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91. 发明专利

TW200523187A 光致變色基板容器 PHOTOCHROMIC SUBSTRATE CONTAINER 审中-公开
简体标题：光致变色基板容器 PHOTOCHROMIC SUBSTRATE CONTAINER
公开(公告)号：TW200523187A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW093132150
申请日：2004-10-22
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：約翰伯恩斯 JOHN BURNS , 馬修富勒 MATTHEW A. FULLER , 傑佛里金 JEFFERY J. KING , 馬丁福布斯 MARTIN L. FORBES , 馬克史密斯 MARK V. SMITH
IPC分类号： B65D
CPC分类号： G03F1/66
摘要：一半導體晶圓、基板或線網儲存或裝運設施，其包含一對於非期望之電磁射線曝照之光致變色指示器。本發明包含將併入光致變色材料於塑膠之中，至少用以製造半導體晶圓、磁碟、線網裝運或儲存容器之一部分。容器可以一透明窗戶之形式或是容器較大之部分包含光致變色材料，光致變色材料可因應所選定光線波長範圍之曝照狀況而改變顏色或暗度。
简体摘要：一半导体晶圆、基板或线网存储或装运设施，其包含一对于非期望之电磁射线曝照之光致变色指示器。本发明包含将并入光致变色材料于塑胶之中，至少用以制造半导体晶圆、磁盘、线网装运或存储容器之一部分。容器可以一透明窗户之形式或是容器较大之部分包含光致变色材料，光致变色材料可因应所选定光线波长范围之曝照状况而改变颜色或暗度。

92. 发明专利

TW200508024A 用於高壓液體之超疏水性表面 ULTRAPHOBIC SURFACE FOR HIGH PRESSURE LIQUIDS 审中-公开
简体标题：用于高压液体之超疏水性表面 ULTRAPHOBIC SURFACE FOR HIGH PRESSURE LIQUIDS
公开(公告)号：TW200508024A
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW093110486
申请日：2004-04-15
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：查爾斯艾克斯崔恩 CHARLES W. EXTRAND
IPC分类号： B32B
CPC分类号： B08B17/06 , B01L3/5027 , B01L3/502707 , B01L9/52 , B01L9/527 , B01L2300/166 , B08B17/065 , B65G2201/0258 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , F15D1/065 , H01L21/673 , Y10S428/913 , Y10T428/24149 , Y10T428/24165 , Y10T428/24182 , Y10T428/24479 , Y10T428/31
摘要：本發明揭示一種持久的超疏水性表面，其在液體壓力為一大氣壓力或更大時可保有超疏水性。此表面通常包括其上設置有多重規則突起形狀之微米或奈米級粗糙面之一基板部分，藉以使得表面具有一預設接觸線密度，其係以接觸線之長度(米)除以表面積(平方米)而得，且等於或大於依據下列方程式而得之一接觸線密度值「ΛL」：093110486-p01.bmp其中，γ係接觸該表面之一液體之表面張力(單位為牛頓／米)、θa,0為實驗測得之液體在粗糙面上之實質上前進接觸角度(單位為度)以及ω為粗糙面仰角(單位為度)。
简体摘要：本发明揭示一种持久的超疏水性表面，其在液体压力为一大气压力或更大时可保有超疏水性。此表面通常包括其上设置有多重守则突起形状之微米或奈米级粗糙面之一基板部分，借以使得表面具有一默认接触线密度，其系以接触线之长度(米)除以表面积(平方米)而得，且等于或大于依据下列方进程而得之一接触线密度值“ΛL”：093110486-p01.bmp其中，γ系接触该表面之一液体之表面张力(单位为牛顿／米)、θa,0为实验测得之液体在粗糙面上之实质上前进接触角度(单位为度)以及ω为粗糙面仰角(单位为度)。

93. 发明专利

TW200415327A 鼓狀容器用之排氣裝置 DRUM VENT 审中-公开
简体标题：鼓状容器用之排气设备 DRUM VENT
公开(公告)号：TW200415327A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092130200
申请日：2003-10-30
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：戴爾曼凱 DALE MAENKE
IPC分类号： F16T
CPC分类号： B65D7/045 , B65D51/1644 , B65D85/84
摘要：一種鼓狀容器用之排氣裝置。排氣裝置包括一本體，其具有一對相對側，並界定複數個排氣通道。排氣通道延伸穿過本體，每一排氣通道在該對相對側之每一者處具有一開口。排氣通道被間隔開來並環繞本體之一中央部而配置。一薄膜結構之配置位置係可覆蓋本體之該對相對側之其中一者上的排氣通道之開口。薄膜結構係密封地固定至本體部之一密封帶中，密封帶係圍繞排氣通道之開口。薄膜結構之一部分係進一步固定至本體之中央部。一保護結構可附接至本體，並位於薄膜結構上方。
简体摘要：一种鼓状容器用之排气设备。排气设备包括一本体，其具有一对相对侧，并界定复数个排气信道。排气信道延伸穿过本体，每一排气信道在该对相对侧之每一者处具有一开口。排气信道被间隔开来并环绕本体之一中央部而配置。一薄膜结构之配置位置系可覆盖本体之该对相对侧之其中一者上的排气信道之开口。薄膜结构系密封地固定至本体部之一密封带中，密封带系围绕排气信道之开口。薄膜结构之一部分系进一步固定至本体之中央部。一保护结构可附接至本体，并位于薄膜结构上方。

94. 发明专利

TW200415084A 供裝置處理系統用之高溫及高强度之可染色材料 HIGH TEMPERATURE, HIGH STRENGTH, COLORABLE MATERIALS FOR DEVICE PROCESSING SYSTEMS 审中-公开
简体标题：供设备处理系统用之高温及高强度之可染色材料 HIGH TEMPERATURE, HIGH STRENGTH, COLORABLE MATERIALS FOR DEVICE PROCESSING SYSTEMS
公开(公告)号：TW200415084A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092128077
申请日：2003-10-09
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：查爾斯艾克斯崔恩 CHARLES W EXTRAND , 羅伯特布哈 ROBERT BUCHA
IPC分类号： B65D
CPC分类号： H01L21/6733 , H01L21/67336 , Y10T428/13 , Y10T428/1352
摘要：本發明揭示用於處理電子組件之靜電放電防護裝置，例如，矩陣盤(matrixtrays)、晶片盤、及晶圓載具，其係由高溫、高強度聚合物及至少一金屬氧化物，及視需要與至少一顏料之混合物所製成。使用金屬氧化物作為導電性材料有利於製造淺色靜電放電防護材料。此種材料可利用顏料染色，而不會使材料性能規格受損。
简体摘要：本发明揭示用于处理电子组件之静电放电防护设备，例如，矩阵盘(matrixtrays)、芯片盘、及晶圆载具，其系由高温、高强度聚合物及至少一金属氧化物，及视需要与至少一颜料之混合物所制成。使用金属氧化物作为导电性材料有利于制造浅色静电放电防护材料。此种材料可利用颜料染色，而不会使材料性能规格受损。

95. 发明专利

TW200402763A 光罩載具 RETICLE CARRIER 审中-公开
简体标题：光罩载具 RETICLE CARRIER
公开(公告)号：TW200402763A
公开(公告)日：2004-02-16
申请号：TW092118184
申请日：2003-07-03
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：布萊恩懷斯曼 BRIAN WISEMAN , 賈斯丁史特萊克 JUSTIN STRIKE
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70741 , G03B21/62 , G03F1/66 , G03F7/70983
摘要：一種光罩載具，使用於光微影半導體製程，具有一基部與一蓋部。基部具有複數個光罩支架及複數個光罩定位部件。蓋部係用於緊密配合基部，並具有一內表面，其向內突設有複數個相間隔之光罩限制器及一對光罩定位凸片，各光罩定位凸片具有一斜角邊緣部，當蓋部與基部配合時，可使斜角邊緣部迫使光罩支架上之一光罩與光罩限制器嚙合。
简体摘要：一种光罩载具，使用于光微影半导体制程，具有一基部与一盖部。基部具有复数个光罩支架及复数个光罩定位部件。盖部系用于紧密配合基部，并具有一内表面，其向内突设有复数个相间隔之光罩限制器及一对光罩定位凸片，各光罩定位凸片具有一斜角边缘部，当盖部与基部配合时，可使斜角边缘部迫使光罩支架上之一光罩与光罩限制器啮合。

96. 发明专利

TW200302198A 晶圓載具門及二位置彈簧加載鎖存機構 WAFERCARRIER DOOR AND TWO-POSITION SPRING BIASED LATCHING MECHANISM 审中-公开
简体标题：晶圆载具门及二位置弹簧加载锁存机构 WAFERCARRIER DOOR AND TWO-POSITION SPRING BIASED LATCHING MECHANISM
公开(公告)号：TW200302198A
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW092100788
申请日：2003-01-15
申请人：安堤格里斯公司 ENTEGRIS, INC.
发明人：蕭恩埃岡姆 SHAWN EGGUM
IPC分类号： B65D , H01L
CPC分类号： H01L21/67373 , Y10T292/0908
摘要：一種晶圓容器，具有設有至少一鎖存機構之門，其中鎖存機構具有彈簧構件，該彈簧構件在較佳為相對應於鎖存開啟與鎖存關閉狀況之一或更多有效位置處固持鎖存機構。在一較佳具體例中，彈簧構件具有超過中心狀況，推進鎖存機構朝向有效位置，因而阻止鎖存機構之非故意的啟動。此外，在較佳具體例中，鎖存機構在鎖存開啟或鎖存關閉狀況處具有軟性止塊，將鎖存機構之突然地快速進入定位情況減至最少。較佳具體例應用具有至少一交點的仲長堅硬塑膠構件之被配置為凸輪構件的可旋轉構件，形成一塑膠彈簧。彈簧係樞轉地被裝配在可旋轉構件上，且樞轉地被裝配至門結構。
简体摘要：一种晶圆容器，具有设有至少一锁存机构之门，其中锁存机构具有弹簧构件，该弹簧构件在较佳为相对应于锁存打开与锁存关闭状况之一或更多有效位置处固持锁存机构。在一较佳具体例中，弹簧构件具有超过中心状况，推进锁存机构朝向有效位置，因而阻止锁存机构之非故意的启动。此外，在较佳具体例中，锁存机构在锁存打开或锁存关闭状况处具有软性止块，将锁存机构之突然地快速进入定位情况减至最少。较佳具体例应用具有至少一交点的仲长坚硬塑胶构件之被配置为凸轮构件的可旋转构件，形成一塑胶弹簧。弹簧系枢转地被装配在可旋转构件上，且枢转地被装配至门结构。

97. 发明专利

TW200301009A 具有靜電排放薄膜之半導體組件處理裝置 SEMICONDUCTOR COMPONENT HANDLING DEVICE HAVING AN ELECTROSTATIC DISSIPATING FILM 审中-公开
简体标题：具有静电排放薄膜之半导体组件处理设备 SEMICONDUCTOR COMPONENT HANDLING DEVICE HAVING AN ELECTROSTATIC DISSIPATING FILM
公开(公告)号：TW200301009A
公开(公告)日：2003-06-16
申请号：TW091134460
申请日：2002-11-27
申请人：安堤格里斯公司
发明人：桑吉夫 M 貝特 SANJIV M. BHATT , 蕭恩 D 埃岡姆 SHAWN D. EGGUM
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67323 , H01L21/6733 , H01L21/67366 , H01L21/67396
摘要：本發明一般係關於在半導體製程工業中所利用之處理器、運輸器、載具、盤與類似裝置之成形製程中，包括薄的保護性聚合物薄膜，譬如填充碳PEEK(聚芳醚酮)用的系統與方法。將預定尺寸與形狀之傳導薄膜沿著模穴中的成形表面而選擇性地放置，以用來對齊可塑性材料的希望目標表面。該成形製程導致該薄膜的表面接合到可塑性材料的接觸表面，以便將該薄膜永久地黏附到可塑性材料。結果，相容性傳導聚合物則可選擇性地僅僅接合到需要ESD的那些目標表面。
简体摘要：本发明一般系关于在半导体制程工业中所利用之处理器、运输器、载具、盘与类似设备之成形制程中，包括薄的保护性聚合物薄膜，譬如填充碳PEEK(聚芳醚酮)用的系统与方法。将预定尺寸与形状之传导薄膜沿着模穴中的成形表面而选择性地放置，以用来对齐可塑性材料的希望目标表面。该成形制程导致该薄膜的表面接合到可塑性材料的接触表面，以便将该薄膜永久地黏附到可塑性材料。结果，兼容性传导聚合物则可选择性地仅仅接合到需要ESD的那些目标表面。

98. 发明专利

TW200300591A 組合式動態耦合件 Composite kinematic coupling 无效
简体标题：组合式动态耦合件 Composite kinematic coupling
公开(公告)号：TW200300591A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091133362
申请日：2002-11-14
申请人：安堤格里斯公司
发明人：桑吉夫 M 貝特 SANJIV M. BHATT , 蕭恩 D 埃岡姆 SHAWN D. EGGUM
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B29C45/14 , B29C45/14311 , B29C45/16 , B29C45/1657 , B29K2995/0087 , B29L2031/16 , G03F7/70691 , G03F7/708 , H01L21/67379 , H01L21/67775 , H01L21/68
摘要：本發明之動態耦合件可包含一含有一第一材料的晶圓搬運器或輸送底板。該晶圓搬運器或輸送底板具有一包含一摩擦係數較該第一材料為低的第二材料之接觸元件。該接觸元件可設於該底板上或直接設於一晶圓搬運器的底部，以作為重疊注塑、扣接、打標樁、超音波焊接及接著處理的一部份，且也可另外利用對個別的元件以機械方式連結加以固定。此製造方法亦可包括經由上述所列的一或多個過程，提供一包含一第一材料的接觸元件於一包含一第二材料的搬運器上，其中，該第二材料具有高於該第一材料的摩擦係數。
简体摘要：本发明之动态耦合件可包含一含有一第一材料的晶圆搬运器或输送底板。该晶圆搬运器或输送底板具有一包含一摩擦系数较该第一材料为低的第二材料之接触组件。该接触组件可设于该底板上或直接设于一晶圆搬运器的底部，以作为重叠注塑、扣接、打标桩、超音波焊接及接着处理的一部份，且也可另外利用对个别的组件以机械方式链接加以固定。此制造方法亦可包括经由上述所列的一或多个过程，提供一包含一第一材料的接触组件于一包含一第二材料的搬运器上，其中，该第二材料具有高于该第一材料的摩擦系数。

99. 外观设计

TWD178279S 扳手之部分有权
公开(公告)号：TWD178279S
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW104303487
申请日：2015-06-30
申请人：安堤格里斯公司 , ENTEGRIS, INC.
设计人：雷斯約翰A , LEYS, JOHN A. , 史奇萊雀麥克 , SCHLEICHER, MICHAEL , 麥肯利傑佛瑞J , MCKENZIE, JEFFREY J.

100. 发明专利

TW201610104A 金屬及介電相容犠牲抗反射塗層清洗及移除組成物审中-公开
简体标题：金属及介电兼容犠牲抗反射涂层清洗及移除组成物
公开(公告)号：TW201610104A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104133732
申请日：2006-06-07
申请人：安堤格里斯公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：拉斯梅麗莎 , RATH, MELISSA K. , 伯恩哈德大衛 , BERNHARD, DAVID D. , 明塞克大衛 , MINSEK, DAVID W. , 鮑姆湯瑪斯 , BAUM, THOMAS H.
IPC分类号： C09K13/08 , G03F7/42 , H01L21/306
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D7/265 , C11D7/28 , C11D7/34 , C11D7/50 , G03F7/423
摘要：本發明係關於一種用於自具有犧牲抗反射塗層(SARC)之基板上將該材料移除的液體移除組成物及方法。此液體移除組成物包含至少一含氟化物之化合物、至少一有機溶劑、視需要之水、及視需要之至少一鉗合劑。此組成物於積體電路之製造中達成SARC材料之至少部分移除且對基板上之金屬物種(諸如鋁、銅及鈷合金)有最少蝕刻，且不會損壞於半導體結構中所使用之低k介電材料。
简体摘要：本发明系关于一种用于自具有牺牲抗反射涂层(SARC)之基板上将该材料移除的液体移除组成物及方法。此液体移除组成物包含至少一含氟化物之化合物、至少一有机溶剂、视需要之水、及视需要之至少一钳合剂。此组成物于集成电路之制造中达成SARC材料之至少部分移除且对基板上之金属物种(诸如铝、铜及钴合金)有最少蚀刻，且不会损坏于半导体结构中所使用之低k介电材料。

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