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1. 发明专利

TW201724399A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201724399A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105131824
申请日：2016-10-03
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：柳次英 , YOO, CHA YOUNG , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 具滋大 , KU, JA DAE , 金濬 , KIM, JUN , 鄭奉周 , JUNG, BONG JU , 朴慶錫 , PARK, KYUNG SEOK , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L23/34
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/4584 , C23C16/46 , C23C16/52 , C30B25/10 , C30B29/06 , H01L21/67109
摘要：本發明涉及一種基板處理裝置，且更具體而言，涉及一種能夠改善基板的整個表面上的製程均勻性的基板處理裝置。基板處理裝置包括：基板舟，基板裝載在基板舟中；反應管，在反應管中對裝載於基板舟中的基板執行處理製程；氣體供應單元，用以經由安置於所述反應管的一側上的噴射噴嘴將製程氣體供應至反應管中；加熱單元，包括多個垂直加熱部件，多個垂直加熱部件在反應管外部沿反應管的圓周安置且用以將反應管的圓周劃分成多個部分，以對反應管的所劃分的多個部分中的每一者進行獨立加熱；以及控制單元，用以控制加熱單元。
简体摘要：本发明涉及一种基板处理设备，且更具体而言，涉及一种能够改善基板的整个表面上的制程均匀性的基板处理设备。基板处理设备包括：基板舟，基板装载在基板舟中；反应管，在反应管中对装载于基板舟中的基板运行处理制程；气体供应单元，用以经由安置于所述反应管的一侧上的喷射喷嘴将制程气体供应至反应管中；加热单元，包括多个垂直加热部件，多个垂直加热部件在反应管外部沿反应管的圆周安置且用以将反应管的圆周划分成多个部分，以对反应管的所划分的多个部分中的每一者进行独立加热；以及控制单元，用以控制加热单元。

2. 发明专利

TW201537660A 處理基板的設備审中-公开
简体标题：处理基板的设备
公开(公告)号：TW201537660A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104102446
申请日：2015-01-26
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金勁勳 , KIM, KYONG HUN , 金龍基 , KIM, YONG KI , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324
摘要：本發明提供一種用於處理基板的設備。在其中對基板執行製程的用於處理基板的所述設備包含：下部腔室，所述下部腔室在其一側中具有開放的上部及通道，可通過所述通道接近基板；外部反應管，其經設置以關閉下部腔室的開放的上部，進而提供在其中執行所述製程的製程空間；基板固持器，至少基板垂直地堆疊在其中，所述基板固持器在堆疊位置與製程位置之間切換，在所述堆疊位置中，基板堆疊在基板固持器中，在所述製程位置中，對基板執行所述製程；以及氣體供應單元，其安置在外部反應管中以將反應氣體供應到反應區中，進而產生在垂直方向上具有彼此不同的相位差的反應氣體氣流。
简体摘要：本发明提供一种用于处理基板的设备。在其中对基板运行制程的用于处理基板的所述设备包含：下部腔室，所述下部腔室在其一侧中具有开放的上部及信道，可通过所述信道接近基板；外部反应管，其经设置以关闭下部腔室的开放的上部，进而提供在其中运行所述制程的制程空间；基板固持器，至少基板垂直地堆栈在其中，所述基板固持器在堆栈位置与制程位置之间切换，在所述堆栈位置中，基板堆栈在基板固持器中，在所述制程位置中，对基板运行所述制程；以及气体供应单元，其安置在外部反应管中以将反应气体供应到反应区中，进而产生在垂直方向上具有彼此不同的相位差的反应气体气流。

3. 发明专利

TWI645455B 基板處理設備有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI645455B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW105121664
申请日：2016-07-11
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/365

4. 发明专利

TWI629713B 基板處理裝置以及使用該裝置的基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备以及使用该设备的基板处理方法
公开(公告)号：TWI629713B
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：TW105131965
申请日：2016-10-04
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYONG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/67

5. 发明专利

TWI611529B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI611529B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW105131824
申请日：2016-10-03
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：柳次英 , YOO, CHA YOUNG , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 具滋大 , KU, JA DAE , 金濬 , KIM, JUN , 鄭奉周 , JUNG, BONG JU , 朴慶錫 , PARK, KYUNG SEOK , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L23/34
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/4584 , C23C16/46 , C23C16/52 , C30B25/10 , C30B29/06 , H01L21/67109

6. 发明专利

TW201729256A 基板處理裝置以及使用該裝置的基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备以及使用该设备的基板处理方法
公开(公告)号：TW201729256A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105131965
申请日：2016-10-04
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYONG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/67
CPC分类号： C23C16/458 , C23C16/4401 , C23C16/45591 , C23C16/4583 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/67109 , H01L21/67748 , H01L21/67757 , H01L21/68707
摘要：本發明提供一種基板處理裝置以及使用該裝置的基板處理方法，且更具體而言，涉及一種能夠改善參與基板處理製程的製程氣體的流量的基板處理裝置及使用基板處理裝置的方法。根據示例性實施例的基板處理裝置包括：預腔室，基板被載送至預腔室中；製程腔室，與預腔室連通且在製程腔室中執行基板處理製程；基板舟，包括多個分隔板以分隔裝載空間，並進行升降，基板被裝載至裝載空間中；氣體供應單元，用以經由設置於製程腔室中的多個噴射噴嘴將製程氣體供應至基板；排放單元，用以經由界定於製程腔室中的多個抽吸孔來排放氣體；以及交換引導構件，設置於預腔室中並用以將被載送至預腔室中的基板放置於經多個分隔板分隔的裝載空間中。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备以及使用该设备的基板处理方法，且更具体而言，涉及一种能够改善参与基板处理制程的制程气体的流量的基板处理设备及使用基板处理设备的方法。根据示例性实施例的基板处理设备包括：预腔室，基板被载送至预腔室中；制程腔室，与预腔室连通且在制程腔室中运行基板处理制程；基板舟，包括多个分隔板以分隔装载空间，并进行升降，基板被装载至装载空间中；气体供应单元，用以经由设置于制程腔室中的多个喷射喷嘴将制程气体供应至基板；排放单元，用以经由界定于制程腔室中的多个抽吸孔来排放气体；以及交换引导构件，设置于预腔室中并用以将被载送至预腔室中的基板放置于经多个分隔板分隔的装载空间中。

7. 发明专利

TW201720948A 基板處理設備审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201720948A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105121514
申请日：2016-07-07
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/45563
摘要：本發明可以包含：管，其提供內部空間，在所述內部空間中處理基板；基板支撐部分，其在管的內部空間中以多層堆疊多個基板；氣體供應部分，其將處理氣體供應到多個基板；排氣部分，其安置成面向氣體供應部分以吸收處理氣體；以及流動調節部分，其具有沿著在氣體供應部分與排氣部分之間的管的圓周形成的噴灑開口以噴灑調節氣體，並且能夠通過調節處理氣體的流動控制供應到基板的上表面的處理氣體的量。
简体摘要：本发明可以包含：管，其提供内部空间，在所述内部空间中处理基板；基板支撑部分，其在管的内部空间中以多层堆栈多个基板；气体供应部分，其将处理气体供应到多个基板；排气部分，其安置成面向气体供应部分以吸收处理气体；以及流动调节部分，其具有沿着在气体供应部分与排气部分之间的管的圆周形成的喷洒开口以喷洒调节气体，并且能够通过调节处理气体的流动控制供应到基板的上表面的处理气体的量。

8. 发明专利

TWI606137B 基板處理設備有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI606137B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW105121514
申请日：2016-07-07
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/45563

9. 发明专利

TWI579947B 處理基板的設備有权
简体标题：处理基板的设备
公开(公告)号：TWI579947B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW104102446
申请日：2015-01-26
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金勁勳 , KIM, KYONG HUN , 金龍基 , KIM, YONG KI , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324

10. 发明专利

TW201711090A 基板處理設備审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201711090A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105121664
申请日：2016-07-11
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：玄俊鎭 , HYON, JUN JIN , 諸成泰 , JE, SUNG TAE , 宋炳奎 , SONG, BYOUNG GYU , 金龍基 , KIM, YONG KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 申良湜 , SHIN, YANG SIK , 金哉佑 , KIM, JAE WOO
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/365
CPC分类号： C23C16/45578 , C23C16/45504 , C23C16/4583 , C30B25/14
摘要：本發明提供一種基板處理設備，基板處理設備包含：管子，其中具有內部空間；基板支撐單元，其包括多個隔板，多個隔板經配置以將多個基板垂直堆疊於其上並且將其中處理多個基板的處理空間在管子中分成多個處理空間；氣體供應單元，其經配置以將處理氣體供應到多個基板；以及排氣單元，其經安置以面對著氣體供應單元來排出管子內部的氣體。多個通孔界定於隔板中的每一個中。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，基板处理设备包含：管子，其中具有内部空间；基板支撑单元，其包括多个隔板，多个隔板经配置以将多个基板垂直堆栈于其上并且将其中处理多个基板的处理空间在管子中分成多个处理空间；气体供应单元，其经配置以将处理气体供应到多个基板；以及排气单元，其经安置以面对着气体供应单元来排出管子内部的气体。多个通孔界定于隔板中的每一个中。

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