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    • 3. 发明授权
    • 인터널 플라즈마 스프레이 건의 불활성 가스 분사장치
    • KR102228093B1
    • 2021-03-16
    • KR1020190060277
    • 2019-05-22
    • 주식회사 에스유케이
    • 석주용
    • H05H1/34H05H1/28
    • 본발명은인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치에관한것으로서, 인터널플라즈마스프레이건과용사코팅되는기재사이의대기공간에불활성기체분위기를형성하여플라즈마스프레이스트림을보호함으로써플라즈마스프레이스트림이대기중의산소와결합하지못하도록하는인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치에관한것이다. 이를위해고주파전기아크에의해플라즈마를형성하고, 이온화된플라즈마의재결합에의해고열을발생시켜용사파우더를용융함으로써대기분위기에서플라즈마스프레이스트림을통해기재에용사코팅층을형성시키는인터널플라즈마스프레이건 분사장치에있어서, 플라즈마스프레이건의애노드및 노즐을냉각시키는냉각수가흐르며, 냉각수가실링되도록인터널플라즈마스프레이건의전방에결합되는프런트커버부, 및프런트커버부의전방으로결합되며, 불활성가스를분사하는불활성가스분사부를포함하는것을특징으로하는인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치가개시된다.
    • 4. 发明公开
    • 인터널 플라즈마 스프레이 건의 불활성 가스 분사장치
    • KR1020200135611A
    • 2020-12-03
    • KR1020190060277
    • 2019-05-22
    • 주식회사 에스유케이
    • 석주용
    • H05H1/34H05H1/28
    • 본발명은인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치에관한것으로서, 인터널플라즈마스프레이건과용사코팅되는기재사이의대기공간에불활성기체분위기를형성하여플라즈마스프레이스트림을보호함으로써플라즈마스프레이스트림이대기중의산소와결합하지못하도록하는인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치에관한것이다. 이를위해고주파전기아크에의해플라즈마를형성하고, 이온화된플라즈마의재결합에의해고열을발생시켜용사파우더를용융함으로써대기분위기에서플라즈마스프레이스트림을통해기재에용사코팅층을형성시키는인터널플라즈마스프레이건 분사장치에있어서, 플라즈마스프레이건의애노드및 노즐을냉각시키는냉각수가흐르며, 냉각수가실링되도록인터널플라즈마스프레이건의전방에결합되는프런트커버부, 및프런트커버부의전방으로결합되며, 불활성가스를분사하는불활성가스분사부를포함하는것을특징으로하는인터널플라즈마스프레이건의불활성가스분사장치가개시된다.
    • 10. 发明授权
    • 플라즈마 용사 시스템의 플라즈마건 장치 및 이를 구비한 플라즈마 용사 시스템
    • 等离子喷枪系统的等离子喷枪装置和包括其的等离子喷涂系统
    • KR101696872B1
    • 2017-01-17
    • KR1020160108993
    • 2016-08-26
    • 동양엠더블유주식회사
    • 김중석
    • H05H1/28H05H1/34H05H1/42H05H1/40B05B7/22
    • 본발명은캐소드와애노드를특정구조로구성하고, 냉각효율을향상시켜플라즈마건의사용수명을증대시킬수 있고, 부착층의순도및 밀도품질을향상시킬수 있는플라즈마용사시스템의플라즈마건장치에관한것이다. 본발명에따르면, 플라즈마용사시스템의플라즈마건장치에있어서, 환형통 형태의노즐형양극부전극; 상기양극부전극의외면을감싸보호하는양극부노즐덮개; 상기양극부노즐의일단측 내부에위치결합되는캐소드홀더; 상기양극부노즐내부에간격을갖고상기캐소드홀더에구비되는음극부전극; 상기노즐덮개와양극부전극을통해캐리어가스(carrier gas)와강화분말을제공하도록형성되는캐리어가스-분말공급수단; 상기양극부전극) 주위로냉각수를공급및 배출하기위한냉각수순환수단; 상기음극부전극측으로플라즈마가스를공급하기위한플라즈마가스공급수단; 및상기양극부전극과음극부전극으로전력을공급하기위한전력공급수단;을포함하며, 상기음극부전극은일측부가첨단또는원추형으로형성되고, 타단부는단차면을가지며, 텅스텐이나텅스텐과니켈의합금재또는내열성과열전도성이다른이종재질로이루어지는플라즈마용사시스템의플라즈마건장치가제공된다.