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1. 发明专利

TWI586900B 電漿處理系統中用以供應處理氣體之共用氣體面板、設備、及方法有权
简体标题：等离子处理系统中用以供应处理气体之共享气体皮肤、设备、及方法
公开(公告)号：TWI586900B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW102110938
申请日：2013-03-27
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL
IPC分类号： F15B13/00
CPC分类号： B01F3/026 , Y10T137/0318 , Y10T137/87249 , Y10T137/87281 , Y10T137/87652 , Y10T137/87885

2. 发明专利

TW201634718A 具有可調式氣流控制用氣體分離器之氣體供應輸送裝置审中-公开
简体标题：具有可调式气流控制用气体分离器之气体供应输送设备
公开(公告)号：TW201634718A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104134151
申请日：2015-10-19
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 雪瑞夫依柏 , SHAREEF, IQBAL , 撒姆拉客安東尼 , ZEMLOCK, ANTHONY , 白斯萊恩 , BISE, RYAN , 卡根蘭那森 , KUGLAND, NATHAN
IPC分类号： C23C14/22 , C23C16/455 , C23C16/50 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C14/22 , C23C16/45544 , C23C16/45561 , C23C16/45565 , C23C16/50 , C23C16/52 , H01J37/32009 , H01J37/32449 , H01L21/31116 , H01L21/67069
摘要：使用透過至少第一、第二、及第三氣體注入區而引進的氣體來處理半導體基板用之電漿處理系統的氣體供應輸送裝置包含處理氣體供應入口以及調節氣體入口。混合集流腔包含與處理氣體供應器流體連通的氣體棒以及與調節氣體供應器流體連通的調節氣體棒。第一氣體出口將氣體輸送到第一氣體注入區，第二氣體出口將氣體輸送到第二氣體注入區，且第三氣體出口將氣體輸送到第三氣體注入區。氣體分離器與該混合集流腔流體連通，並包括第一閥裝置，該第一閥裝置將從該混合集流腔離開的混合氣體分成被供應到該第一氣體出口的第一混合氣體，以及被供應到該第二及/或第三氣體出口的第二混合氣體。
简体摘要：使用透过至少第一、第二、及第三气体注入区而引进的气体来处理半导体基板用之等离子处理系统的气体供应输送设备包含处理气体供应入口以及调节气体入口。混合集流腔包含与处理气体供应器流体连通的气体棒以及与调节气体供应器流体连通的调节气体棒。第一气体出口将气体输送到第一气体注入区，第二气体出口将气体输送到第二气体注入区，且第三气体出口将气体输送到第三气体注入区。气体分离器与该混合集流腔流体连通，并包括第一阀设备，该第一阀设备将从该混合集流腔离开的混合气体分成被供应到该第一气体出口的第一混合气体，以及被供应到该第二及/或第三气体出口的第二混合气体。

3. 发明专利

TWI693638B 獨立於配置的氣體輸送系統有权
简体标题：独立于配置的气体输送系统
公开(公告)号：TWI693638B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW104111078
申请日：2015-04-07
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL
IPC分类号： H01L21/3065 , F17D1/075

4. 发明专利

TWI590289B 用以提供電漿處理系統中之處理氣體的設備有权
简体标题：用以提供等离子处理系统中之处理气体的设备
公开(公告)号：TWI590289B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW102110940
申请日：2013-03-27
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL , 史派洛普洛斯伊凡傑洛斯 , SPYROPOULOS, EVANGELOS , 塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01J37/32899

5. 发明专利

TWI481792B 通用流體流動接頭、其形成方法及氣體傳送設備有权
简体标题：通用流体流动接头、其形成方法及气体发送设备
公开(公告)号：TWI481792B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW097138872
申请日：2008-10-09
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK
IPC分类号： F16L39/00 , H01L21/3065
CPC分类号： F16L41/03 , Y10T137/0402 , Y10T137/85938 , Y10T137/87885

6. 发明专利

TWI460371B 短蝕刻配方用之氣體輸送延遲解決方案有权
简体标题：短蚀刻配方用之气体输送延迟解决方案
公开(公告)号：TWI460371B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW097151017
申请日：2008-12-26
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL , 塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 撒姆拉客湯尼 , ZEMLOCK, TONY
IPC分类号： F17D1/04 , G05D7/00 , G05D7/06 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67069 , H01L21/67253 , Y10T137/0318 , Y10T137/877 , Y10T137/87885

7. 发明专利

TWI589726B 使用多區域氣體進料器之電漿處理室中的共用氣體面板有权
简体标题：使用多区域气体进料器之等离子处理室中的共享气体皮肤
公开(公告)号：TWI589726B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW102110943
申请日：2013-03-27
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL , 艾嘉沃皮佑許 , AGARWAL, PIYUSH , 史派洛普洛斯伊凡傑洛斯 , SPYROPOULOS, EVANGELOS , 塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK
IPC分类号： C23C16/455 , F17D1/02 , H01L21/3065
CPC分类号： F17D1/00 , F17C1/00 , F17C2270/0518 , Y10T137/0318 , Y10T137/87249

8. 发明专利

TW201608635A 獨立於配置的氣體輸送系統审中-公开
简体标题：独立于配置的气体输送系统
公开(公告)号：TW201608635A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104111078
申请日：2015-04-07
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL
IPC分类号： H01L21/3065 , F17D1/075
CPC分类号： H01J37/3244 , B01F3/02 , B01F5/048 , Y10T29/49826
摘要：一種用以供應處理氣體至電漿處理設備之處理腔室的氣體輸送設備，包含：在其表面上具有複數氣體入口的混合歧管，該等氣體入口係自混合歧管之中央混合點平均地分隔；及可選的複數氣體供應源，與混合歧管之表面上的複數氣體入口連通。使用如此之氣體輸送設備、用以將氣體供應至電漿處理設備之處理腔室的方法涉及：設置與混合歧管之表面上的複數氣體入口連通的複數氣體供應源；使至少兩不同氣體從複數氣體供應源流至混合歧管，以產生第一混合氣體；及將第一混合氣體供應至耦接於混合歧管之下游的電漿處理腔室。
简体摘要：一种用以供应处理气体至等离子处理设备之处理腔室的气体输送设备，包含：在其表面上具有复数气体入口的混合歧管，该等气体入口系自混合歧管之中央混合点平均地分隔；及可选的复数气体供应源，与混合歧管之表面上的复数气体入口连通。使用如此之气体输送设备、用以将气体供应至等离子处理设备之处理腔室的方法涉及：设置与混合歧管之表面上的复数气体入口连通的复数气体供应源；使至少两不同气体从复数气体供应源流至混合歧管，以产生第一混合气体；及将第一混合气体供应至耦接于混合歧管之下游的等离子处理腔室。

9. 发明专利

TW201533377A 群集質量流裝置及將其併入之複式線路質量流裝置审中-公开
简体标题：群集质量流设备及将其并入之复式线路质量流设备
公开(公告)号：TW201533377A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103131346
申请日：2014-09-11
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL
IPC分类号： F17D3/01 , F17D1/04
CPC分类号： G05D7/0641 , F16K27/003 , G05D7/0652 , Y10T137/2499
摘要：本發明提供用以將二或更多流體受控制地輸送至製程腔室中的複式線路質量流裝置。複式線路質量流裝置包含群集質量流控制歧管及複式入口歧管。群集質量流控制歧管包含控制器、氣體歧管裝設塊體、及二或更多氣體流控制站。複式入口歧管包含複式入口裝設塊體、及裝設於該複式入口裝設塊體上的二或更多隔離閥。
简体摘要：本发明提供用以将二或更多流体受控制地输送至制程腔室中的复式线路质量流设备。复式线路质量流设备包含群集质量流控制歧管及复式入口歧管。群集质量流控制歧管包含控制器、气体歧管装设块体、及二或更多气体流控制站。复式入口歧管包含复式入口装设块体、及装设于该复式入口装设块体上的二或更多隔离阀。

10. 发明专利

TW201346974A 用以提供電漿處理系統中之處理氣體的方法及設備审中-公开
简体标题：用以提供等离子处理系统中之处理气体的方法及设备
公开(公告)号：TW201346974A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102110940
申请日：2013-03-27
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL , 史派洛普洛斯伊凡傑洛斯 , SPYROPOULOS, EVANGELOS , 塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01J37/32899
摘要：本發明提出用以提供電漿處理系統中之氣體的方法及設備，此電漿處理系統採用單線輸送的方法，其中一個調節器係由數個質量流量控制器共享。在一或更多實施例中，提供累加器，以氣體連接的方式與共享歧管耦接，以減少壓力尖波及驟降。可為可更換或不可更換之過濾器與累加器分開，在一或更多實施例中與累加器結合。
简体摘要：本发明提出用以提供等离子处理系统中之气体的方法及设备，此等离子处理系统采用单线输送的方法，其中一个调节器系由数个质量流量控制器共享。在一或更多实施例中，提供累加器，以气体连接的方式与共享歧管耦接，以减少压力尖波及骤降。可为可更换或不可更换之过滤器与累加器分开，在一或更多实施例中与累加器结合。

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