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1. 发明授权

KR1019940002542B1 감광재 처리장치 无效
标题翻译：感光材料处理设备
公开(公告)号：KR1019940002542B1
公开(公告)日：1994-03-25
申请号：KR1019870001073
申请日：1987-02-10
申请人： 노오리쓰고오끼가부시끼가이샤
发明人： 니시모도간이찌
IPC分类号： G03C3/00
CPC分类号： G03D13/043 , G03D3/06
摘要： 내용 없음.

2. 发明授权

KR100876128B1 현상처리방법 및 현상액도포장치 有权
标题翻译： 현상처리방법및현상액도포장치
公开(公告)号：KR100876128B1
公开(公告)日：2008-12-29
申请号：KR1020020050805
申请日：2002-08-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 요시하라코우스케 , 타나카케이이치 , 야마모토타로 , 쿄우다히데하루 , 타케구치히로푸미 , 오코우치아츠시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , G03D3/06 , G03F7/3021
摘要： In a developing processing of a wafer having a resist film low in the dissolving rate in a developing solution formed thereon and subjected to an exposure treatment, a developing solution of a low concentration is supplied first onto a wafer and the wafer is left to stand for a prescribed time to permit a developing reaction to proceed, followed by further supplying a developing solution having a concentration higher than that of the developing solution supplied first onto the wafer, leaving the substrate to stand and subsequently rinsing the wafer, thereby improving the uniformity of the line width in the central portion and the peripheral portion of the wafer.
摘要翻译：在具有在其上形成的显影液中的溶解速率低的抗蚀剂膜并进行曝光处理的晶片的显影处理中，首先将低浓度的显影液供应到晶片上并且将晶片放置进行规定的时间以允许显影反应进行，随后进一步将浓度高于首先供给的显影溶液的浓度的显影液供给到晶片上，留下基板并随后漂洗晶片，由此提高晶片的均匀性晶片中央部分和周边部分的线宽。

3. 发明公开

KR1020040042875A 현상방법 및 현상장치 失效
标题翻译：开发方法和开发设备，能够减少使用的开发流体的数量
公开(公告)号：KR1020040042875A
公开(公告)日：2004-05-20
申请号：KR1020030080297
申请日：2003-11-13
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 노무라마사푸미 , 시노기타케토라
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03D3/065 , G03D3/06 , G03F7/30 , G03F7/3071 , H01L21/6715 , H01L21/67253
摘要： PURPOSE: A developing method and a developing apparatus are provided to guarantee a uniformity of a developing fluid when at the developing fluid is recycled. CONSTITUTION: A processing unit(126) performs a development process to dissolve an unnecessary portion of a photoresist film on a substrate. The development process is performed by using an alkaline developing fluid. A collector(108) collects the developing fluid used in the development process at the processing unit. A resist concentration measurer(222) measures a resist-concentration of the collected developing fluid. An alkaline-concentration calculator calculates an alkaline-concentration corresponding to a measured value of the resist-concentration required for realizing a uniformity in the development process. A developing fluid combiner(186) controls the component of the developing fluid in order to accomplish the calculated alkaline concentration. A developing fluid supplier(220) provides the processing unit with the developing fluid whose components has been controlled in the developing liquid combiner.
摘要翻译：目的：提供显影方法和显影装置，以在显影液被再循环时保证显影液的均匀性。构成：处理单元（126）执行显影处理以将光致抗蚀剂膜的不需要部分溶解在基板上。显影过程通过使用碱性显影液进行。收集器（108）在处理单元处收集在显影过程中使用的显影液。抗蚀剂浓度测量器（222）测量所收集的显影液的抗蚀剂浓度。碱浓度计算器计算对应于在显影过程中实现均匀性所需的抗蚀剂浓度的测量值的碱浓度。显影液合成器（186）控制显影液的成分，以达到计算出的碱浓度。显影液供应器（220）为处理单元提供其组分已被控制在显影液合并器中的显影液。

4. 发明公开

KR1020030019138A 현상처리방법 및 현상액도포장치 有权
标题翻译：用于开发加工的方法和用于提供开发解决方案的装置
公开(公告)号：KR1020030019138A
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：KR1020020050805
申请日：2002-08-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 요시하라코우스케 , 타나카케이이치 , 야마모토타로 , 쿄우다히데하루 , 타케구치히로푸미 , 오코우치아츠시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/6715 , G03D3/06 , G03F7/3021
摘要： PURPOSE: A method for developing processing and an apparatus for supplying developing solution are to provide an appropriate method for a developing processing conforming to the characteristics of the resist material relative to the developing solution. CONSTITUTION: A method for a developing processing of a resist film comprises steps of adjusting the concentration of a developing solution in accordance with the characteristics of the resist film and applying a developing processing to the resist film using the concentration-adjusted developing solution.
摘要翻译：目的：开发处理方法和提供显影液的设备是提供一种适用于与抗蚀剂材料相对于显影液的特性一致的显影处理的方法。构成：抗蚀剂膜的显影处理方法包括根据抗蚀剂膜的特性调节显影液的浓度并使用浓度调节显影液对抗蚀剂膜进行显影处理的步骤。

5. 发明公开

KR1020140093482A 은염 유제 처리된 홀로그램 기록재료의 현상장치 审中-实审
标题翻译：用于银盐处理的全息记录介质的开发设备
公开(公告)号：KR1020140093482A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：KR1020130005918
申请日：2013-01-18
申请人： (주)한교홀로그램
发明人： 옥광호 , 박성철 , 김대현 , 임지윤 , 김경환
IPC分类号： G03H1/04 , G03D3/08
CPC分类号： G03D3/08 , G03D3/06 , G03D15/02 , G03H1/04
摘要： The present invention provides an apparatus for developing a hologram recording material, including: a main body comprising an accommodation space therein; a guide part to which a silver halide particle recording material is put, wherein a hologram image is created in the silver halide particle recording material; a development treatment part located on the upper part of the accommodation space of the main body adjacent to the guide part; a first washing part which is adjacent to the development treatment part in order for the recording material delivered through the development treatment part to be rinsed by water filled in a container; a bleach treatment part which is adjacent to the first washing part in order for the recording material delivered through the first washing part to be bleached by a bleaching solution filled in the container; a second washing part which is adjacent to the bleach treatment part in order for the recording material delivered through the bleach treatment part to be rinsed by water filled in the container; a drying part located on another side of the main body adjacent to the second washing part in order for the recording material delivered through the second washing part to be dried by a heater; and a control part which senses a signal of each temperature sensor, and is located below the guide part in order to control each heater and the guide roller operation.
摘要翻译：本发明提供了一种用于显影全息记录材料的设备，包括：主体，其中包括容纳空间; 放置卤化银颗粒记录材料的引导部分，其中在卤化银颗粒记录材料中产生全息图像; 显影处理部，位于与所述引导部相邻的所述主体的容纳空间的上部; 第一洗涤部分，其与显影处理部分相邻，以便通过显影处理部分输送的记录材料被填充在容器中的水冲洗; 漂白处理部分，其与第一洗涤部分相邻，以使通过第一洗涤部分输送的记录材料被填充在容器中的漂白溶液漂白; 与漂白处理部分相邻的第二洗涤部分，以便通过漂白处理部分输送的记录材料被填充在容器中的水冲洗; 位于主体的与第二清洗部相邻的另一侧的干燥部，以使通过第二洗涤部输送的记录材料被加热器干燥; 以及控制部分，其感测每个温度传感器的信号，并且位于引导部分下方，以便控制每个加热器和导辊操作。

6. 发明授权

KR100458716B1 치과용엑스선필름현상기 失效
标题翻译：牙科X光胶片显影机
公开(公告)号：KR100458716B1
公开(公告)日：2005-05-24
申请号：KR1019980701794
申请日：1997-09-05
申请人： 닉스 컴파니 리미티드
发明人： 다나카,히로유키
IPC分类号： G03D3/13
CPC分类号： G03D3/06 , G03D3/00 , G03D3/132 , G03D13/003
摘要： 현상기는 샤시에 현상탱크와 정착탱크 및 수세탱크가 설치된 샤시블록(300)과, 이 샤시블록(300)의 상부에 탈착가능하게 장착된 기판블록(200) 및, 이 기판블록(200)의 상부에 탈착가능하게 장착된 로울러블록(100)으로 구성되고, 상기 로울러블록(100)은 현상과 정착 및 수세 처리공간을 각각 형성하는 로울러쌍으로 구성되며, 상기 기판블록(200)의 기판(201)에는 고장발생이 예상되거나 전혀 예상되지 않는 각 부품이 모두 고정되는데, 이들 부품으로는 제어박스(210)와, 로울러를 구동하는 구동모터, 온풍팬(213) 및, 펌프모터 등이 포함되며, 고장발생시에는 기판블록(200)이 교환된다.

7. 发明授权

KR100249271B1 처리액 공급방법 및 기판 처리장치 失效
标题翻译：处理解决方案供应方法和基板处理设备
公开(公告)号：KR100249271B1
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019970005165
申请日：1997-02-20
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 오오타니마사미 , 후쿠토미요시테루
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： G03D3/06
摘要： 기판 처리장치가, 기판에 소정 처리액을 공급하여 소정의 기판처리를 행하는 기판 처리스테이션과 상기 기판 처리스테이션에 가스 압력하에서 압송방식으로 처리액을 공급하는 적어도 하나의 처리액 공급기구를 포함한다. 처리액 공급기구는 처리액 저장조, 가압기구, 압력개방기구 및 처리액의 공급을 선택적으로 허용 및 정지시키는 밸브를 구비한다. 처리액 저장조의 가압은 동일 처리액으로 연속 처리될 복수의 기판을 포함하는 하나의 로트 내의 최초 기판에 처리액이 공급되기 전의 소정시간에 시작된다. 또한, 그 로트 내의 마지막 기판에 처리액의 공급이 정지되는 시점 또는 이보다 소정의 나중 시점에 기초하여 저장조로부터 압력이 개방된다. 이러한 제어는 로트단위로 이루어진다. 따라서, 높은 제조원가를 유발하는 고가의 가스를 사용하지 않아도, 처리액 내의 용해되는 가스량을 줄일 수 있다.

8. 发明授权

KR1019940002543B1 디스크필름 처리카세트 无效
标题翻译：光盘胶片处理盒
公开(公告)号：KR1019940002543B1
公开(公告)日：1994-03-25
申请号：KR1019870001074
申请日：1987-02-10
申请人： 노오리쓰고오끼가부시끼가이샤
发明人： 니시모도간이찌
IPC分类号： G03C3/00
CPC分类号： G03D13/043 , G03D3/06
摘要： 내용 없음.

9. 发明公开

KR20180011732A 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR20180011732A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：KR20170093466
申请日：2017-07-24
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/67028 , G03D3/06 , G03F7/16 , H01L21/302 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/67265
摘要： 기판을처리액으로처리하는기판처리장치로서, 기판유지부, 외컵, 내컵을구비하고, 상기내컵은, 내컵본체, 내컵배출구를구비하며, 상기외컵은, 외컵본체, 외하측컵, 제1 배액구, 제1 배기구, 제2 배액구, 제2 배기구, 분리격벽을구비하고, 승강가능하게장착된환상부재, 상기환상부재를승강시키며, 상기내컵본체를회수위치와, 퇴피위치에걸쳐서이동시키는구동부를구비한다.
摘要翻译：公开了一种用处理液处理基板的基板处理设备。该设备包括衬底支架，外部杯和内部杯。内杯包括内杯体和内杯出口。外部杯包括外部杯体，外部底部杯，第一排出口，第一排出口，第二排出口，第二排出口和分离隔板。该设备还包括可向上/向下移动的环形构件以及驱动单元，该驱动单元使环形构件移动以使内部杯体在收集位置和缩回位置之间移位。

10. 发明授权

KR101035465B1 현상방법 및 현상장치 失效
标题翻译：发展方法和发展手段
公开(公告)号：KR101035465B1
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：KR1020030080297
申请日：2003-11-13
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 노무라마사푸미 , 시노기타케토라
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03D3/065 , G03D3/06 , G03F7/30 , G03F7/3071 , H01L21/6715 , H01L21/67253
摘要： 본 발명은 현상방법 및 현상장치에 관한 것으로, 농도측정부(222)는 조합탱크(186)내의 현상액을 일부 채취해서, 흡광광도법에 의해 레지스트농도를 측정하고, 측정결과(레지스트농도 측정치)를 제어부(240)에 보낸다. 제어부(240)는 조합탱크(186)내의 현상액의 TMAH농도가 현상레이트를 일정하게 유지하기 위한 레지스트농도 측정치에 대응하는 TMAH농도치가 되도록, TMAH원액공급관(200), 용매공급관(204) 및 드레인관(208)의 각각의 개폐밸브(210, 212, 216)를 제어해서, 현상액의 성분조정을 행한다. 조합탱크(186)로부터 공급탱크(188)에 옮겨진 현상액은 펌프(228)의 구동에 의해 현상액 공급관(224)을 통해 현상처리부(126)의 현상액 노즐(DN)에 송부된다. 따라서, 현상처리에 있어서 현상액을 다수회 재활용해도 현상 균일성을 확보할 수가 있는 기술을 제공하는 데에 있다.

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