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11. 发明专利

TW200706394A 彩色濾光片之製法、及彩色濾光片與顯示裝置 PROCESS FOR PROUDCING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE 审中-公开
简体标题：彩色滤光片之制法、及彩色滤光片与显示设备 PROCESS FOR PROUDCING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TW200706394A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095121978
申请日：2006-06-20
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：佐藤守正 SATO, MORIMASA , 角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI , 田中光利 TANAKA, MITSUTOSHI
IPC分类号： B41J , G02B
CPC分类号： G02F1/133516 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70791
摘要：本發明提供不使用光罩,特別是使黑色畫像的線寬不齊極少,可高精細地形成、低成本、且顯示特性優良的彩色濾光片之製法、彩色濾光片、以及顯示裝置。因此,本發明提供彩色濾光片之製法,其包括:於基材的表面至少形成感光層的感光層形成步驟;對於該感光層,使用以成為特定之設定傾斜角度��的方式所配置的曝光頭,在使用可能的上述描素部之內,指定使用於N重曝光(其中N為2以上的自然數)的上述描素部,以僅所指定的上述描素部參與曝光的方式進行上述描素部的控制,對於上述感光層,使上述曝光頭在掃描方向作相對移動,而進行曝光的曝光步驟;及使曝光後的上述感光層顯像之顯像步驟。本發明亦提供由該製造方法所製造的彩色濾光片,及使用該彩色濾光片的顯示裝置。
简体摘要：本发明提供不使用光罩,特别是使黑色画像的线宽不齐极少,可高精细地形成、低成本、且显示特性优良的彩色滤光片之制法、彩色滤光片、以及显示设备。因此,本发明提供彩色滤光片之制法,其包括:于基材的表面至少形成感光层的感光层形成步骤;对于该感光层,使用以成为特定之设置倾斜角度��的方式所配置的曝光头,在使用可能的上述描素部之内,指定使用于N重曝光(其中N为2以上的自然数)的上述描素部,以仅所指定的上述描素部参与曝光的方式进行上述描素部的控制,对于上述感光层,使上述曝光头在扫描方向作相对移动,而进行曝光的曝光步骤;及使曝光后的上述感光层显像之显像步骤。本发明亦提供由该制造方法所制造的彩色滤光片,及使用该彩色滤光片的显示设备。

12. 发明专利

TW200420112A 描繪頭單元、描繪裝置及描繪方法 PLOT HEAD UNIT, PLOT DEVICE AND PLOT METHOD 审中-公开
简体标题：描绘头单元、描绘设备及描绘方法 PLOT HEAD UNIT, PLOT DEVICE AND PLOT METHOD
公开(公告)号：TW200420112A
公开(公告)日：2004-10-01
申请号：TW093101919
申请日：2004-01-29
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：中谷大輔 NAKAYA, DAISUKE , 藤井武 FUJII, TAKESHI , 角克人 SUMI, KATSUTO , 尾崎多可雄 OZAKI, TAKAO
IPC分类号： H04N
CPC分类号： H04N1/1008 , H04N1/047 , H04N1/1911 , H04N1/393 , H04N2201/04767
摘要：本發明係以：使用複數個描繪頭時將在掃瞄方向上之倍率誤差消除，並且亦可實施在掃瞄方向之全體的倍率變換之描繪頭單元、描繪裝置及描繪方法作為課題。本發明的解決手段上，係將複數個曝光頭166沿著至少掃瞄方向做複數個配置，而構成曝光頭單元165。在每個曝光頭166上將畫素的更新時序變更之時，可修正曝光頭166間之掃瞄方向的倍率誤差。
简体摘要：本发明系以：使用复数个描绘头时将在扫瞄方向上之倍率误差消除，并且亦可实施在扫瞄方向之全体的倍率变换之描绘头单元、描绘设备及描绘方法作为课题。本发明的解决手段上，系将复数个曝光头166沿着至少扫瞄方向做复数个配置，而构成曝光头单元165。在每个曝光头166上将像素的更新时序变更之时，可修正曝光头166间之扫瞄方向的倍率误差。

13. 发明专利

TW200705134A 繪圖裝置及繪圖方法 RENDERING DEVICE AND RENDERING METHOD 审中-公开
简体标题：绘图设备及绘图方法 RENDERING DEVICE AND RENDERING METHOD
公开(公告)号：TW200705134A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095110844
申请日：2006-03-29
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：角克人 SUMI, KATSUTO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70791 , B41J2/465
摘要：【課題】在N重繪圖形式的繪圖裝置中,即使是在繪圖頭之畫素陣列中的畫素列之角度誤差具有偏差的場合,也可減輕其所起因之繪圖畫像的不均現象。【解決手段】有關以2次元狀排列之可使用畫素之畫素列方向與繪圖頭30對繪圖面12A之掃描方向係成既定之設定傾斜角度的繪圖頭30,其係利用由使用畫素指定部140或設定變更手段150等所構成的使用畫素設定手段,以使上述多數個可使用畫素當中之在N重繪圖中所要使用的使用畫素可實際運作的方式,因應上述畫素列對掃描方向之傾角的偏差來執行上述使用畫素的設定。其後,使曝光頭30一邊對載物台14相對移動,一邊使依上述設定所指定的使用畫素實際運作而在繪圖面12A上執行繪圖。
简体摘要：【课题】在N重绘图形式的绘图设备中,即使是在绘图头之像素数组中的像素列之角度误差具有偏差的场合,也可减轻其所起因之绘图画像的不均现象。【解决手段】有关以2次元状排列之可使用像素之像素列方向与绘图头30对绘图面12A之扫描方向系成既定之设置倾斜角度的绘图头30,其系利用由使用像素指定部140或设置变更手段150等所构成的使用像素设置手段,以使上述多数个可使用像素当中之在N重绘图中所要使用的使用像素可实际运作的方式,因应上述像素列对扫描方向之倾角的偏差来运行上述使用像素的设置。其后,使曝光头30一边对载物台14相对移动,一边使依上述设置所指定的使用像素实际运作而在绘图面12A上运行绘图。

14. 发明专利

TW200606601A 描畫裝置及描畫方法 A PLOTTING DEVICE AND A PLOTTING METHOD 审中-公开
简体标题：描画设备及描画方法 A PLOTTING DEVICE AND A PLOTTING METHOD
公开(公告)号：TW200606601A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW094119937
申请日：2005-06-16
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：角克人 SUMI, KATSUTO , 古和田一輝 KOWADA, KAZUTERU , 鈴木一誠 SUZUKI, ISSEI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： H04N1/19 , B41J2/465 , H04N1/00734 , H04N1/00745 , H04N1/1008 , H04N1/1906 , H04N1/193 , H04N1/1933 , H04N1/195 , H04N1/19573 , H04N2201/0436
摘要：【課題】多重描畫形式之描畫裝置及描畫方法中，減輕因描畫頭之安裝角度的誤差或圖案歪斜等之影響所造成之解像性或濃度不均。【解決手段】被組裝在曝光裝置(描畫裝置)之各曝光頭30內的矩形2維畫素陣列係相對於感光材料12的曝光面而被安裝，而對掃描方向形成規定的設定傾斜角度。與各畫素陣列之中心附近的畫素列相對應之代表光點列的曝光面上之實際傾斜角度係由裂縫與光檢測器之組合所測定。再由所測定之實際傾斜角度，以在代表光點列附近的區域中，可實現將曝光之冗長或不足抑制到最小限度之接近理想的多重曝光之方式來選擇在畫素陣列上之使用畫素。僅使被選擇的使用畫素作動而一邊使各曝光頭30對移動台14相對移動且進行曝光處理。
简体摘要：【课题】多重描画形式之描画设备及描画方法中，减轻因描画头之安装角度的误差或图案歪斜等之影响所造成之解像性或浓度不均。【解决手段】被组装在曝光设备(描画设备)之各曝光头30内的矩形2维像素数组系相对于感光材料12的曝光面而被安装，而对扫描方向形成规定的设置倾斜角度。与各像素数组之中心附近的像素列相对应之代表光点列的曝光面上之实际倾斜角度系由裂缝与光检测器之组合所测定。再由所测定之实际倾斜角度，以在代表光点列附近的区域中，可实现将曝光之冗长或不足抑制到最小限度之接近理想的多重曝光之方式来选择在像素数组上之使用像素。仅使被选择的使用像素作动而一边使各曝光头30对移动台14相对移动且进行曝光处理。

15. 发明专利

TW200515088A 光量調節方法及裝置 PHOTO-AMOUNT REGULATION METHOD AND EQUIPMENT 审中-公开
简体标题：光量调节方法及设备 PHOTO-AMOUNT REGULATION METHOD AND EQUIPMENT
公开(公告)号：TW200515088A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093126941
申请日：2004-09-07
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：清水敦子 SHIMIZU, ATSUKO , 角克人 SUMI, KATSUTO , 中谷大輔 NAKAYA, DAISUKE
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G06K15/1214
摘要：〔課題〕在光量調節方法及裝置中，用以抑制曝光感光材料之因複數光相互不同的波長所產生的感光材料的曝光光斑。〔解決手段〕係在受光部20受光時，把由該受光部20所輸出的輸出值與該波長的關係記憶於輸出波長記憶部40，其中該受光部20所接受的光係具有使感光材料1的曝光位準成為預先指定的一定曝光位準的光量與波長的關係。另外，將雷射光照射部10A、10B…所射出的雷射光的波長與上述各雷射光照射部10A、10B…的對應關係記憶於光源波長記憶部45。光源調節部30係參照上述輸出波長記憶部40與光源波長記憶部45以調節各雷射光的光量，而由受光部20個別接受從各雷射光照射部10A、10B…所射出的各雷射光，使得從受光部20輸出的各輸出值可滿足上述輸出值與波長的關係。
简体摘要：〔课题〕在光量调节方法及设备中，用以抑制曝光感光材料之因复数光相互不同的波长所产生的感光材料的曝光光斑。〔解决手段〕系在受光部20受光时，把由该受光部20所输出的输出值与该波长的关系记忆于输出波长记忆部40，其中该受光部20所接受的光系具有使感光材料1的曝光位准成为预先指定的一定曝光位准的光量与波长的关系。另外，将激光光照射部10A、10B…所射出的激光光的波长与上述各激光光照射部10A、10B…的对应关系记忆于光源波长记忆部45。光源调节部30系参照上述输出波长记忆部40与光源波长记忆部45以调节各激光光的光量，而由受光部20个别接受从各激光光照射部10A、10B…所射出的各激光光，使得从受光部20输出的各输出值可满足上述输出值与波长的关系。

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