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1. 发明授权

KR101429406B1 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 有权
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR101429406B1
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：KR1020130127814
申请日：2013-10-25
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 조명우 , 이정원 , 하석재 , 조용규
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/26 , G03F7/3064 , G03F7/3071 , G03F7/702 , G03F7/70483
摘要： According to the present invention, provided is an exposure apparatus and an exposure method using the exposure apparatus comprising: a beam irradiation part including a digital micro-mirror to exposure the surface of a substrate coated with a photosensitive material; a detecting sensor adjacent to the beam irradiation part to detect the boundary of a transfer exposure pattern formed on the surface of the substrate; a horizontal transfer part that horizontally transfers the beam irradiation part and the detecting sensor; a transfer table spaced apart from the beam irradiation part and fixing the substrate to horizontally transfer the substrate; and a control part, which controls the shape of a beam emitted by the beam irradiation part, according to input image data, sets an irradiation exposure path according to boundary information of the transfer exposure pattern provided from the detecting sensor, and controls the beam irradiation part and the substrate to be transferred relative to each other according to the irradiation exposure path. According to the exposure apparatus and the exposure method using the exposure apparatus, an exposure process can be performed using only a small amount of image files, so as to simplify an algorithm, thereby saving construction costs of the exposure apparatus. In addition, although the algorithm is simplified, the accuracy of an inclined or curved portion of an exposure pattern can be improved.
摘要翻译：根据本发明，提供了一种使用曝光装置的曝光装置和曝光方法，包括：光束照射部分，包括数字微镜，用于曝光涂布有感光材料的基板的表面; 与所述光束照射部相邻的检测传感器，检测形成在所述基板的表面上的转印曝光图案的边界; 水平传送部分，水平传送束辐射部分和检测传感器; 与所述光束照射部分间隔开的转印台，并固定所述基板以水平地转印所述基板; 以及根据输入图像数据控制由束照射部发射的光束的形状的控制部，根据从检测传感器提供的转印曝光图案的边界信息设定照射曝光路径，并控制光束照射部分以及根据照射曝光路径相对于彼此传送的基板。根据曝光装置和使用曝光装置的曝光方法，可以仅使用少量图像文件进行曝光处理，以简化算法，从而节省曝光装置的构造成本。此外，虽然简化了算法，但是可以提高曝光图案的倾斜或弯曲部分的精度。

2. 发明授权

KR101111455B1 현상장치, 현상방법, 및 현상액 순환방법 有权
标题翻译：开发设备，开发方法和开发者循环方法
公开(公告)号：KR101111455B1
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：KR1020057012944
申请日：2004-10-27
申请人： 도판 인사츠 가부시키가이샤
发明人： 다니와키가주마 , 이케다다케시 , 수쿠나미도모유키 , 마츠모토야스아키 , 다다마사히로 , 후루타니나오키 , 구스노키신야 , 마츠나에다카히사 , 덴마야유타카 , 미하시노리타카 , 치노네히로유키
IPC分类号： G03F7/30 , B01D65/08
CPC分类号： B01D61/145 , B01D61/142 , B01D65/08 , G03F7/3071
摘要： 1) 현상처리가 행해지는 현상조와, 현상액을 수용하는 현상액 순환탱크와, 상기 현상액 순환탱크내의 현상액을 상기 현상조로 보내는 수단과, 상기 현상조에서 현상처리에 사용된 후의 현상액을 상기 현상액 순환탱크로 되돌리는 수단을 구비하는 현상액 순환계, 2) 상기 현상액을 여과액과 농축액으로 분리하는 한외여과 필터, 및 3) 상기 현상액 순환탱크로부터 일부가 꺼내어진 현상액을 수용하는 한외여과 농축액 탱크와, 상기 한외여과 농축액 탱크내의 현상액을 상기 한외여과 필터로 보내는 수단과, 상기 한외여과 필터로 분리된 농축액을 상기 한외여과 농축액 탱크로 되돌리는 수단과, 상기 한외여과 필터로 분리된 여과액을 상기 현상액 순환계로 되돌리는 수단을 구비하는 여과액?농축액 순환계를 구비하는 현상장치.
현상처리, 현상조, 현상액, 현상액 순환탱크, 현상액 순환계, 한외여과 필터, 한외여과 농축액 탱크, 여과액?농축액 순환계.

3. 发明公开

KR1020100039119A 포토레지스트 폐액으로부터 유기용제의 회수 방법 有权
标题翻译：有机溶剂从光催化剂废物的回收方法
公开(公告)号：KR1020100039119A
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：KR1020080098345
申请日：2008-10-07
申请人： 덕산약품공업주식회사
发明人： 홍성택 , 조성훈 , 김상형 , 곽상훈
IPC分类号： G03F7/40
CPC分类号： G03F7/425 , C07H13/04 , C11D7/264 , C11D7/5013 , G03F7/3071 , G03F7/3092 , G03F7/422 , G03F7/426
摘要： PURPOSE: A method for recovering an organic solvent from a photoresist waste solution is provided to prevent a thermal decomposition phenomenon of a water soluble organic amine compound and a polar aprotic solvent from a waste liquid generated in the manufacture of a semiconductor or liquid crystal display. CONSTITUTION: A method for recovering an organic solvent from a waste solution after removing a photoresist when manufacturing a semiconductor or liquid crystal display comprises: a first distillation step for removing a resist by heating the waste solution at 40-200 °C under the pressure of 150 mmHg or less; and a second distillation step for removing moisture by separating and distilling a liquid phase from which the resist is removed at 60-200 °C under the pressure of 100 mmHg or less. A mixed organic solvent consisting of water-soluble amine compound and a polar aprotic solvent is collected from the waste solution.
摘要翻译：目的：提供从光致抗蚀剂废液中回收有机溶剂的方法，以防止在制造半导体或液晶显示器时产生的废液中的水溶性有机胺化合物和极性非质子溶剂的热分解现象。构成：在制造半导体或液晶显示器时，在除去光致抗蚀剂之后从废溶液中回收有机溶剂的方法包括：第一蒸馏步骤，通过在40-200℃的压力下加热废溶液来除去抗蚀剂， 150mmHg以下以及第二蒸馏步骤，通过在100-200mmHg或更低的压力下，在60-200℃下分离和蒸馏除去抗蚀剂的液相来除去水分。从废溶液中收集由水溶性胺化合物和极性非质子溶剂组成的混合有机溶剂。

4. 发明公开

KR1020090094217A 현상액의 농도 조절 방법과 제조 장치 및 현상액 有权
标题翻译：用于调节发展解决方案浓度的方法，用于制定开发解决方案的装置和开发解决方案
公开(公告)号：KR1020090094217A
公开(公告)日：2009-09-04
申请号：KR1020097007043
申请日：2007-11-29
申请人： 미츠비시 가가쿠 엔지니어링 가부시키가이샤
发明人： 타카사키노리히로 , 스기모토켄지 , 타나하시료타 , 반도요시후미 , 노야아츠코 , 타니구치카츠토
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/32 , G03D3/00
CPC分类号： G03D3/00 , G03F7/3071 , G03F7/322
摘要： This invention provides a method for regulating the concentration of a developing solution, which can regulate the alkali concentration of an alkaline developing solution used in a photoresist development process so that high-quality development treatment can be carried out, and an apparatus for preparing the developing solution. In the method for regulating the concentration of a developing solution, the concentration of an alkali in the developing solution and the concentration of a carbonate in the developing solution are specified, and the alkali concentration is regulated based on a previously provided relationship between alkali concentration and carbonate concentration, which can realize such a dissolving capability that can render the CD value obtained by the development treatment constant. The apparatus for preparing a developing solution comprises a preparation tank, a feed line for feeding a developing solution to a development process, a recovery line for receiving a used developing solution, a stock solution feed line for feeding a fresh developing solution stock to the preparation tank, a concentration meter for detecting the concentration of an alkali in the developing solution and the concentration of a carbonate in the developing solution, and a control unit forcontrolling the feed of the developing solution stock based on a specific relation.
摘要翻译：本发明提供了一种调节显影液浓度的方法，该方法可以调节用于光致抗蚀剂显影过程中的碱性显影液的碱浓度，从而可进行高质量的显影处理，以及用于制备显色剂解。在调节显影液浓度的方法中，规定了显影液中碱的浓度和显影液中碳酸盐的浓度，碱浓度根据之前提供的碱浓度和碳酸盐浓度，其可以实现使得通过显影处理获得的CD值恒定的这种溶解能力。用于制备显影液的装置包括制备罐，用于将显影液供给到显影处理的进料管线，用于接收使用的显影液的回收管线，用于将新鲜显影液料料供给到制备物罐，用于检测显影液中碱的浓度的浓度计和显影液中碳酸盐的浓度，以及用于基于特定关系控制显影液原料的供给的控制单元。

5. 发明公开

KR1020080017203A 웨이퍼 현상노즐의 위치조절장치 및 그 방법 失效
标题翻译：调整水轮发展喷嘴位置的装置及其方法
公开(公告)号：KR1020080017203A
公开(公告)日：2008-02-26
申请号：KR1020060079050
申请日：2006-08-21
申请人： 동부일렉트로닉스 주식회사
发明人： 김제일
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3071 , G03F7/3028 , G03F7/70491 , G03F7/70525 , H01L21/6715 , H01L21/67259
摘要： An apparatus and a method for adjusting the position of wafer developing nozzles are provided to prevent the damage of wafer by checking whether distance with a nozzle is in a range in real-time. An apparatus for adjusting the position of wafer developing nozzles includes a nozzle(1), a sensor(130), a controller, and a driver. The nozzle is over a wafer in order to spray developers onto the wafer(20). The sensor, which is installed an edge of the nozzle, measures distance with an edge of the wafer. The controller receives signals from the sensor and determines the distance with the nozzle. The driver adjusts to rise and fall the position of the nozzle according to signals from the controller.
摘要翻译：提供了一种用于调整晶片显影喷嘴位置的装置和方法，以通过检查与喷嘴的距离是否在实时范围内来防止晶片损坏。用于调整晶片显影喷嘴位置的装置包括喷嘴（1），传感器（130），控制器和驱动器。喷嘴在晶片之上，以将显影剂喷涂到晶片（20）上。安装喷嘴边缘的传感器测量与晶片边缘的距离。控制器从传感器接收信号并确定与喷嘴的距离。驾驶员根据来自控制器的信号调节喷嘴的位置。

6. 发明公开

KR1020060001562A 칼라 필터 기판 제조 방법 및 포토 장비 有权
标题翻译：用于制作彩色滤光片基板的方法及其照相装置
公开(公告)号：KR1020060001562A
公开(公告)日：2006-01-06
申请号：KR1020040050701
申请日：2004-06-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 백승한
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/133516 , G03F7/023 , G03F7/3071 , G03F7/3078
摘要： 본 발명은 칼라 필터 기판의 포토 장비에 이용되는 현상액을 일원화함으로써 최소한의 포토 팩업 장비로도 생산력을 극대화할 수 있는 칼라 필터 기판 제조 방법 및 포토 장비를 제공하는 것이다.
이를 위하여, 본 발명의 칼라 필터 기판의 제조 방법은 기판 상에 광차단 금속층을 형성하는 단계와; 상기 광차단 금속층 위에 노볼락계 수지를 기본으로 아크릴계 수지를 포함하는 포지티브 포토레지스트를 형성하고 마스크 노광하는 단계와; 제1 네거티브 현상액을 공급하는 단계와; 상기 제1 네거티브 현상액의 농도를 조절하여 제2 네거티브 현상액을 공급하는 단계와; 상기 제2 네거티브 현상액을 이용하여 상기 노광된 포지티브 포토레지스트를 현상하여 포지티브 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포지티브 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 광차단 금속층을 패터닝하여 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스가 형성된 기판 상에 칼라 네거티브 포토레지스트를 형성하고 마스크 노광하는 단계와; 상기 제1 네거티브 현상액으로 상기 노광된 칼라 네거티브 포토레지스트를 현상하여 칼라 필터를 형성하는 단계를 포함한다.

7. 发明公开

KR1020030049070A 인쇄판 자동 현상기 无效
标题翻译：印刷板自动化开发加工商
公开(公告)号：KR1020030049070A
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：KR1020010079164
申请日：2001-12-14
申请人： 황의성
发明人： 황의성
IPC分类号： G03D5/00
CPC分类号： G03F7/3071 , G03F7/11 , G03F7/3078
摘要： PURPOSE: Provided is an automated developing processor of a printed board which allows an ultrasonic vibrator set at a nozzle part to spray developing solution from the nozzle part and to generate ultrasonic wave so that it helps to improve developing power. CONSTITUTION: In the developing processor which consists of a developing room(10), a washing room(9), a coating room for rubber solution(8) and a drying room(7), the automated developing processor of the printed board comprises the parts of: a nozzle pipe(4) which is connected by more than two supply lines to circulate the developing solution; the ultrasonic vibrator which is set at both sides of the nozzle pipe to jet the developing solution and the ultrasonic wave at the same time; and a washing pipe(2) which is set at the washing room to let washing water sprayed with uniform pressure.
摘要翻译：目的：提供一种印刷电路板的自动显影处理器，其允许设置在喷嘴部分的超声波振动器从喷嘴部分喷射显影液并产生超声波，从而有助于提高显影能力。构成：在由显影室（10），洗涤室（9），橡胶溶液涂布室（8）和干燥室（7）组成的显影处理器中，印刷电路板的自动显影处理器包括部分：喷嘴管（4），其通过两条以上的供应管线连接以使显影液循环; 设置在喷嘴管的两侧的超声波振动器同时喷射显影液和超声波; 以及洗涤管（2），其设置在洗涤室以使洗涤均匀压力的水喷射。

8. 发明公开

KR1020150034605A 노광 장치용의 GUI 장치, 노광 시스템, 노광 조건 설정 방법 및 프로그램 有权
标题翻译：用于曝光装置的GUI装置，曝光系统，用于设置曝光条件和程序的方法
公开(公告)号：KR1020150034605A
公开(公告)日：2015-04-03
申请号：KR1020140112217
申请日：2014-08-27
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 후루카와이타루 , 나카이가즈히로 , 기타무라기요시
IPC分类号： G06F3/048 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70683 , G03F1/44 , G03F7/3071 , G03F7/70483 , G03F7/70691 , G03F7/70991
摘要： 원형상의기판상에매트릭스형상으로배치된블록을조작성좋게선택할수 있으며, 노광조건을설정할수 있는노광장치용의 GUI 장치, 노광시스템, 노광조건설정방법및 프로그램을제공한다. 조작자가조작부에의해, GUI 장치의선택입력영역(210)에원하는정보를입력하면, 기판외형(202)과복수의블록(203)을포함하는초기화면상에, 기판외형(202)과동심원상으로선택원(204)이표시됨과함께, 노광조건을설정해야할 복수의선택블록(206)으로이루어지는선택영역(205)이강조해서표시된다.
摘要翻译：提供了一种用于曝光装置的GUI装置，曝光系统以及设置曝光条件的方法和程序，能够以良好的可操纵性设置放置在矩阵形状的圆形基板上的块，并且设置光暴露条件。当操纵器通过操作部将所需信息输入到GUI装置的选择输入区域（210）时，在包括基板外观（202）的初始屏幕上显示基板外观（202）和同心选择圆（204）并且强调并显示多个块（203）和由多个选择块（206）形成的用于设置曝光条件的选择区域（205）。

9. 发明授权

KR101506213B1 매엽식 감광성 수지막 제거장치 有权
标题翻译：单晶片型感光性树脂膜除去装置
公开(公告)号：KR101506213B1
公开(公告)日：2015-03-27
申请号：KR1020140160775
申请日：2014-11-18
申请人： 주식회사 엘피케이
发明人： 한표영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/42 , G03F7/3071 , G03F7/70933 , H01L21/6715 , H01L21/67207 , H01L21/67242
摘要： 본 발명은 매엽식 감광성 수지막 제거장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 제거 대상인 감광성 수지막(C)이 제거되는 공정챔버부(10)와, 기상 또는 액상의 오존, 불산수, 수소원자수, 순수 등의 약액을 공급하는 챔버공급부(20)가 구비되고, 상기 공정챔버부(10)와 챔버공급부(20)를 제어하는 센서부(30)와 컨트롤러(40)가 구비됨으로써, 반도체, 엘씨디(LCD), 오엘이디(OLED), 엘이디(LED), 포토마스크 등의 제조를 위한 사진공정에서 이용된 감광성 수지막과 잔존하는 잔사를 제거토록 다종의 약액을 챔버공급부에서 순서에 따라 공급하여 제거하는 매엽식 감광성 수지막 제거장치에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及用于除去感光性树脂膜的单晶片型器件。更具体地，该装置包括：处理室单元（10），其中去除要去除的感光性树脂膜（C）; 用于供应诸如气体或液体臭氧，氢氟酸水，氢原子水和纯水的药液的腔室供应单元（20）; 以及用于控制处理室单元（10）和室供应单元（20）的传感器单元（30）和控制器（40）。各种药液从要被除去的室供给单元顺序地供给，以便除去用于制造半导体，LCD，OLED，LED和光掩模的光刻工艺中使用的感光性树脂膜和剩余的残留物。

10. 发明公开

KR1020120025567A 기판처리방법 失效
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：KR1020120025567A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：KR1020120005202
申请日：2012-01-17
申请人： 가부시키가이샤 스크린 세미컨덕터 솔루션즈
发明人： 오구라히로유키 , 미츠하시츠요시 , 후쿠토미요시테루 , 모리니시켄야 , 카와마츠야스오 , 나가시마히로미치
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67225 , B05C9/12 , B05C9/14 , B05C13/00 , B05C13/02 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67196 , H01L21/67276 , H01L21/67742 , G03F7/162 , G03F7/3042 , G03F7/305 , G03F7/3071 , H01L21/67718 , H01L21/67727 , H01L21/67748
摘要： PURPOSE: A method for processing a substrate is provided to simultaneously perform two different processing processes by changing processing processes for each substrate. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus includes an indexer part, a processing part(3), and an interface part. A resist layer is formed on a substrate(W) at each multiple layer. A developing process is performed on the substrate at each multiple layer. The multiple layer is installed in the processing part. A controller changes a processing process on a substrate at each substrate processing raw.
摘要翻译：目的：提供一种处理衬底的方法，通过改变每个衬底的处理过程来同时执行两种不同的处理过程。构成：衬底处理装置包括分度器部分，处理部分（3）和接口部分。在每个多层的基板（W）上形成抗蚀剂层。在每个多层的基板上进行显影处理。多层安装在处理部分。控制器在每个基板处理原料处改变基板上的处理过程。

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