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1. 发明授权

KR101693182B1 감광성 수지 조성물, 옥심술포네이트 화합물, 경화막의 형성 방법, 경화막, 유기 ＥＬ 표시 장치, 및 액정 표시 장치 有权
标题翻译：用于形成固化膜的有机硅树脂组合物硫酸盐化合物方法有机EL显示装置和液晶显示装置
公开(公告)号：KR101693182B1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：KR1020137008119
申请日：2011-08-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 사키타쿄헤이 , 키쿠치와타루 , 유모토마사토시 , 히키타마사노리
IPC分类号： C07C309/00 , C07D307/78 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/029 , H05B33/22
CPC分类号： C07D307/78 , C07C309/00 , C07C2602/08 , C07C2603/16 , C07C2603/18 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G02F1/133345 , G02F1/136227 , G02F2202/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L27/3258 , H05B33/22
摘要： 본발명의목적은고감도이며, 경화막의투명성이우수하고, 현상관용도가넓은감광성수지조성물, 및그것을이용한경화막의형성방법을제공하는것이다. 본발명의감광성수지조성물은식(1)으로나타내어지는옥심술포네이트화합물, 산에의해분해되어카르복실기또는페놀성수산기를생성하는산분해성기를갖는구성단위를갖는수지, 및용제를함유하는것을특징으로한다. R은알킬기, 아릴기또는헤테로아릴기를나타내고, R는각각독립적으로수소원자, 알킬기, 아릴기또는할로겐원자를나타내고, Ar은 o-아릴렌기또는 o-헤테로아릴렌기를나타내고, X는 O 또는 S를나타내고, n은 1 또는 2를나타낸다. 단, 화합물중에 2 이상존재하는 R중적어도 1개는알킬기, 아릴기또는할로겐원자이다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种具有高灵敏度和宽的显影宽度的感光性树脂组合物，并提供具有优异透明性的固化膜。本发明的感光性树脂组合物含有式（1）表示的肟磺酸酯化合物，具有酸分解成羧酸或酚羟基的具有酸分解性基团的构成单元的树脂，以及其中R 1表示烷基，芳基或杂芳基的溶剂，每个R 2独立地表示氢原子，烷基，芳基或卤素原子，Ar 1表示邻亚芳基或 O-杂芳基，X表示O或S，n表示1或2，条件是化合物中存在两个或多个R 2 S，至少1表示烷基，芳基或卤素原子。

2. 发明公开

KR1020130099079A 감광성 수지 조성물, 옥심술포네이트 화합물, 경화막의 형성 방법, 경화막, 유기 ＥＬ 표시 장치, 및 액정 표시 장치 有权
标题翻译：光敏性树脂组合物，硫化亚铜化合物，形成固化膜的方法，固化膜，有机EL显示装置和液晶显示装置
公开(公告)号：KR1020130099079A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：KR1020137008119
申请日：2011-08-30
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 사키타쿄헤이 , 키쿠치와타루 , 유모토마사토시 , 히키타마사노리
IPC分类号： C07C309/00 , C07D307/78 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/029 , H05B33/22
CPC分类号： C07D307/78 , C07C309/00 , C07C2602/08 , C07C2603/16 , C07C2603/18 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G02F1/133345 , G02F1/136227 , G02F2202/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L27/3258 , H05B33/22 , G03F7/029
摘要： 본 발명의 목적은 고감도이며, 경화막의 투명성이 우수하고, 현상 관용도가 넓은 감광성 수지 조성물, 및 그것을 이용한 경화막의 형성 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 식(1)으로 나타내어지는 옥심술포네이트 화합물, 산에 의해 분해되어 카르복실기 또는 페놀성 수산기를 생성하는 산분해성기를 갖는 구성 단위를 갖는 수지, 및 용제를 함유하는 것을 특징으로 한다. R
1 은 알킬기, 아릴기 또는 헤테로아릴기를 나타내고, R
2 는 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 아릴기 또는 할로겐원자를 나타내고, Ar
1 은 o-아릴렌기 또는 o-헤테로아릴렌기를 나타내고, X는 O 또는 S를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타낸다. 단, 화합물 중에 2 이상 존재하는 R
2 중 적어도 1개는 알킬기, 아릴기 또는 할로겐원자이다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种具有高灵敏度和宽的显影宽度的感光性树脂组合物，并提供具有优异透明性的固化膜。本发明的感光性树脂组合物含有式（1）表示的肟磺酸酯化合物，具有酸分解成羧酸或酚羟基的具有酸分解性基团的构成单元的树脂，以及其中R 1表示烷基，芳基或杂芳基的溶剂，每个R 2独立地表示氢原子，烷基，芳基或卤素原子，Ar 1表示邻亚芳基或 O-杂芳基，X表示O或S，n表示1或2，条件是化合物中存在两个或多个R 2 S，至少1表示烷基，芳基或卤素原子。

3. 发明公开

KR1020090082871A 모노머, 수지 및 이 수지를 이용한 레지스트 조성물, 및 이레지스트 조성물을 이용한 반도체 장치의 제조 방법 有权
标题翻译：使用树脂的单体，树脂，树脂组合物和使用耐蚀组合物制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020090082871A
公开(公告)日：2009-07-31
申请号：KR1020090006600
申请日：2009-01-28
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 노자키코지
IPC分类号： C07D335/06 , C07D335/02
CPC分类号： C07D335/02 , Y10S430/111
摘要： A monomer, a resin using the monomer, a resist composition containing the resin, and a manufacturing method of a semiconductor device using the composition are provided to reduce elusion or degassing and to allow it to be used in EUV exposure in addition to ArF immersion exposure. A monomer is represented by the formula 1, wherein R1 and R3 are identical or different each other and are -H or -CH3; R2 is a phenyl group or an adamantyl group; and Q1 is a C1-C4 perfluoroalkyl group. A resin comprises the monomer as a constituting component and has a sulfonium salt side chain. A resist composition comprises the resin in at least some part of a resist resin.
摘要翻译：提供单体，使用该单体的树脂，含有树脂的抗蚀剂组合物和使用该组合物的半导体器件的制造方法，以减少脱气或脱气，并且除了ArF浸没曝光之外还可以将其用于EUV曝光。单体由式1表示，其中R 1和R 3相同或不同，为-H或-CH 3; R2是苯基或金刚烷基; Q1是C1-C4全氟烷基。树脂包含单体作为构成成分，并具有锍盐侧链。抗蚀剂组合物在抗蚀树脂的至少一部分中包含树脂。

4. 发明授权

KR100295206B1 디아릴벤조피란유도체및이를함유하는시클로옥시게네이즈-2저해제조성물 有权
标题翻译：二芳基苯并吡喃衍生物和含有它们的环加氧酶-2抑制剂组合物
公开(公告)号：KR100295206B1
公开(公告)日：2001-07-12
申请号：KR1019980034131
申请日：1998-08-22
申请人： 주식회사 아모레퍼시픽그룹
发明人： 강선화 , 노민수 , 이창훈 , 주영협 , 하준용 , 최진규 , 임경민 , 김진관
IPC分类号： C07D335/06 , C07D311/28 , C07D215/06
摘要： 본 발명은 하기 일반식 (Ⅰ)로 표시되는 디아릴벤조피란(diarylbenzopyran) 유도체 및 그의 약제학적으로 허용되는 염, 및 이들을 유효한 양으로 함유하는 시클로옥시게네이즈-2 저해제(cyclooxygenase-2 inhibitor) 조성물에 관한 것이다.
(Ⅰ)
상기 식중,
X는 O, NR
5 또는 S(O)n이고,
(식중, n은 0, 1 또는 2이고,
R
5 는 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 저급알킬기이다.)
Y는 O 또는 S이며,
R
1 과 R
2 는 서로 같거나 다른 것으로서, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 6의 저급알킬, 알콕시, 히드록시 또는 니트로기이고,
R
3 는 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 6의 저급알킬, 니트로, S(O)nR
6 또는 NR
7 R
8 이며,
(식중, n은 상기 X에서 정의된 바와 동일하고,
R
6 는 수소, 탄소수 1 내지 6의 저급알킬기 또는 NR
9 R
10 이며,
(식중, R
9 및 R
10 은 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 저급알킬기이다.)
R
7 및 R
8 은 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 저급알킬기이다.)
R
4 는 벤조[b]티에닐, 나프틸, 페닐에티닐, 페닐에테닐 또는 다음의 구조들을 갖는 치환기이다.

상기 식중, R
11∼15 는 서로 같거나 다른 것으로서, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 6의 저급알킬, 트리플루오르메틸, 알콕시, 히드록시, 니트로, S(O)nR
6 , 트리플루오르메톡시, 아세틸 또는 포르밀기이다.
(식중, n 또는
R
6 는 상기 X 및 R
3 에서 정의된 바와 같다.)
또는
상기 식중, R
16∼18 는 서로 같거나 다른 것으로서, 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 6의 저급알킬기이다.
(식중, n 또는
R
6 는 상기 X 및 R
3 에서 정의된 바와 같다.)

5. 发明公开

KR1020000014628A 디아릴벤조피란유도체및이를함유하는시클로옥시게네이즈-2저해제조성물 有权
标题翻译： DIARYL BENZOPYRAN衍生物和CYCLOOXYGENASE-2抑制剂
公开(公告)号：KR1020000014628A
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019980034131
申请日：1998-08-22
申请人： 주식회사 아모레퍼시픽그룹
发明人： 강선화 , 노민수 , 이창훈 , 주영협 , 하준용 , 최진규 , 임경민 , 김진관
IPC分类号： C07D335/06 , C07D311/28 , C07D215/06
CPC分类号： C07D405/04 , C07D311/26 , C07D409/04
摘要： PURPOSE: Title compound is provided which has a good COX-2 inhibition effect. CONSTITUTION: The diarylbenzopyran derivatives(formula I; X is O, NR5 or S(O)n; R5 is hydrogen, C1- C6 lower alkyl pr NR6R7; R6 and R7 are same or not, hydrogen or C1- C6 lower alkyl group; n is integer of 0- 2; Y is O, S, H2 or N(OR6); R1 and R2 are same or not, H, halogen, C1- C6 lower alkyl, trifluoromethyl, alkoxy, hydroxy, nitro, S(O)nR5 or NR8R9; R8 and R9 are same or not H, C1- C6 lower alkyl or methylsulfonyl group; R4 is oxazolyl, benzo£b|thienyl, benzodioxanyl, naphthyl, thiazolyl, indanyl, indolyl, etc. and formula II; R10- R14 are same or not, H, halogen, C1- C6 lower alkyl, phenyl, alkoxy, hydroxy, nitro, S(O)nR5, NR6R7, etc.) and their pharmaceutical salt and cyclooxygenase-2 inhibitor containing formula I. are provided.
摘要翻译：目的：提供具有良好COX-2抑制作用的标题化合物。构型：二芳基苯并吡喃衍生物（式I; X为O，NR 5或S（O）n; R 5为氢，C 1 -C 6低级烷基，NR 6 R 7; R 6和R 7相同或不同，为氢或C 1 -C 6低级烷基; n是0-2的整数; Y是O，S，H 2或N（OR 6）; R 1和R 2相同或不同，H，卤素，C 1 -C 6低级烷基，三氟甲基，烷氧基，羟基，硝基，）nR 5或NR 8 R 9; R 8和R 9相同或不相同，C 1 -C 6低级烷基或甲基磺酰基; R 4是恶唑基，苯并[b]噻吩基，苯并二恶烷基，萘基，噻唑基，茚满基，吲哚基等和式II; R 10 - R 14相同或不同，其中，H，卤素，C 1 -C 6低级烷基，苯基，烷氧基，羟基，硝基，S（O）nR 5，NR 6 R 7等）及其药物盐和环氧合酶-2抑制剂提供。

6. 发明公开

KR1019990014803A 이방향족프로피닐또는디에닐화합물 失效
公开(公告)号：KR1019990014803A
公开(公告)日：1999-02-25
申请号：KR1019970708147
申请日：1997-03-05
申请人： 갈데르마 리써어치 앤드 디벨로프먼트
发明人： 베르나르동쟝-미셸
IPC分类号： C07C63/66 , A61K31/19 , C07C313/04 , C07D335/06
摘要： 본 발명은 하기 화학식 Ⅰ 을 갖는 신규 프로피닐 또는 디에닐 이방향족 화합물 뿐만 아니라, 의학 또는 수의학 (특히, 피부, 류마티스성, 호흡, 심장 및 안과학적 질병) 에 사용하기 위한 약학적 조성물 또는 선택적으로 미용 조성물 내에서 상기 화합물의 용도에 관한 것이다:
[화학식 Ⅰ]

7. 发明授权

KR1019960016543B1 레티노이드-유사활성을 가지며 페닐그룹과 헤테로이환식 그룹으로 이치환된 아세틸렌 失效
标题翻译：与苯乙烯基团分离的乙酰基和具有类似反应活性的脂环族
公开(公告)号：KR1019960016543B1
公开(公告)日：1996-12-14
申请号：KR1019880003216
申请日：1988-03-25
申请人： 알레간 인코포레이티드
发明人： 로산타에이에스챤드라트라
IPC分类号： C07D335/06 , C07D215/14 , C07D311/58
CPC分类号： C07D335/06 , C07D215/12 , C07D215/14 , C07D311/58
摘要： 요약 없음

8. 发明公开

KR1019910006267A 2-치환된 아세틸렌잔기 및 레틴산-유사 생물학적 활성을 갖는 화합물의 제조방법 및 중간체 失效
标题翻译：用于制备2-取代的炔属残基和具有视黄酸样生物活性的化合物的方法和中间体
公开(公告)号：KR1019910006267A
公开(公告)日：1991-04-29
申请号：KR1019900015006
申请日：1990-09-21
申请人： 앨러간,인코포레이티드
发明人： 로샨타에이.에스.챤드라라트나
IPC分类号： C07D311/20 , C07D335/06 , C07D401/06
摘要： 내용 없음

9. 发明公开

KR850007252A 하이드록시-4-2H-1-벤조티오피란-2-온 유도체의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR850007252A
公开(公告)日：1985-12-02
申请号：KR850002419
申请日：1985-04-11
IPC分类号： C07D335/08 , A01N43/14 , A01N43/18 , A01P11/00 , C07D333/00 , C07D335/00 , C07D335/06 , C07D409/06
摘要： 내용없음

10. 发明授权

KR830001821B1 할로겐 치환된 벤조피란 및 벤조 티오피란 4 카복실산의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR830001821B1
公开(公告)日：1983-09-12
申请号：KR790003889
申请日：1979-11-07
IPC分类号： A61K31/35 , A61K31/352 , A61K31/38 , A61K31/382 , A61P3/08 , A61P3/10 , A61P25/00 , A61P27/02 , A61P27/12 , C07D311/04 , C07D311/22 , C07D311/58 , C07D311/92 , C07D335/06 , C07F7/18
摘要： 내용없음.

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