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1. 发明专利

TW202004119A 位移測量裝置以及位移測量方法审中-公开
简体标题：位移测量设备以及位移测量方法
公开(公告)号：TW202004119A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116959
申请日：2019-05-16
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：小川力 , OGAWA, RIKI , 長浜博幸 , NAGAHAMA, HIROYUKI , 齊藤路世 , SAITO, MICHIYO
IPC分类号： G01B11/00
摘要：本發明是有關於一種位移測量裝置以及位移測量方法。本發明的一形態的位移測量裝置包括：載台，配置測量對象的對象物且能夠移動；第一光源，產生從傾斜方向入射至對象物面的第一光；第一位置檢測感測器，接收由對象物面反射的第一光的第一反射光，並對第一反射光的位置進行檢測；第二光源，以沿著第一反射光的光路逆向前進的方式，產生從傾斜方向入射至對象物面的第二光；第二位置檢測感測器，以沿著第一光的光路逆向前進的方式，接收由對象物面反射的第二光的第二反射光，並對第二反射光的位置進行檢測；光路移動機構，使第一光的光路、第一反射光的光路、第二光的光路、及第二反射光的光路中的至少一個光路移動；控制電路，在藉由使第一光及第二光與載台相對地移動，而使第一光及第二光在規定的高度位置橫越過反射率不同的兩個區域的邊界的情況下，控制光路移動機構，以使從第一位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的總和與從第二位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的總和同時改變；以及位移測定電路，運算出基於從第一位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的對象物面的第一位移、和基於從第二位置檢測感測器輸出的多個強度訊號的對象物面的第二位移的平均值，並將其測定為對象物面的位移。
简体摘要：本发明是有关于一种位移测量设备以及位移测量方法。本发明的一形态的位移测量设备包括：载台，配置测量对象的对象物且能够移动；第一光源，产生从倾斜方向入射至对象物面的第一光；第一位置检测传感器，接收由对象物面反射的第一光的第一反射光，并对第一反射光的位置进行检测；第二光源，以沿着第一反射光的光路逆向前进的方式，产生从倾斜方向入射至对象物面的第二光；第二位置检测传感器，以沿着第一光的光路逆向前进的方式，接收由对象物面反射的第二光的第二反射光，并对第二反射光的位置进行检测；光路移动机构，使第一光的光路、第一反射光的光路、第二光的光路、及第二反射光的光路中的至少一个光路移动；控制电路，在借由使第一光及第二光与载台相对地移动，而使第一光及第二光在规定的高度位置横越过反射率不同的两个区域的边界的情况下，控制光路移动机构，以使从第一位置检测传感器输出的多个强度信号的总和与从第二位置检测传感器输出的多个强度信号的总和同时改变；以及位移测定电路，运算出基于从第一位置检测传感器输出的多个强度信号的对象物面的第一位移、和基于从第二位置检测传感器输出的多个强度信号的对象物面的第二位移的平均值，并将其测定为对象物面的位移。

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