气体信道。在一实施例中，该气体分布板具有一第一信道、至少一开设于该第一信道周围之第二信道以及一锥形开孔，该锥形开孔系与该第一信道以及该第二信道相连通。在另一实施例中，该气体分布板，具有一贯通该分布板第一与第二表面之一第一信道、一与该分布板第一表面平行之第二信道以及开设于该第二表面而与该第二信道相连通之第三信道。该第一信道与该第三信道之一端具有一锥形开孔。此外，本发明更提供一种气体分布设备，其系利用本发明之气体分布板以提供至少两种相互独立且可在进入反应腔室时相互混合。

6. 发明专利

TWI318417B 中空式陰極放電裝置 HOLLOW-TYPE CATHODE ELECTRICITY DISCHARGING APPARATUS 有权
简体标题：中空式阴极放电设备 HOLLOW-TYPE CATHODE ELECTRICITY DISCHARGING APPARATUS
公开(公告)号：TWI318417B
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：TW095140689
申请日：2006-11-03
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：杜陳忠 , 江銘通 , 董福慶 , 鄭欽峰 , 沈添沐
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/3244 , H01J37/32009 , H01J37/32596
摘要：一種中空式陰極放電裝置，係包括中空陽極電極、絕緣固定於該中空陽極電極中之中空陰極電極、及固定於該中空陰極電極中之氣體分配管，該中空陽極電極及中空陰極電極分別具有相對應之陽極開孔與陰極開孔，而該氣體分配管與該中空陰極電極之間圍限成一沿其軸向繞經各該陰極開孔之螺旋通道，以藉該螺旋通道形成複數個連續且相連通之反應腔室，並設有連通以供導入反應氣體至各該反應腔室之氣體分流孔。藉由彼此相連通之反應腔室使反應氣體獲得均勻分佈有利於裝置軸向長度增長之大尺寸化(Scale up)應用，克服習知技術之缺點。 The present invention provides a hollow－type cathode electricity－discharging apparatus, including a hollow anode electrode, a hollow cathode electrode insulatedly fixed in the hollow anode electrode, a gas distributing pipe fixed in the hollow cathode electrode, wherein the hollow anode electrode and the hollow cathode electrode are respectively formed with a corresponding anode opening and a cathode opening, and a spiral pathway winding around each cathode opening along its axis is formed between the gas－distributing pipe and the hollow cathode electrode, so as to form a plurality of continuous and connected reaction cavities on which gas distribution apertures are disposed and connected to guide the reaction gas into each of the reaction cavities, thereby evenly distributing the reaction gas to facilitate scale－up applications for use with apparatuses with axially extended lengths to overcome the drawbacks of prior techniques.
简体摘要：一种中空式阴极放电设备，系包括中空阳极电极、绝缘固定于该中空阳极电极中之中空阴极电极、及固定于该中空阴极电极中之气体分配管，该中空阳极电极及中空阴极电极分别具有相对应之阳极开孔与阴极开孔，而该气体分配管与该中空阴极电极之间围限成一沿其轴向绕经各该阴极开孔之螺旋信道，以藉该螺旋信道形成复数个连续且相连通之反应腔室，并设有连通以供导入反应气体至各该反应腔室之气体分流孔。借由彼此相连通之反应腔室使反应气体获得均匀分布有利于设备轴向长度增长之大尺寸化(Scale up)应用，克服习知技术之缺点。 The present invention provides a hollow－type cathode electricity－discharging apparatus, including a hollow anode electrode, a hollow cathode electrode insulatedly fixed in the hollow anode electrode, a gas distributing pipe fixed in the hollow cathode electrode, wherein the hollow anode electrode and the hollow cathode electrode are respectively formed with a corresponding anode opening and a cathode opening, and a spiral pathway winding around each cathode opening along its axis is formed between the gas－distributing pipe and the hollow cathode electrode, so as to form a plurality of continuous and connected reaction cavities on which gas distribution apertures are disposed and connected to guide the reaction gas into each of the reaction cavities, thereby evenly distributing the reaction gas to facilitate scale－up applications for use with apparatuses with axially extended lengths to overcome the drawbacks of prior techniques.

7. 发明专利

TWI375761B 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 有权
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TWI375761B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置，其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設，且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件，軸封件係設置於遠離真空系統之一側，且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣，使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣，而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上，形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障，以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备，其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设，且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件，轴封件系设置于远离真空系统之一侧，且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘，使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘，而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上，形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障，以确保真空系统之真空度。

8. 发明专利

TW201113452A 真空旋轉動力傳輸裝置 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY 审中-公开
简体标题：真空旋转动力传输设备 VACUUM APPARATUS OF ROTARY MOTION ENTRY
公开(公告)号：TW201113452A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW098133583
申请日：2009-10-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳冠州 , 董福慶 , 陳家銘 , 吳佩珊 , 沈添沐 , 何榮振
IPC分类号： F16H , F16C , F16J
CPC分类号： F16C33/76 , F16C2300/62 , Y10S277/913
摘要：一種真空旋轉動力傳輸裝置,其主要是由設置於真空系統之腔壁上的軸套組、穿設於軸套組之旋轉軸以及連結並驅動旋轉軸之傳動組所組成。軸套組之座體具有穿孔可供旋轉軸穿設,且於穿孔中對應旋轉軸間隔設置有第一軸承組、第二軸承組、密封環及軸封件,軸封件係設置於遠離真空系統之一側,且軸封件遠離真空系統之一端向中心延伸有一薄片狀之唇狀突緣,使旋轉軸穿過時會將唇狀突緣朝遠離真空系統之方向擴延且包覆於旋轉軸外緣,而能藉由大氣壓力將唇狀突緣壓抵於旋轉軸上,形成阻絕大氣進入直空系統的環形屏障,以確保真空系統之真空度。
简体摘要：一种真空旋转动力传输设备,其主要是由设置于真空系统之腔壁上的轴套组、穿设于轴套组之旋转轴以及链接并驱动旋转轴之传动组所组成。轴套组之座体具有穿孔可供旋转轴穿设,且于穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件,轴封件系设置于远离真空系统之一侧,且轴封件远离真空系统之一端向中心延伸有一薄片状之唇状突缘,使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统之方向扩延且包覆于旋转轴外缘,而能借由大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上,形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障,以确保真空系统之真空度。

9. 实用新型

TW420255U 複合式雙螺旋轉子裝置失效
简体标题：复合式双螺旋转子设备
公开(公告)号：TW420255U
公开(公告)日：2001-01-21
申请号：TW089208958
申请日：2000-05-26
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：劉明信 , 陳純鑑 , 沈添沐 , 簡榮禎
IPC分类号： F04C
CPC分类号： F04C29/0078 , F01C21/02 , F04C18/084 , F04C18/16 , F04C23/001
摘要：本創作於外殼體內容設有第一、第二螺旋轉子，第一螺旋轉子包括有第一低壓螺旋段及第一高壓螺旋段，第二螺旋轉子包括有第二低壓螺旋段及第二高壓螺旋段。第一、第二低壓螺旋段之螺牙能彼此嚙合，且具有較長之節距(Pitch)，第一、第二高壓螺旋段之螺牙亦能彼此嚙合，且具有較短之節距。因此當嚙合運轉時，流體經由氣室體積較大之第一、第二低壓螺旋段，至氣室體積較小之第一、第二高壓螺旋段作壓縮，其與出口端高壓區之壓差便可減小，故能有效減少流體回流，減少功率消耗，降低噪音，體積小，加工容易，成本低。
简体摘要：本创作于外壳体内容设有第一、第二螺旋转子，第一螺旋转子包括有第一低压螺旋段及第一高压螺旋段，第二螺旋转子包括有第二低压螺旋段及第二高压螺旋段。第一、第二低压螺旋段之螺牙能彼此啮合，且具有较长之节距(Pitch)，第一、第二高压螺旋段之螺牙亦能彼此啮合，且具有较短之节距。因此当啮合运转时，流体经由气室体积较大之第一、第二低压螺旋段，至气室体积较小之第一、第二高压螺旋段作压缩，其与出口端高压区之压差便可减小，故能有效减少流体回流，减少功率消耗，降低噪音，体积小，加工容易，成本低。

10. 发明专利

TW201507735A 電漿產生裝置、應用其之表面處理方法與生物組織表面處理方法审中-公开
简体标题：等离子产生设备、应用其之表面处理方法与生物组织表面处理方法
公开(公告)号：TW201507735A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW102140539
申请日：2013-11-07
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：劉志宏 , LIU, CHIH HUNG , 梁沐旺 , LIANG, MUH WANG , 吳勝斌 , WU, SHEN BIN , 沈添沐 , SHEN, TEAN MU
IPC分类号： A61L2/14 , A61C17/00
CPC分类号： A61C19/00 , A61B18/042 , A61B2018/00583 , A61C5/00
摘要：一種電漿產生裝置、應用其之表面處理方法與生物組織表面處理方法。電漿產生裝置包括電漿導管、反應源導管、第一電極及第二電極。電漿導管具有電漿出口。反應源導管設於電漿導管內，且具有反應物出口。第一電極及第二電極設於電漿導管上，其中第二電極比第一電極鄰近於電漿出口。反應源導管的反應物出口不突出超過第一電極之下緣。
简体摘要：一种等离子产生设备、应用其之表面处理方法与生物组织表面处理方法。等离子产生设备包括等离子导管、反应源导管、第一电极及第二电极。等离子导管具有等离子出口。反应源导管设于等离子导管内，且具有反应物出口。第一电极及第二电极设于等离子导管上，其中第二电极比第一电极邻近于等离子出口。反应源导管的反应物出口不突出超过第一电极之下缘。

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