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91. 发明专利

TW201627636A 干涉編碼器系統审中-公开
简体标题：干涉编码器系统
公开(公告)号：TW201627636A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104133473
申请日：2015-10-13
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：利森諾珍 , LIESENER, JAN
IPC分类号： G01D5/347 , G01D5/26
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/266
摘要：一種編碼器干涉術系統包含一編碼器光學尺，其配置成接收一量測光束且使該量測光束繞射。該系統尚包含一個或更多光學元件，其佈設且配置成自該編碼器光學尺接收一第一繞射量測光束及一第二繞射量測光束，且使該第一繞射量測光束及該第二繞射量測光束改向朝該編碼器光學尺，使得該第一繞射量測光束及該第二繞射量測光束在於該編碼器光學尺處之一第二繞射後，沿具有一角分離α之非平行光束路徑傳播。該系統尚包含配置成接收該第一繞射量測光束之一第一偵測器，及配置成接收該第二繞射量測光束之一第二偵測器。
简体摘要：一种编码器干涉术系统包含一编码器光学尺，其配置成接收一量测光束且使该量测光束绕射。该系统尚包含一个或更多光学组件，其布设且配置成自该编码器光学尺接收一第一绕射量测光束及一第二绕射量测光束，且使该第一绕射量测光束及该第二绕射量测光束改向朝该编码器光学尺，使得该第一绕射量测光束及该第二绕射量测光束在于该编码器光学尺处之一第二绕射后，沿具有一角分离α之非平行光束路径传播。该系统尚包含配置成接收该第一绕射量测光束之一第一侦测器，及配置成接收该第二绕射量测光束之一第二侦测器。

92. 发明专利

TW201617582A 掃描干涉儀之校正审中-公开
简体标题：扫描干涉仪之校正
公开(公告)号：TW201617582A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104126046
申请日：2015-08-11
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人： DE 古魯特彼德J , DE GROOT, PETER J. , 貝佛里奇傑克 , BEVERAGE, JAKE , 柯隆納迪雷加塞維爾 , COLONNA DE LEGA, XAVIER , 費馬丁 , FAY, MARTIN
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02072 , G01B9/0209 , G02B21/002
摘要：校正掃描干涉術成像系統，包含：佈設該掃描干涉術成像系統，使用具有一窄頻波長光譜之光線結合一干涉物鏡操作；使用該掃描干涉術成像系統，沿不同路徑導引量測光線與參考光線，且將該量測及參考光線重疊於一偵測儀器上，該量測及參考光線具有該窄頻波長光譜；在使用該偵測儀器擷取強度資料之同時，掃描該偵測器處之該量測光線與該參考光線之間的一光徑長度差，該偵測器在一幀率下擷取該強度資料且該掃描係在一掃描速度下實施；決定關於以該擷取強度資料為基礎之該掃描速度的資訊、關於該掃描干涉術成像系統之幾何資訊、及該窄頻波長光譜；及以該關於掃描速度之資訊為基礎來校正該掃描干涉術成像系統。
简体摘要：校正扫描干涉术成像系统，包含：布设该扫描干涉术成像系统，使用具有一窄频波长光谱之光线结合一干涉物镜操作；使用该扫描干涉术成像系统，沿不同路径导引量测光线与参考光线，且将该量测及参考光线重叠于一侦测仪器上，该量测及参考光线具有该窄频波长光谱；在使用该侦测仪器截取强度数据之同时，扫描该侦测器处之该量测光线与该参考光线之间的一光径长度差，该侦测器在一帧率下截取该强度数据且该扫描系在一扫描速度下实施；决定关于以该截取强度数据为基础之该扫描速度的信息、关于该扫描干涉术成像系统之几何信息、及该窄频波长光谱；及以该关于扫描速度之信息为基础来校正该扫描干涉术成像系统。

93. 发明专利

TWI489083B 使用相位移之干涉量測信號的同調掃描干涉量測方法有权
简体标题：使用相位移之干涉量测信号的同调扫描干涉量测方法
公开(公告)号：TWI489083B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW103122025
申请日：2014-06-26
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：古魯特彼得J , GROOT, PETER J. , 迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02081 , G01B11/2441 , G01B2290/70

94. 发明专利

TWI457537B 干涉式外差光學編碼系統有权
简体标题：干涉式外差光学编码系统
公开(公告)号：TWI457537B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW101103218
申请日：2012-02-01
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人： D E 古魯特彼德 , DE GROOT, PETER , 史柯洛德麥可 , SCHROEDER, MICHAEL
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/00
CPC分类号： G01B9/02059 , G01B9/02003 , G01B9/02007 , G01B9/02076 , G01B2290/15 , G01B2290/70 , G01D5/266 , G01D5/347 , G01D5/34723 , G03F7/70775

95. 发明专利

TW201428229A 降低雜訊的位置監控系統审中-公开
简体标题：降低噪声的位置监控系统
公开(公告)号：TW201428229A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102135792
申请日：2013-10-03
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊思禮L , DECK, LESLIE L. , 衛斯里亞歷山德勒D , WESLEY, ALEXANDER D. , 福爾摩斯麥可洛厄爾 , HOLMES, MICHAEL LOWELL , 卡安吉羅斯羅伯M , CARANGELO, ROBERT M. , 利森諾珍 , LIESENER, JAN
IPC分类号： G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02044 , G01B9/02062 , G01B9/02065 , G01B9/0207 , G01B9/02072 , G01B9/02074 , G01B2290/60
摘要：一種干涉技術系統，適用於監控一物體的位置改變，上述干涉技術系統包括一光譜寬頻光源以及具有一干涉儀之一感應器模組，該干涉儀從上述光源沿著分開路徑引導光部分。該系統包括具有一偵測器之一強度監控器，該偵測器用於測量由光源導出之額外光的強度且產稱一監控輸出訊號。該系統包括一電子處理模組，用於跟據上述監控輸出訊號處理一感測器輸出訊號用以解釋該光源之光輸出的強度波動，且判定關於物體位置改變的資訊。上述強度監控器藉由波長函數或光譜相關之強度波動來表示強度波動。
简体摘要：一种干涉技术系统，适用于监控一物体的位置改变，上述干涉技术系统包括一光谱宽带光源以及具有一干涉仪之一感应器模块，该干涉仪从上述光源沿着分开路径引导光部分。该系统包括具有一侦测器之一强度监控器，该侦测器用于测量由光源导出之额外光的强度且产称一监控输出信号。该系统包括一电子处理模块，用于跟据上述监控输出信号处理一传感器输出信号用以解释该光源之光输出的强度波动，且判定关于物体位置改变的信息。上述强度监控器借由波长函数或光谱相关之强度波动来表示强度波动。

96. 发明专利

TWI394930B 取得薄膜結構資訊之低同調干涉信號的分析方法及裝置有权
简体标题：取得薄膜结构信息之低同调干涉信号的分析方法及设备
公开(公告)号：TWI394930B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW095117603
申请日：2006-05-18
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：彼得J. DE 古魯特 , DE GROOT, PETER J.
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02084 , G01B9/02087 , G01B9/02088 , G01B9/0209 , G01N21/8422

97. 发明专利

TWI358528B 干涉量測系統及方法 INTERFEROMETRY SYSTEMS AND METHODS 失效
简体标题：干涉量测系统及方法 INTERFEROMETRY SYSTEMS AND METHODS
公开(公告)号：TWI358528B
公开(公告)日：2012-02-21
申请号：TW094108007
申请日：2005-03-16
申请人：賽格股份有限公司
发明人：彼得J DE 古魯特
IPC分类号： G01B
摘要：本發明之第一特點在於裝置中包括了一干涉儀，此干涉儀，包括一主空腔與一輔助參考表面，主空腔包括一局部反射表面，局部反射表面是用以定義一主要參考表面與一測試表面，干涉儀是設計用以將輸入電磁輻射之一主要部分導引至主空腔、對於輸入電磁輻射之一輔助部分進行導引下而可經由輔助參考表面所反射，其中，於主空腔中之主要部分之一第一部分是經由主要參考表面所反射，於主空腔中之主要部分之一第二部分是通過主要參考表面且由測試表面所反射，干涉儀更設計用以將測試表面、主要參考表面、輔助參考表面所反射之電磁輻射導引至一多元件偵測器，藉此與另一電磁輻射導引之間產生干涉而形成了一干涉圖案。
简体摘要：本发明之第一特点在于设备中包括了一干涉仪，此干涉仪，包括一主空腔与一辅助参考表面，主空腔包括一局部反射表面，局部反射表面是用以定义一主要参考表面与一测试表面，干涉仪是设计用以将输入电磁辐射之一主要部分导引至主空腔、对于输入电磁辐射之一辅助部分进行导引下而可经由辅助参考表面所反射，其中，于主空腔中之主要部分之一第一部分是经由主要参考表面所反射，于主空腔中之主要部分之一第二部分是通过主要参考表面且由测试表面所反射，干涉仪更设计用以将测试表面、主要参考表面、辅助参考表面所反射之电磁辐射导引至一多组件侦测器，借此与另一电磁辐射导引之间产生干涉而形成了一干涉图案。

98. 发明专利

TW201100751A 等路徑干涉儀 EQUAL-PATH INTERFEROMETER 审中-公开
简体标题：等路径干涉仪 EQUAL-PATH INTERFEROMETER
公开(公告)号：TW201100751A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099119849
申请日：2010-06-18
申请人：賽格股份有限公司
发明人： D E 古魯特彼德J , 迪克萊思禮L , 貝根詹姆士F , 克里歐保羅斯克里斯
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02058 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02059 , G01B9/0209 , G02B21/14
摘要：提供一種使用於干涉儀中的光學總成。光學總成包括第一及第二部分反射表面,沿著光軸被定位且對光軸被定向於不同的非法線角。第二部分反射表面被配置以接收沿著光學路徑透射通過第一部分反射表面的光,將部分的接收光傳送至測試物體以定義干涉儀的測量光且將另一部分的接收光朝向第一部分反射表面反射回去以定義干涉儀的參考光。參考光在第二及第一部分反射表面間行進至少一次來回的路徑。
简体摘要：提供一种使用于干涉仪中的光学总成。光学总成包括第一及第二部分反射表面,沿着光轴被定位且对光轴被定向于不同的非法线角。第二部分反射表面被配置以接收沿着光学路径透射通过第一部分反射表面的光,将部分的接收光发送至测试物体以定义干涉仪的测量光且将另一部分的接收光朝向第一部分反射表面反射回去以定义干涉仪的参考光。参考光在第二及第一部分反射表面间行进至少一次来回的路径。

99. 发明专利

TWI331210B 表面干涉分析之方法與系統以及相關之應用 METHODS AND SYSTEMS FOR INTERFEROMETRIC ANALYSIS OF SURFACES AND RELATED APPLICATIONS 有权
简体标题：表面干涉分析之方法与系统以及相关之应用 METHODS AND SYSTEMS FOR INTERFEROMETRIC ANALYSIS OF SURFACES AND RELATED APPLICATIONS
公开(公告)号：TWI331210B
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW093127841
申请日：2004-09-15
申请人：賽格股份有限公司
发明人：彼得J DE 古魯特
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G03F7/70491 , G01B9/02019 , G01B9/02022 , G01B9/02084 , G01B9/02087 , G01B9/0209 , G01B11/0675 , G01B2290/30 , G01B2290/70 , G03F7/70608 , G03F7/70641 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , G03F9/7049 , G03F9/7088
摘要：一種用以決定一物件之空間性質之方法，此方法包括了經由一量測物件以得到一低同調干涉信號之獲得步驟，此量測物件包括二或二以上之界面。經掃描之低同調干涉信號包括了二或二以上之重疊干涉信號，各重疊干涉信號是源自於個別界面。基於低同調干涉信號可知，至少一界面之一空間性質可被決定。於部分實施例中，決定方法是根據低同調干涉信號之一子集而獲得，而非根據所有的信號。另一方面，決定方法是可根據一模版而獲得，此模版是用以表示獲得低同調干涉信號之干涉儀的儀器響應。
简体摘要：一种用以决定一对象之空间性质之方法，此方法包括了经由一量测对象以得到一低同调干涉信号之获得步骤，此量测对象包括二或二以上之界面。经扫描之低同调干涉信号包括了二或二以上之重叠干涉信号，各重叠干涉信号是源自于个别界面。基于低同调干涉信号可知，至少一界面之一空间性质可被决定。于部分实施例中，决定方法是根据低同调干涉信号之一子集而获得，而非根据所有的信号。另一方面，决定方法是可根据一模版而获得，此模版是用以表示获得低同调干涉信号之干涉仪的仪器响应。

100. 发明专利

TW200940948A 利用掃瞄干涉儀分析表面構造之方法與裝置 ANALYZING SURFACE STRUCTURE USING SCANNING INTERFEROMETRY 审中-公开
简体标题：利用扫瞄干涉仪分析表面构造之方法与设备 ANALYZING SURFACE STRUCTURE USING SCANNING INTERFEROMETRY
公开(公告)号：TW200940948A
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：TW097148506
申请日：2008-12-12
申请人：賽格股份有限公司
发明人：彼得J DE 古魯特 , 塞維爾柯隆納迪雷加
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02084 , G01B9/02057 , G01B9/02088 , G01B9/0209 , G01B11/06 , G01B11/0675 , G01B11/2441 , G01N21/45 , G01N21/8422 , G01N21/9501 , G01N21/95607
摘要：一種分析表面構造之方法，包括比較來自測試物的一個位置所得的掃瞄干涉量測信號與對應於不同模型參數的每一個多重模型信號，藉以模型化測試物，其中對於每一個模型信號，比較的方法包括計算掃瞄干涉量測信號與模型信號之間的相關函數來辨明干涉量測信號與模型信號之間的表面高度落差，與根據辨明的表面高度落差來計算高度落差補償價值，高度落差補償價值代表對於一般表面高度之掃瞄干涉量測信號與模型信號之間的相似度。本方法更包括根據對於不同模型信號的上述個別價值，決定測試物於該位置之測試物參數。
简体摘要：一种分析表面构造之方法，包括比较来自测试物的一个位置所得的扫瞄干涉量测信号与对应于不同模型参数的每一个多重模型信号，借以模型化测试物，其中对于每一个模型信号，比较的方法包括计算扫瞄干涉量测信号与模型信号之间的相关函数来辨明干涉量测信号与模型信号之间的表面高度落差，与根据辨明的表面高度落差来计算高度落差补偿价值，高度落差补偿价值代表对于一般表面高度之扫瞄干涉量测信号与模型信号之间的相似度。本方法更包括根据对于不同模型信号的上述个别价值，决定测试物于该位置之测试物参数。

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