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热词
    • 2. 发明授权
    • 고수율 웨이퍼 본딩 장치
    • 高通量晶圆贴合装置
    • KR101682072B1
    • 2016-12-02
    • KR1020127028878
    • 2011-04-05
    • 수스 마이크로텍 리소그라피 게엠바하
    • 조지그레고리
    • H01L21/18H01L21/67H01L21/603
    • H01L21/6719H01L21/67092
    • 산업적규모의고수율웨이퍼본딩장치는주축을따라뻗어있고, 복수의챔버구역들, 복수의가열/격리판, 주축을따라뻗어있는가이드로드시스템, 주축을따라뻗어있는한 쌍의평행트랙로드및 제 1 가압수단을구비하는웨이퍼본더챔버를포함한다. 챔버구역들은서로분리되어있고, 가열/격리판에의해서로열적으로단열된다. 가열/격리판은주축에수직으로향하며, 가이드로드시스템에의해이동가능하게지지및 유도되고, 주축의방향을따라이동하도록구성된다. 챔버구역들각각은정렬된웨이퍼쌍을수용하도록치수화되고, 웨이퍼쌍은평행트랙로드에의해지지되도록구성된다. 제 1 가압수단은가열/격리판의제 1 단부에수직으로제 1 힘을가하도록구성된다. 가해진제 1 힘은가열/격리판이주축을따라서로이동하도록함으로써, 각챔버구역체적을압축시키고웨이퍼쌍에본딩압력을가하도록한다.
    • 一种工业规模的高通量晶片接合装置,包括:沿着主轴延伸并包括多个室区域的晶片接合器室,多个加热器/隔离板,沿主轴延伸的导杆系统,一对平行轨道 杆沿着主轴线延伸,以及第一压力装置。 室区彼此分离并通过加热器/隔离板彼此热隔离。 加热器/隔离板垂直于主轴定向,由导杆系统可移动地支撑和引导,并被构造成沿着主轴线的方向移动。 每个室区的尺寸被设计成适应对准的晶片对,并且晶片对构造成由平行轨道杆支撑。 第一压力装置构造成施加垂直于第一端加热器/隔离板的第一力。 所施加的第一力使得加热器/隔离板沿着主轴线彼此移动,从而导致每个室区域体积的崩溃以及将结合压力施加到晶片对上。
    • 4. 发明公开
    • 접촉 장치
    • 联系设备
    • KR1020150033531A
    • 2015-04-01
    • KR1020140116047
    • 2014-09-02
    • 니혼덴산리드가부시키가이샤
    • 나카가와,다카시마츠카와,도시히데
    • H01L21/60H01L21/603
    • B25B28/00H01L21/67132H01L21/67138H01L21/67144H01L24/01
    • 가동부재(또는가동부재에설치한별도부재)가대상물에가압력제로로접촉하는상태를실현가능한접촉장치를제공한다. 접촉장치(1)가구비하는접촉헤드부(11)는, 접촉로드(21)와, 하우징(22)과, 추력에어경로(32)와, 캔슬에어경로(33)를구비한다. 하우징(22)은접촉로드(21)를정압에어베어링에의해직선이동가능하게지지하고, 이에의해접촉로드(21)는대상물(3)에접촉할수 있다. 추력에어경로(32)에압축공기를공급하면, 대상물(3)에접근시키는방향의힘이접촉로드(21)에작용하고, 캔슬에어경로(33)에압축공기를공급하면, 반대방향의힘이접촉로드(21)에작용한다. 제어부(12)는접촉로드(21)가대상물(3)에접촉한상태에서, 추력에어경로(32)의압축공기압력과, 캔슬에어경로(33)의압축공기압력를제어함으로써, 대상물(3)에대한가압력을제로로한다.
    • 提供了一种接触装置,其能够在移动构件(或安装在移动构件中的附加构件)与物体接触而固定接触件而不对物体施加压力。 包括在接触装置(1)中的接触头部分包括接触杆(21),壳体(22),推力空气通路(32)和取消空气通路(33)。 壳体(22)使接触头部分(11)直线移动并通过恒压空气轴承支撑它。 因此,接触杆(21)可以接触物体(3)。 当向推力空气路径(32)供给压缩空气时,接近物体(3)的力被施加到接触杆(21)。 当压缩空气被供给到取消空气路径(33)时,相反的力被施加到接触杆(21)。 控制单元(12)在接触杆(21)与物体(3)接触的同时,控制推力空气路径(32)和取消风路(33)的压缩空气压力,从而使压力 对象(3)为零。