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1. 发明专利

TW202004119A 位移測量裝置以及位移測量方法审中-公开
简体标题：位移测量设备以及位移测量方法
公开(公告)号：TW202004119A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116959
申请日：2019-05-16
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：小川力 , OGAWA, RIKI , 長浜博幸 , NAGAHAMA, HIROYUKI , 齊藤路世 , SAITO, MICHIYO
IPC分类号： G01B11/00
摘要：本發明是有關於一種位移測量裝置以及位移測量方法。本發明的一形態的位移測量裝置包括：載台，配置測量對象的對象物且能夠移動；第一光源，產生從傾斜方向入射至對象物面的第一光；第一位置檢測感測器，接收由對象物面反射的第一光的第一反射光，並對第一反射光的位置進行檢測；第二光源，以沿著第一反射光的光路逆向前進的方式，產生從傾斜方向入射至對象物面的第二光；第二位置檢測感測器，以沿著第一光的光路逆向前進的方式，接收由對象物面反射的第二光的第二反射光，並對第二反射光的位置進行檢測；光路移動機構，使第一光的光路、第一反射光的光路、第二光的光路、及第二反射光的光路中的至少一個光路移動；控制電路，在藉由使第一光及第二光與載台相對地移動，而使第一光及第二光在規定的高度位置橫越過反射率不同的兩個區域的邊界的情況下，控制光路移動機構，以使從第一位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的總和與從第二位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的總和同時改變；以及位移測定電路，運算出基於從第一位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的對象物面的第一位移、和基於從第二位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的對象物面的第二位移的平均值，並將其測定為對象物面的位移。
简体摘要：本发明是有关于一种位移测量设备以及位移测量方法。本发明的一形态的位移测量设备包括：载台，配置测量对象的对象物且能够移动；第一光源，产生从倾斜方向入射至对象物面的第一光；第一位置检测传感器，接收由对象物面反射的第一光的第一反射光，并对第一反射光的位置进行检测；第二光源，以沿着第一反射光的光路逆向前进的方式，产生从倾斜方向入射至对象物面的第二光；第二位置检测传感器，以沿着第一光的光路逆向前进的方式，接收由对象物面反射的第二光的第二反射光，并对第二反射光的位置进行检测；光路移动机构，使第一光的光路、第一反射光的光路、第二光的光路、及第二反射光的光路中的至少一个光路移动；控制电路，在借由使第一光及第二光与载台相对地移动，而使第一光及第二光在规定的高度位置横越过反射率不同的两个区域的边界的情况下，控制光路移动机构，以使从第一位置检测传感器输出的多个强度信号的总和与从第二位置检测传感器输出的多个强度信号的总和同时改变；以及位移测定电路，运算出基于从第一位置检测传感器输出的多个强度信号的对象物面的第一位移、和基于从第二位置检测传感器输出的多个强度信号的对象物面的第二位移的平均值，并将其测定为对象物面的位移。

2. 发明专利

TW201538966A 焦點位置調整方法及檢查方法审中-公开
简体标题：焦点位置调整方法及检查方法
公开(公告)号：TW201538966A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW103146318
申请日：2014-12-30
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：長浜博幸 , NAGAHAMA, HIROYUKI , 小川力 , OGAWA, RIKI
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/06113
摘要：提供可以防止由於繞射光導致焦點位置調整精度下降之情形的焦點位置調整方法。再者，提供防止由於繞射光導致焦點位置調整精度下降，依此可以進行正確檢查的檢查方法。對試料(9)照明來自光源(1)之光，並以感測器(26)觀察照明光學系統(a)之光瞳的光強度分布。由於焦點位置之變化所導致的繞射光之影響不會成為問題之時，使用光檢測焦點位置。另外，於以感測器(26)觀察照明光學系統(a)之光瞳之光強度分布之結果，於射入至感測器(27、28、29、30)之繞射光之光量由於焦點位置而產生變化之時，使用來自光源(2)之光而檢測出焦點位置。之後，以檢測出之焦點位置位於試料(9)之圖案面之方式，調整平台(31)之Z方向之位置。
简体摘要：提供可以防止由于绕射光导致焦点位置调整精度下降之情形的焦点位置调整方法。再者，提供防止由于绕射光导致焦点位置调整精度下降，依此可以进行正确检查的检查方法。对试料(9)照明来自光源(1)之光，并以传感器(26)观察照明光学系统(a)之光瞳的光强度分布。由于焦点位置之变化所导致的绕射光之影响不会成为问题之时，使用光检测焦点位置。另外，于以传感器(26)观察照明光学系统(a)之光瞳之光强度分布之结果，于射入至传感器(27、28、29、30)之绕射光之光量由于焦点位置而产生变化之时，使用来自光源(2)之光而检测出焦点位置。之后，以检测出之焦点位置位于试料(9)之图案面之方式，调整平台(31)之Z方向之位置。

3. 发明专利

TWI528029B 焦點位置調整方法及檢查方法有权
简体标题：焦点位置调整方法及检查方法
公开(公告)号：TWI528029B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW103146318
申请日：2014-12-30
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：長浜博幸 , NAGAHAMA, HIROYUKI , 小川力 , OGAWA, RIKI
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/06113

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