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1. 发明专利

TW200606456A 合波雷射光照射方法及裝置 COMBINED WAVE LASER BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE 失效
简体标题：合波激光光照射方法及设备 COMBINED WAVE LASER BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE
公开(公告)号：TW200606456A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW094120534
申请日：2005-06-21
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：清水敦子 SHIMIZU, ATSUKO , 水本學 MIZUMOTO, MANABU , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B41J2/45 , G03G15/04072 , G03G15/0435 , G03G15/326 , G03G2215/0404 , H04N1/40031
摘要：〔課題〕在合波雷射光照射裝置中，可擴大合波雷射光的光輸出之調節範圍。〔解決手段〕藉由目標值輸入部25讀取記錄媒體90之條碼91，以獲得合波雷射光Le的光輸出目標值。在該目標值低於預定的基準值時，藉由光輸出控制部30選擇複數半導體雷射10中的2個半導體雷射10a、10b，以大於或等於振盪臨界值電流且小於或等於最大定額電流的條件來驅動選出的2個半導體雷射10a、10b，並停止驅動未選擇的半導體雷射10c、10d…，以將從半導體雷射10a、10b射出且通過合波部15而被合波的合波雷射光Le的光輸出作成上述目標值。然後，將上述合波雷射光Le通過合波雷射光照射部20而向記錄媒體90照射。
简体摘要：〔课题〕在合波激光光照射设备中，可扩大合波激光光的光输出之调节范围。〔解决手段〕借由目标值输入部25读取记录媒体90之条码91，以获得合波激光光Le的光输出目标值。在该目标值低于预定的基准值时，借由光输出控制部30选择复数半导体激光10中的2个半导体激光10a、10b，以大于或等于振荡临界值电流且小于或等于最大定额电流的条件来驱动选出的2个半导体激光10a、10b，并停止驱动未选择的半导体激光10c、10d…，以将从半导体激光10a、10b射出且通过合波部15而被合波的合波激光光Le的光输出作成上述目标值。然后，将上述合波激光光Le通过合波激光光照射部20而向记录媒体90照射。

2. 发明专利

TWI272405B 合波雷射光照射方法及裝置 COMBINED WAVE LASER BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE 失效
简体标题：合波激光光照射方法及设备 COMBINED WAVE LASER BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE
公开(公告)号：TWI272405B
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW094120534
申请日：2005-06-21
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：清水敦子 SHIMIZU, ATSUKO , 水本學 MIZUMOTO, MANABU , 植村隆之 UEMURA, TAKAYUKI
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B41J2/45 , G03G15/04072 , G03G15/0435 , G03G15/326 , G03G2215/0404 , H04N1/40031
摘要：〔課題〕在合波雷射光照射裝置中，可擴大合波雷射光的光輸出之調節範圍。
〔解決手段〕藉由目標值輸入部25讀取記錄媒體90之條碼91，以獲得合波雷射光Le的光輸出目標值。在該目標值低於預定的基準值時，藉由光輸出控制部30選擇複數半導體雷射10中的2個半導體雷射10a、10b，以大於或等於振盪臨界值電流且小於或等於最大定額電流的條件來驅動選出的2個半導體雷射10a、10b，並停止驅動未選擇的半導體雷射10c、10d...，以將從半導體雷射10a、10b射出且通過合波部15而被合波的合波雷射光Le的光輸出作成上述目標值。然後，將上述合波雷射光Le通過合波雷射光照射部20而向記錄媒體90照射。
简体摘要：〔课题〕在合波激光光照射设备中，可扩大合波激光光的光输出之调节范围。〔解决手段〕借由目标值输入部25读取记录媒体90之条码91，以获得合波激光光Le的光输出目标值。在该目标值低于预定的基准值时，借由光输出控制部30选择复数半导体激光10中的2个半导体激光10a、10b，以大于或等于振荡临界值电流且小于或等于最大定额电流的条件来驱动选出的2个半导体激光10a、10b，并停止驱动未选择的半导体激光10c、10d...，以将从半导体激光10a、10b射出且通过合波部15而被合波的合波激光光Le的光输出作成上述目标值。然后，将上述合波激光光Le通过合波激光光照射部20而向记录媒体90照射。

3. 发明专利

TW200613937A 曝光方法及裝置 EXPOSURE METHOD AND DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光方法及设备 EXPOSURE METHOD AND DEVICE
公开(公告)号：TW200613937A
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094128297
申请日：2005-08-19
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：橋口昭浩 HASHIGUCHI, AKIHIRO , 清水敦子 SHIMIZU, ATSUKO
IPC分类号： G03G
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/7005 , G03F7/70558
摘要：本發明之目的是提供曝光裝置，設有多個雷射模組用來對從多個雷射二極體射出之雷射光進行合波，對從該雷射模組射出之雷射光進行聚焦，將該聚焦光照射在曝光面，其中從雷射二極體、雷射模組射出之雷射光之光量和聚焦光之光量之各個，利用一種之光電感測器進行檢測。本發明之解決手段是在檢測從雷射二極體射出之雷射光之光量時，檢測在光學濾光器FL被反射之透過光學濾光器FL之雷射光，另外，在檢測從雷射模組射出之雷射光之光量之情況時，檢測在光學濾光器FL，FM被反射之透過光學濾光器FH之雷射光，另外，在檢測聚焦光之光量時，檢測在光學濾光器FL、FM、FH被反射之雷射光，用來檢測以不同之衰減率被衰減之雷射光。
简体摘要：本发明之目的是提供曝光设备，设有多个激光模块用来对从多个激光二极管射出之激光光进行合波，对从该激光模块射出之激光光进行聚焦，将该聚焦光照射在曝光面，其中从激光二极管、激光模块射出之激光光之光量和聚焦光之光量之各个，利用一种之光电传感器进行检测。本发明之解决手段是在检测从激光二极管射出之激光光之光量时，检测在光学滤光器FL被反射之透过光学滤光器FL之激光光，另外，在检测从激光模块射出之激光光之光量之情况时，检测在光学滤光器FL，FM被反射之透过光学滤光器FH之激光光，另外，在检测聚焦光之光量时，检测在光学滤光器FL、FM、FH被反射之激光光，用来检测以不同之衰减率被衰减之激光光。

4. 发明专利

TW200515088A 光量調節方法及裝置 PHOTO-AMOUNT REGULATION METHOD AND EQUIPMENT 审中-公开
简体标题：光量调节方法及设备 PHOTO-AMOUNT REGULATION METHOD AND EQUIPMENT
公开(公告)号：TW200515088A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093126941
申请日：2004-09-07
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：清水敦子 SHIMIZU, ATSUKO , 角克人 SUMI, KATSUTO , 中谷大輔 NAKAYA, DAISUKE
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G06K15/1214
摘要：〔課題〕在光量調節方法及裝置中，用以抑制曝光感光材料之因複數光相互不同的波長所產生的感光材料的曝光光斑。〔解決手段〕係在受光部20受光時，把由該受光部20所輸出的輸出值與該波長的關係記憶於輸出波長記憶部40，其中該受光部20所接受的光係具有使感光材料1的曝光位準成為預先指定的一定曝光位準的光量與波長的關係。另外，將雷射光照射部10A、10B…所射出的雷射光的波長與上述各雷射光照射部10A、10B…的對應關係記憶於光源波長記憶部45。光源調節部30係參照上述輸出波長記憶部40與光源波長記憶部45以調節各雷射光的光量，而由受光部20個別接受從各雷射光照射部10A、10B…所射出的各雷射光，使得從受光部20輸出的各輸出值可滿足上述輸出值與波長的關係。
简体摘要：〔课题〕在光量调节方法及设备中，用以抑制曝光感光材料之因复数光相互不同的波长所产生的感光材料的曝光光斑。〔解决手段〕系在受光部20受光时，把由该受光部20所输出的输出值与该波长的关系记忆于输出波长记忆部40，其中该受光部20所接受的光系具有使感光材料1的曝光位准成为预先指定的一定曝光位准的光量与波长的关系。另外，将激光光照射部10A、10B…所射出的激光光的波长与上述各激光光照射部10A、10B…的对应关系记忆于光源波长记忆部45。光源调节部30系参照上述输出波长记忆部40与光源波长记忆部45以调节各激光光的光量，而由受光部20个别接受从各激光光照射部10A、10B…所射出的各激光光，使得从受光部20输出的各输出值可满足上述输出值与波长的关系。

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