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1. 发明专利

TWI682433B 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法有权
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TWI682433B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW106135709
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

2. 发明专利

TW201839522A 曝光裝置、基板處理裝置、基板之曝光方法及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板之曝光方法及基板处理方法
公开(公告)号：TW201839522A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107112043
申请日：2018-04-09
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明以當向處理室內搬入基板時載置板位於處理室內之待機位置的方式，藉由驅動裝置使載置板移動至待機位置。當載置板至少位於待機位置時藉由冷卻部對載置板進行冷卻。於處理室內，將基板載置於載置板。藉由光源部出射真空紫外線。以當藉由光源部對基板照射真空紫外線時載置板位於較待機位置更靠近光源部之處理位置的方式，藉由驅動裝置使載置板移動至處理位置。以當向處理室外搬出基板時載置板位於處理室內之待機位置的方式，藉由驅動裝置使載置板移動至待機位置。
简体摘要：本发明以当向处理室内搬入基板时载置板位于处理室内之待机位置的方式，借由驱动设备使载置板移动至待机位置。当载置板至少位于待机位置时借由冷却部对载置板进行冷却。于处理室内，将基板载置于载置板。借由光源部出射真空紫外线。以当借由光源部对基板照射真空紫外线时载置板位于较待机位置更靠近光源部之处理位置的方式，借由驱动设备使载置板移动至处理位置。以当向处理室外搬出基板时载置板位于处理室内之待机位置的方式，借由驱动设备使载置板移动至待机位置。

3. 发明专利

TW201833686A 曝光裝置、基板處理裝置、基板之曝光方法、及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板之曝光方法、及基板处理方法
公开(公告)号：TW201833686A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107103946
申请日：2018-02-05
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67
摘要：於本發明中，藉由抽吸裝置而將收容有基板之處理室內之氛圍氣體排出。於處理室內之氧濃度降低至預先規定之曝光開始濃度之時間點，開始利用光源部對基板照射真空紫外線。於真空紫外線向基板之照射期間，利用照度計接收真空紫外線之一部分，測量所接收之真空紫外線之照度。基於測量所得之照度，算出基板之曝光量，於曝光量上升至預先規定之設定曝光量之時間點，停止對基板照射真空紫外線。曝光開始濃度係以高於1%且低於大氣中之氧濃度，且因真空紫外線之照射而自氧原子生成之臭氧不會對基板被處理面之膜造成損傷之方式預先規定。
简体摘要：于本发明中，借由抽吸设备而将收容有基板之处理室内之氛围气体排出。于处理室内之氧浓度降低至预先规定之曝光开始浓度之时间点，开始利用光源部对基板照射真空紫外线。于真空紫外线向基板之照射期间，利用照度计接收真空紫外线之一部分，测量所接收之真空紫外线之照度。基于测量所得之照度，算出基板之曝光量，于曝光量上升至预先规定之设置曝光量之时间点，停止对基板照射真空紫外线。曝光开始浓度系以高于1%且低于大气中之氧浓度，且因真空紫外线之照射而自氧原子生成之臭氧不会对基板被处理面之膜造成损伤之方式预先规定。

4. 发明专利

TW201833670A 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：曝光设备、基板处理设备、基板曝光方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201833670A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106135708
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 大木孝文 , OKI, TAKAFUMI , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/16
摘要：一種曝光裝置，係具備投光部、照度計、遮光部及投光控制部。藉由投光部來對基板之被處理面照射真空紫外線。在真空紫外線從投光部往基板的照射期間，藉由照度計來接收真空紫外線之一部分，且計測所接收到的真空紫外線之照明度。在照射期間藉由遮光部來斷續地遮蔽真空紫外線往照度計之受光面的射入。基於藉由照、度計所計測到的照明度來停止藉由投光部所為的真空紫外線往基板之照射。
简体摘要：一种曝光设备，系具备投光部、照度计、遮光部及投光控制部。借由投光部来对基板之被处理面照射真空紫外线。在真空紫外线从投光部往基板的照射期间，借由照度计来接收真空紫外线之一部分，且计测所接收到的真空紫外线之照明度。在照射期间借由遮光部来断续地屏蔽真空紫外线往照度计之受光面的射入。基于借由照、度计所计测到的照明度来停止借由投光部所为的真空紫外线往基板之照射。

5. 发明专利

TW201820409A 顯像裝置、基板處理裝置、顯像方法以及基板處理方法审中-公开
简体标题：显像设备、基板处理设备、显像方法以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201820409A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106135707
申请日：2017-10-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 淺井正也 , ASAI, MASAYA , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32
摘要：於基板的一表面上形成有含金屬塗佈膜，於含金屬塗佈膜上藉由感光性的有機材料而形成有機塗佈膜，有機塗佈膜被曝光成預定的圖案。顯像液藉由細縫噴嘴而供給於有機塗佈膜，藉此有機塗佈膜形成預定的圖案。另外，置換液係藉由置換噴嘴而供給於有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜，藉此含金屬塗佈膜的部分被去除，於含金屬塗佈膜形成預定的圖案。清洗液藉由清洗噴嘴而供給於具有有機塗佈膜的圖案及含金屬塗佈膜的圖案的基板。
简体摘要：于基板的一表面上形成有含金属涂布膜，于含金属涂布膜上借由感光性的有机材料而形成有机涂布膜，有机涂布膜被曝光成预定的图案。显像液借由细缝喷嘴而供给于有机涂布膜，借此有机涂布膜形成预定的图案。另外，置换液系借由置换喷嘴而供给于有机涂布膜的图案及含金属涂布膜，借此含金属涂布膜的部分被去除，于含金属涂布膜形成预定的图案。清洗液借由清洗喷嘴而供给于具有有机涂布膜的图案及含金属涂布膜的图案的基板。

6. 发明专利

TW201814767A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201814767A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106123667
申请日：2017-07-14
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：山田隆泰 , YAMADA, TAKAHIRO , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 田中裕二 , TANAKA, YUJI
IPC分类号： H01L21/027 , B82Y40/00
CPC分类号： B82Y30/00 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：一種基板處理方法，係可以使用定向自組裝技術來形成缺陷較少的圖案。形成有由定向自組裝材料所構成的處理膜的基板W係載置於內建預備加熱機構22的保持板21上來預備加熱。基板W之周邊係形成為低氧氛圍。預備加熱溫度係藉由二種類之聚合物所構成的定向自組裝材料相位分離的溫度。藉由預備加熱處理膜就能使二種類之聚合物相位分離而形成微細的圖案。又，藉由一邊預備加熱處理膜，一邊從閃光燈FL對該處理膜照射閃光，就能提高構成處理膜的聚合物之流動性且可以一邊抑制缺陷之發生一邊形成微細的圖案。
简体摘要：一种基板处理方法，系可以使用定向自组装技术来形成缺陷较少的图案。形成有由定向自组装材料所构成的处理膜的基板W系载置于内置预备加热机构22的保持板21上来预备加热。基板W之周边系形成为低氧氛围。预备加热温度系借由二种类之聚合物所构成的定向自组装材料相位分离的温度。借由预备加热处理膜就能使二种类之聚合物相位分离而形成微细的图案。又，借由一边预备加热处理膜，一边从闪光灯FL对该处理膜照射闪光，就能提高构成处理膜的聚合物之流动性且可以一边抑制缺陷之发生一边形成微细的图案。

7. 发明专利

TW201814499A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201814499A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106113085
申请日：2017-04-19
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本將彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 淺井正也 , ASAI, MASAYA
IPC分类号： G06F7/16 , G06F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40
摘要：調溫部對供給至顯影噴嘴之顯影液之溫度進行調整。調溫部對供給至清洗噴嘴以及後清洗噴嘴之清洗液之溫度進行調整。調溫部對供給至處理噴嘴之處理液之溫度進行調整。調溫部將清洗液及處理液之溫度於固定之範圍內加以調整。於阻劑膜之顯影處理後將基板之溫度於固定範圍內加以調整，且以覆蓋阻劑圖案之方式於基板之一面形成具有較阻劑膜高之抗蝕刻性之反轉膜。
简体摘要：调温部对供给至显影喷嘴之显影液之温度进行调整。调温部对供给至清洗喷嘴以及后清洗喷嘴之清洗液之温度进行调整。调温部对供给至处理喷嘴之处理液之温度进行调整。调温部将清洗液及处理液之温度于固定之范围内加以调整。于阻剂膜之显影处理后将基板之温度于固定范围内加以调整，且以覆盖阻剂图案之方式于基板之一面形成具有较阻剂膜高之抗蚀刻性之反转膜。

8. 发明专利

TW201742112A 顯影單元、基板處理裝置、顯影方法及基板處理方法审中-公开
简体标题：显影单元、基板处理设备、显影方法及基板处理方法
公开(公告)号：TW201742112A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106104239
申请日：2017-02-09
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , G03F7/30 , G03F7/32 , B05C11/08
CPC分类号： B05C11/08 , G03F7/30 , G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/304
摘要：藉由旋轉夾頭而保持已將含有金屬之塗佈液之膜曝光成特定圖案之基板。藉由狹縫噴嘴對藉由旋轉夾頭所支持之基板之被處理面供給顯影液。藉由洗淨噴嘴對供給顯影液後之基板之被處理面供給去除金屬或使金屬溶解之洗淨液。
简体摘要：借由旋转夹头而保持已将含有金属之涂布液之膜曝光成特定图案之基板。借由狭缝喷嘴对借由旋转夹头所支持之基板之被处理面供给显影液。借由洗净喷嘴对供给显影液后之基板之被处理面供给去除金属或使金属溶解之洗净液。

9. 发明专利

TW201717302A 膜處理單元、基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：膜处理单元、基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201717302A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105136218
申请日：2016-11-08
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , B08B3/08 , B08B1/04 , B05C11/02
CPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304
摘要：藉由旋轉夾頭一面保持基板一面使其旋轉，對基板噴出塗佈液。自基板向外側飛散之塗佈液由外承杯接住。為了洗淨外承杯，自承杯洗淨噴嘴噴出之洗淨液經由第1導引部噴出至外承杯之內周面。藉此，附著於外承杯之塗佈液及其固化物等溶解，並自外承杯被除去。繼而，自承杯洗淨噴嘴噴出之金屬用除去液經由第2導引部噴出至外承杯之內周面。藉此，殘留於外承杯之金屬成分溶解，並自外承杯被除去。
简体摘要：借由旋转夹头一面保持基板一面使其旋转，对基板喷出涂布液。自基板向外侧飞散之涂布液由外承杯接住。为了洗净外承杯，自承杯洗净喷嘴喷出之洗净液经由第1导引部喷出至外承杯之内周面。借此，附着于外承杯之涂布液及其固化物等溶解，并自外承杯被除去。继而，自承杯洗净喷嘴喷出之金属用除去液经由第2导引部喷出至外承杯之内周面。借此，残留于外承杯之金属成分溶解，并自外承杯被除去。

10. 发明专利

TWI688027B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI688027B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW106145500
申请日：2017-12-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田中裕二 , TANAKA, YUJI , 中山知佐世 , NAKAYAMA, CHISAYO , 春本将彥 , HARUMOTO, MASAHIKO , 浅井正也 , ASAI, MASAYA , 福本靖博 , FUKUMOTO, YASUHIRO , 松尾友宏 , MATSUO, TOMOHIRO , 石井丈晴 , ISHII, TAKEHARU
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324

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