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11. 发明专利

TW200926108A 發光顯示設備的顯示方法 DISPLAY METHOD OF EMISSION DISPLAY APPARATUS 审中-公开
简体标题：发光显示设备的显示方法 DISPLAY METHOD OF EMISSION DISPLAY APPARATUS
公开(公告)号：TW200926108A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097131939
申请日：2008-08-21
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：衣幡隼一 IHATA, JUNICHI , 福田浩一 FUKUDA, KOICHI
IPC分类号： G09G
摘要：抑制像素之殘影以增進顯示面板的壽命。在具有其中配置有每一都具有至少一個子像素(11a,11b,11c)之複數個像素之顯示面板的發光顯示設備中,將僅以一個像素P(i,j)做為發光中心來發光的第一顯示方法與將做為發光中心之像素(i,j)的亮度分配給包圍該像素之附近像素的第二顯示方法以可控制的方法加以組合。依據影像輸入資料的空間改變或時間改變、發光時間、退化率、溫度、發光亮度、及顯示時間,而在以高比例之第一顯示方法的高解析模式與以高比例之第二顯示方法的長壽模式間切換。
简体摘要：抑制像素之残影以增进显示皮肤的寿命。在具有其中配置有每一都具有至少一个子像素(11a,11b,11c)之复数个像素之显示皮肤的发光显示设备中,将仅以一个像素P(i,j)做为发光中心来发光的第一显示方法与将做为发光中心之像素(i,j)的亮度分配给包围该像素之附近像素的第二显示方法以可控制的方法加以组合。依据影像输入数据的空间改变或时间改变、发光时间、退化率、温度、发光亮度、及显示时间,而在以高比例之第一显示方法的高解析模式与以高比例之第二显示方法的长寿模式间切换。

12. 发明专利

TW200924179A 光電轉換裝置及多晶片影像感測器 PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE AND MULTI-CHIP IMAGE SENSOR 审中-公开
简体标题：光电转换设备及多芯片影像传感器 PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE AND MULTI-CHIP IMAGE SENSOR
公开(公告)号：TW200924179A
公开(公告)日：2009-06-01
申请号：TW097130662
申请日：2008-08-12
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：山崎和男 YAMAZAKI, KAZUO , 光地哲伸 KOCHI, TETSUNOBU
IPC分类号： H01L , H04N
CPC分类号： H01L27/14603 , H01L27/14643 , H01L27/14687 , H01L31/0352
摘要：使像素間距變窄而沒有增加PN接面電容,一光電轉換裝置包含多個像素配置於其中,各像素包含構成光電轉換區域之第一導電類型的第一雜質區域、構成配置於該第一雜質區域中之訊號取得區域之第二導電類型的第二雜質區域、該第一導電類型的第三雜質區域和該第一導電類型的第四雜質區域係配置在各個像素之用以隔開各個像素的周邊中,該第四雜質區域係設置在相鄰的像素之間,且該第四雜質區域的雜質濃度係小於該第三雜質區域的雜質濃度。
简体摘要：使像素间距变窄而没有增加pn结电容,一光电转换设备包含多个像素配置于其中,各像素包含构成光电转换区域之第一导电类型的第一杂质区域、构成配置于该第一杂质区域中之信号取得区域之第二导电类型的第二杂质区域、该第一导电类型的第三杂质区域和该第一导电类型的第四杂质区域系配置在各个像素之用以隔开各个像素的周边中,该第四杂质区域系设置在相邻的像素之间,且该第四杂质区域的杂质浓度系小于该第三杂质区域的杂质浓度。

13. 发明专利

TW200921284A 曝光設備及半導體裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD 审中-公开
简体标题：曝光设备及半导体设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD
公开(公告)号：TW200921284A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW097126119
申请日：2008-07-10
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大崎美紀 OHSAKI, YOSHINORI
IPC分类号： G03F , H01L , G01M
CPC分类号： G03F7/7085 , G03B27/32 , G03B27/72 , G03F7/706
摘要：本發明提供一種曝光設備,其包含:投影光學系統,其配置成將光罩的圖案投射至基板上;載台,其配置用於移動該基板;及感知器單元,其係配置在該載台上且配置用於接收已通過該投影光學系統之光,該感知器單元包括:孔徑板,其係配置用於量測不同光學性能,以及複數具有不同形狀或不同尺寸之孔徑圖案係形成在該孔徑板上,及光電轉換裝置,其配置成自該複數孔徑圖案光電地轉換光束。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备,其包含:投影光学系统,其配置成将光罩的图案投射至基板上;载台,其配置用于移动该基板;及感知器单元,其系配置在该载台上且配置用于接收已通过该投影光学系统之光,该感知器单元包括:孔径板,其系配置用于量测不同光学性能,以及复数具有不同形状或不同尺寸之孔径图案系形成在该孔径板上,及光电转换设备,其配置成自该复数孔径图案光电地转换光束。

14. 发明专利

TW200920176A 顯示設備 DISPLAY APPARATUS 审中-公开
简体标题：显示设备 DISPLAY APPARATUS
公开(公告)号：TW200920176A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097132367
申请日：2008-08-25
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：山本昌邦 YAMAMOTO, MASAKUNI
IPC分类号： H05B , G09F
CPC分类号： H01L51/5262 , H01L51/5253 , H01L51/5281
摘要：本案提供一顯示設備,即使在造成影像顯示裝置的膜厚誤差時,其光抽取效率仍不會降低。該顯示設備包含多數影像顯示裝置。每一影像顯示裝置包含至少:一有關於發光並包含多數層的堆疊(3);一對電極(第一透明電極(2),第二透明電極(4))安置包夾住該堆疊(3);一透明基材(1)安置在一電極(第一透明電極(2))側;及一濾光片(圓形偏光濾片(5))及一反射層(密封層(6))形成在前述順序的該另一電極側的另一電極(第二透明電極(4))側。
简体摘要：本案提供一显示设备,即使在造成影像显示设备的膜厚误差时,其光抽取效率仍不会降低。该显示设备包含多数影像显示设备。每一影像显示设备包含至少:一有关于发光并包含多数层的堆栈(3);一对电极(第一透明电极(2),第二透明电极(4))安置包夹住该堆栈(3);一透明基材(1)安置在一电极(第一透明电极(2))侧;及一滤光片(圆形偏光滤片(5))及一反射层(密封层(6))形成在前述顺序的该另一电极侧的另一电极(第二透明电极(4))侧。

15. 发明专利

TW200919104A 曝光設備及裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
公开(公告)号：TW200919104A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097125317
申请日：2008-07-04
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：小杉祐司 KOSUGI, YUJI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/42 , G03F9/7034 , G03F9/7092
摘要：本發明提供一種曝光設備,用於使基板上的拍攝區曝光,其包括:可移動載台;投影光學系統;量測裝置,其配置來量測該基板的表面的部份區相對於該投影光學系統的光軸的方向的位置;及控制器,其配置來致使該量測裝置量測相對於複數拍攝區的每一拍攝區的複數量測點的每一量測點之位置,基於所量測位置來決定該表面的球狀,基於所決定球狀來計算相對於該複數測點的每一量測點之校正値,以及基於使用對應於各別量測點的各別校正値所校正的量測値而移動該載台。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备,用于使基板上的拍摄区曝光,其包括:可移动载台;投影光学系统;量测设备,其配置来量测该基板的表面的部份区相对于该投影光学系统的光轴的方向的位置;及控制器,其配置来致使该量测设备量测相对于复数拍摄区的每一拍摄区的复数量测点的每一量测点之位置,基于所量测位置来决定该表面的球状,基于所决定球状来计算相对于该复数测点的每一量测点之校正値,以及基于使用对应于各别量测点的各别校正値所校正的量测値而移动该载台。

16. 发明专利

TW200912522A 原始版資料產生方法、原始版產生方法、曝光方法、裝置製造方法、及用於產生原始版資料之電腦可讀取儲存媒體 ORIGINAL PLATE DATA GENERATION METHOD, ORIGINAL PLATE GENERATION METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM FOR GENERATING ORIGINAL PLATE DATA 审中-公开
简体标题：原始版数据产生方法、原始版产生方法、曝光方法、设备制造方法、及用于产生原始版数据之电脑可读取存储媒体 ORIGINAL PLATE DATA GENERATION METHOD, ORIGINAL PLATE GENERATION METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM FOR GENERATING ORIGINAL PLATE DATA
公开(公告)号：TW200912522A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097126787
申请日：2008-07-15
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：山添賢治 YAMAZOE, KENJI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/36
摘要：一種原始版資料產生方法,包含:根據表示由照明光形成於投射光學系統的光瞳平面上的光的强度的分佈函數以及用於投射光學系統的光瞳函數,計算二維傳送交叉係數;根據計算的二維傳送交叉係數以及投射光學系統的物件平面上的第一圖案,計算近似的空氣中影像,近似的空氣中影像是藉由以空氣中影像的多個成份中至少之一來近似投射光學系統的影像平面上的空氣中影像而取得的;根據近似的空氣中影像,在物件平面上產生具有第一圖案的進一步圖案以及輔助圖案;以及,產生原始版資料,原始版資料包含圖案,所述圖案是藉由使用產生處理所產生的進一步圖案作為物件平面上的第一圖案而重複地執行計算及產生處理而產生的。
简体摘要：一种原始版数据产生方法,包含:根据表示由照明光形成于投射光学系统的光瞳平面上的光的强度的分布函数以及用于投射光学系统的光瞳函数,计算二维发送交叉系数;根据计算的二维发送交叉系数以及投射光学系统的对象平面上的第一图案,计算近似的空气中影像,近似的空气中影像是借由以空气中影像的多个成份中至少之一来近似投射光学系统的影像平面上的空气中影像而取得的;根据近似的空气中影像,在对象平面上产生具有第一图案的进一步图案以及辅助图案;以及,产生原始版数据,原始版数据报含图案,所述图案是借由使用产生处理所产生的进一步图案作为对象平面上的第一图案而重复地运行计算及产生处理而产生的。

17. 发明专利

TWI307454B 曝光裝置以及其製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 失效
简体标题：曝光设备以及其制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI307454B
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：TW094109796
申请日：2005-03-29
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：是永伸茂 KORENAGA, NOBUSHIGE , 西邑直亮 NISHIMURA, NAOSUKE
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70641 , G03F7/70733
摘要：在基板平台於曝光位置與處理位址之間位移後,曝光的開始或是由於如接界處(abutment)等參考點調準的處理程序的延遲必須沿著光學軸被執行。為解決此問題,本發明之曝光裝置包含有一曝光光學系統以曝光基板至一圖案、一基板處理系統以對位於曝光光學系統以外位置之基板進行預定之處理程序、一基板平台以沿著一垂直於曝光光學系統之光學軸之平面位移以及一量測裝置以在基板平台自基板處理系統下位移至曝光光學系統下時,用以連續地量測基板平台沿著光學軸之位置。
简体摘要：在基板平台于曝光位置与处理位址之间位移后,曝光的开始或是由于如接界处(abutment)等参考点调准的处理进程的延迟必须沿着光学轴被运行。为解决此问题,本发明之曝光设备包含有一曝光光学系统以曝光基板至一图案、一基板处理系统以对位于曝光光学系统以外位置之基板进行预定之处理进程、一基板平台以沿着一垂直于曝光光学系统之光学轴之平面位移以及一量测设备以在基板平台自基板处理系统下位移至曝光光学系统下时,用以连续地量测基板平台沿着光学轴之位置。

18. 发明专利

TW200908222A 反向器製造方法及反向器 INVERTER MANUFACTURING METHOD AND INVERTER 审中-公开
简体标题：反向器制造方法及反向器 INVERTER MANUFACTURING METHOD AND INVERTER
公开(公告)号：TW200908222A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097117638
申请日：2008-05-14
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大藤將人 OFUJI, MASATO , 安部勝美 ABE, KATSUMI , 林享 HAYASHI, RYO , 佐野政史 SANO, MASAFUMI , 雲見日出也 KUMOMI, HIDEYA
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L29/7869 , H01L27/1233
摘要：為了設置能夠容易製造之增强型-空乏型(E/D)反向器,在本發明中,反向器係由氧化物半導體所組成,其中通道層包括選自In(銦)、Ga(鎵)、及Zn(鋅)的至少其中之一元素,並形成在同一基板上,反向器是具有複數薄膜電晶體之E/D反向器,反向器的製造方法之特徵為包含以下步驟:形成第一電晶體和第二電晶體,第一和第二電晶體的通道層之厚度彼此不同;及對第一和第二電晶體之通道層的至少其中之一執行熱處理。
简体摘要：为了设置能够容易制造之增强型-空乏型(E/D)反向器,在本发明中,反向器系由氧化物半导体所组成,其中信道层包括选自In(铟)、Ga(镓)、及Zn(锌)的至少其中之一元素,并形成在同一基板上,反向器是具有复数薄膜晶体管之E/D反向器,反向器的制造方法之特征为包含以下步骤:形成第一晶体管和第二晶体管,第一和第二晶体管的信道层之厚度彼此不同;及对第一和第二晶体管之信道层的至少其中之一运行热处理。

19. 发明专利

TW200908081A 曝光設備及裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
公开(公告)号：TW200908081A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097106087
申请日：2008-02-21
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：間山武彥 MAYAMA, TAKEHIKO
IPC分类号： H01L , G03F , G03B
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70833
摘要：一種用於使基底曝光的曝光設備,包括:投射光學系統,包含光學元件及配置成移動光學元件的驅動單元,投射光學系統配置成將光從原版投射至基底;支撐機構,包含氣體彈簧及配置成經由氣體彈簧以支撐投射光學系統;控制單元,配置成產生用於驅動單元的驅動訊號;及致動器,配置成根據驅動訊號,在與從驅動單元至光學元件的作用力所伴隨的反作用力的方向相反的方向上,施加力量至投射光學系統。
简体摘要：一种用于使基底曝光的曝光设备,包括:投射光学系统,包含光学组件及配置成移动光学组件的驱动单元,投射光学系统配置成将光从原版投射至基底;支撑机构,包含气体弹簧及配置成经由气体弹簧以支撑投射光学系统;控制单元,配置成产生用于驱动单元的驱动信号;及致动器,配置成根据驱动信号,在与从驱动单元至光学组件的作用力所伴随的反作用力的方向相反的方向上,施加力量至投射光学系统。

20. 发明专利

TW200907603A 照明光學設備,中繼光學系統,曝光設備,和裝置製造方法 ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, RELAY OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：照明光学设备,中继光学系统,曝光设备,和设备制造方法 ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, RELAY OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200907603A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097113680
申请日：2008-04-15
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：須田廣美 SUDA, HIROMI
IPC分类号： G03F , G02B , H01L
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70058 , G03F7/70066
摘要：一照明光學設備將由光源所放射之光束引導至照明目標。該照明光學設備包括:一放大光學系統,其設置於該光源及該照明目標之間;及一縮小光學系統,其設置於該放大光學系統及該照明目標之間。形成該放大光學系統,以致一影像平面係設置於該光源及該照明目標之間。
简体摘要：一照明光学设备将由光源所放射之光束引导至照明目标。该照明光学设备包括:一放大光学系统,其设置于该光源及该照明目标之间;及一缩小光学系统,其设置于该放大光学系统及该照明目标之间。形成该放大光学系统,以致一影像平面系设置于该光源及该照明目标之间。

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