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1. 发明授权

KR102450357B1 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법 有权
公开(公告)号：KR102450357B1
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：KR1020170054115
申请日：2017-04-27
IPC分类号： C23F1/18 , C23F11/173 , C23F11/14 , C23F11/16

2. 发明授权

KR102404226B1 식각 조성물 有权
公开(公告)号：KR102404226B1
公开(公告)日：2022-06-02
申请号：KR1020170140072
申请日：2017-10-26
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F11/14 , C23F11/16 , C23F11/12 , C09K13/06 , C09K13/08
摘要： 본발명은 TFT-LCD 디스플레이의전극등으로사용되는전이금속막의식각에사용되는식각조성물을제공하는것으로, 본발명에따른식각조성물은전이금속막의식각시발생하는금속이온을효과적으로킬레이팅하여, 현저하게향상된처리매수를장기간동안안정적으로유지할수 있을뿐 아니라조성물자체분해반응을효과적으로억제하여장기간의사용또는보관중에도불구하고식각처리매수의저하없는우수한안정성을보인다.

3. 发明授权

KR101857596B1 질소-함유 헤테로아릴카복실산을 함유하는 치환형 무전해 금 도금액 및 이를 사용한 치환형 무전해 금 도금 방법 有权
标题翻译：包含含氮杂芳基羧酸的取代无电镀金溶液及使用其的置换无电镀金方法
公开(公告)号：KR101857596B1
公开(公告)日：2018-05-14
申请号：KR1020180011992
申请日：2018-01-31
申请人： (주)엠케이켐앤텍
发明人： 한덕곤 , 성태현 , 이태호 , 권혁석
IPC分类号： C23C18/54 , C23F11/16
CPC分类号： C23C18/54 , C23F11/161
摘要： 본발명에따르면수용성금화합물, EDTA와같은착화제, 디카복실산과같은전도성향상제, 알킬하드록시카복실산, 질소함유헤테로아릴카복실산과같은하지금속용출억제및 재석출방지제, 설파이트화합물과같은금 이온안정화제, 머캅토화합물과같은표면부식방지제및 계면활성제, 결정조정제, pH조정제, 완충제를포함한치환형무전해금 도금액및 이를사용한치환형무전해금 도금방법이제공된다. 본발명에따른치환형무전해금 도금액은, 하지금속의부식및 치환된금속의재석출을효과적으로방지함으로써, 금도금욕의안정성및 사용시간을증가시켜생산성및 품질을향상시키고불량을감소시킬수 있을뿐만아니라, 제조된금 도금막은솔더접합강도및 솔더퍼짐성이우수하다.

4. 发明授权

KR101380789B1 방청재료, 방청재료의 제조방법, 및 방청코팅막 有权
标题翻译：抗静电涂料，其制备方法及其相关涂料层
公开(公告)号：KR101380789B1
公开(公告)日：2014-04-04
申请号：KR1020130070555
申请日：2013-06-19
申请人： 한국과학기술연구원
发明人： 김구대 , 박노경 , 권혁 , 서영식 , 유승건 , 노혁래
IPC分类号： C23F11/08 , C23F11/16
CPC分类号： Y02W30/91 , Y02W30/92
摘要： 방청재료, 방청재료의 제조방법, 방청코팅막에 대한 발명으로, 방청재료는 섬유상(fiber), 판상(film), 또는 망목구조(network structure)의 미세조직 형상을 포함하거나 방사성(spinnability)을 가지는 개질유황을 포함한다. 상기 방청재료는, 방청코팅막에 우수한 특성을 부여할 수 있으며, 작업용이성이 우수하고, 경화성, 염수분무저항성, 용접성 등이 적정한 수준 이상의 특성을 가지며, 특히 접착성이 향상된 방청재료와 이의 제조방법을 제공하고, 이를 이용하여 속건성을 가지는 방청코팅막을 형성하는 방법도 제공한다.

5. 发明公开

KR840000670A 인산아연 전환 피복 조성물 失效
公开(公告)号：KR840000670A
公开(公告)日：1984-02-25
申请号：KR820003103
申请日：1982-07-12
IPC分类号： C09D1/00 , C23C22/14 , C23C22/17 , C23C22/34 , C23C22/36 , C23F11/16
摘要： 내용없음

6. 发明公开

KR20180071451A 식각액 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180071451A
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：KR20160173549
申请日：2016-12-19
申请人： SAMSUNG DISPLAY CO LTD , DONGJIN SEMICHEM CO LTD
发明人： KIM BONG KYUN , JEONG JAE WOO , PARK HONG SICK , KIM GYU PO , SHIN HYUN CHEOL , LEE SANG HYUK
IPC分类号： C23F1/18 , C09K13/06 , C23F11/14 , C23F11/16 , G02F1/1368 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/3213 , H01L29/66
摘要： 일실시예에따른식각액조성물은과황산염 8 중량% 내지 20 중량%, 인산또는아인산 0.1 중량% 내지 10 중량%, 인산염화합물 0.1 중량% 내지 5 중량%, 1 질소계고리형화합물 0.1 중량% 내지 6 중량%, 술폰산화합물 0.1 중량% 내지 5 중량%, 아졸계화합물 0.1 중량% 내지 2 중량% 및잔량의물을포함하고, 상기아졸계화합물과 1 질소계고리형화합물의함량비가 1:1 내지 1:2이다.

7. 发明授权

KR101808896B1 구리 및 구리 합금용 표면 처리 조성물 및 그의 활용 有权
标题翻译：铜及铜合金表面处理组合物及其应用
公开(公告)号：KR101808896B1
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：KR1020137034013
申请日：2012-05-23
申请人： 시코쿠가세이고교가부시키가이샤
发明人： 히라오,히로히코 , 야마지,노리아키 , 나카니시,마사토 , 무라이,타카유키
IPC分类号： C23C22/52 , C23F11/14 , C23F11/16 , B23K35/36 , C07D233/64 , H05K3/28
CPC分类号： B23K1/20 , B01D2252/20473 , B23K1/0016 , B23K1/203 , B23K35/36 , B23K35/3615 , B23K2201/42 , C07D233/64 , C23C22/52 , C23F11/149 , C23F11/165 , H05K1/09 , H05K3/282
摘要： 이미다졸화합물을포함하는구리또는구리합금용표면처리조성물및 인쇄배선기판에대한전자부품의솔더링에상기조성물을사용하기위한수단이개시된다.
摘要翻译：公开了一种用于铜或铜合金的表面处理组合物，其包含咪唑化合物和使用该组合物将电子元件焊接到印刷线路板上的方法。

8. 发明公开

KR1020150063013A 표면 처리 용액 审中-实审
标题翻译：表面处理解决方案
公开(公告)号：KR1020150063013A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：KR1020140169685
申请日：2014-12-01
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 요모지다코이치
IPC分类号： C23F11/16
CPC分类号： C25D3/48 , C23C22/05 , C23C22/60 , C23F11/10 , C23F11/161 , C25D5/48 , H05K3/282 , H05K2203/122
摘要： 금또는금 합금도금막상에발생되는핀홀로부터하부(underlyiing) 금속또는기재금속의부식을효과적으로억제하는금 또는금 합금도금막용표면처리용액및 처리방법이제공된다. 디설파이드화합물을함유하는표면처리용액이금 또는금 합금도금막과접촉된다. 그러한디설파이드화합물로는하기화학식 (2)로표시되는디설파이드화합물이바람직하다:상기식에서, R및 R는독립적으로 1 내지 10개의탄소원자를갖는선형또는분지형알킬렌그룹, 3 내지 10개의탄소원자를갖는환형알킬렌그룹, 또는페닐렌그룹을나타내고; R및 R는독립적으로알킬그룹, 할로겐원자, 히드록시그룹, 또는알콕시그룹으로부터선택된하나이상의치환기에의해치환될수 있으며; X및 X는 1가의양이온을나타낸다.
摘要翻译：提供一种用于金或金合金镀层的表面处理溶液，其能够有效地抑制下面的金属或贱金属被从金或金合金镀层上产生的针孔腐蚀。含有二硫酸盐化合物的表面处理溶液与金或金合金镀层接触，其中二硫酸盐化合物优选由下式（2）表示：X 1，SO 3 S-R 3，-S-S-R 4，SO 3 X 2。式中，R 3和R 4表示独立地包含1-10个碳原子的支链亚烷基，包含3-10个碳原子的环状亚烷基或亚苯基。 R 3和R 4可以被至少一个选自烷基，卤素原子，羟基或烷氧基的取代基取代。 X ^ 1和X ^ 2表示单原子阳离子。

9. 发明公开

KR1020140000161A 방청재료, 방청재료의 제조방법, 및 방청코팅막 有权
标题翻译：抗静电涂料，其制备方法及其相关涂料层
公开(公告)号：KR1020140000161A
公开(公告)日：2014-01-02
申请号：KR1020130070555
申请日：2013-06-19
申请人： 한국과학기술연구원
发明人： 김구대 , 박노경 , 권혁 , 서영식 , 유승건 , 노혁래
IPC分类号： C23F11/08 , C23F11/16
CPC分类号： Y02W30/91 , Y02W30/92 , C23F11/182 , C09D5/08 , C23C4/04
摘要： The present invention relates to an anti-corrosive material, a method of manufacturing an anti-corrosive material, and an anti-corrosive coating film, and the anti-corrosive material includes a fiber shape, a film shape, or a micro-structure shape of a network structure, or includes a modified sulfur having spinnability. The anti-corrosive material is capable of giving excellent properties to the anti-corrosive coating film; making users to work easily; and having an above-normal level of properties in hardening property, saltwater spray resistibility, and weldability etc. Especially, an anti-corrosive material with improved adhesive properties, and a method of manufacturing thereof are provided, and a method of manufacturing an anti-corrosive coating film having quick drying by using thereof is provided.
摘要翻译：本发明涉及一种抗腐蚀材料，一种防腐蚀材料的制造方法和一种防腐蚀涂膜，该防腐蚀材料包括纤维形状，薄膜形状或微结构形状的网络结构，或包括具有可纺性的改性硫。该防腐蚀材料能够对抗腐蚀性涂膜提供优异的性能; 使用户轻松工作; 并且具有高于正常水平的硬化性能，耐盐水喷涂抗性和可焊性等。特别地，提供了具有改进的粘合性能的防腐蚀材料及其制造方法，提供了通过使用其快速干燥的腐蚀性涂膜。

10. 发明授权

KR100025230B1 포장용 대강 및 열연강판용 방청제 제조방법 失效
公开(公告)号：KR100025230B1
公开(公告)日：1988-05-06
申请号：KR1019840008399
申请日：1984-12-27
申请人： 삼정강업주식회사
发明人： 권오훈 , 변우동
IPC分类号： C23F11/16

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