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1. 发明授权

KR100636009B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR100636009B1
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：KR1020030029229
申请日：2003-05-09
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 후쿠토미요시테루 , 요시오카카츠시 , 아나가키유키히코
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67017
摘要： 처리부를 높이 방향으로 다단 적층한 때에도 장치 전체의 높이가 현저히 커지는 것을 억제함과 함께, 각 처리부에 충분한 정도(精度)로 온도관리된 공기를 공급할 수 있는 기판처리장치를 제공한다.
도포처리유닛(SC4 ~ SC6)과 공조유닛(ACU1)과는 다기관(多岐管)(10)에 의하여 연통접속(連通接續)되어 있다. 다기관(10)은, 공통배관(10a)이 복수의 분배관(10b)으로 분기하여 형성되어 있다. 공조유닛(ACU1)이 다기관(10)의 분기점을 통과하는 공기의 온도가 처리유닛에서의 목표온도보다도 약간 낮은 온도로 되도록 온도조정을 행한다. 그리고, 2차 가열기(45)가 분배관(10b)과 처리유닛과의 접속부분을 통과하는 공기의 온도가 목표온도로 되도록 2차 가열을 행함으로써 우수한 정도(精度)로 온도관리된 공기를 처리부에 공급한다. 또한, 공조유닛(ACU1)으로부터의 공기를 분류함으로써 장치 전체의 높이를 억제한다.
기판,처리,공통배관,분배관,다단,적층
摘要翻译：本发明提供一种基板处理装置，即使处理单元在高度方向上层叠多层，并向各处理单元以足够的程度（精度）供给温度控制后的空气，也能够抑制装置整体的高度显着上升。

2. 发明授权

KR100171866B1 기판처리장치 失效
标题翻译：基板处理系统
公开(公告)号：KR100171866B1
公开(公告)日：1999-03-30
申请号：KR1019950016058
申请日：1995-06-16
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 사사다시게루 , 아오키가오루 , 고다마미츠마사 , 스기모토겐지 , 후쿠토미요시테루 , 이노우에히데카즈
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67276 , Y10S414/135 , Y10S414/137
摘要： 본 발명에 의한 장치는 열처리부를 포함하는 제1처리부 그룹을 액세스하는 제1반송로보트(고온로보트)를 비열처리부 만을 액세스하는 제2반송로보트(저온로보트)와 분리시키기 위한 구성을 가지고 있다. 피처리기판의 순환반송 동안 열처리부에서 발생된 열이 비열처리부로 흘러 들어가는 것이 방지된다. 반도체 웨이퍼는 핫 플레이트함하는 제1처리부 그룹과 핫 플레이트를 포함하지 않는 제2처리부 그룹 사이에서 하나씩 순환되어 각 처리부에서 동시에 처리된다. 고온로보트는 제1처리부 그룹을 액세스하지만, 저온로보트는 제2처리부 그룹을 액세스한다. 2개 로보트 사이의 반도체 웨이퍼의 이송은 쿨 플레이트를 사용하여 형성된 이송부에서 실행된다. 저온로보트는 열처리를 받지 않기 때문에 제2처리부 그룹에 포함되어 있는 비열처리부에서의 온도는 저온로보트가 비열처리부를 액세스할 때라도 안정하게 된다.

3. 发明授权

KR100087763B1 기판처리장치간의 기판수도용 인터페이스 장치 失效
公开(公告)号：KR100087763B1
公开(公告)日：1995-08-08
申请号：KR1019910012615
申请日：1991-07-23
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 오오타니마사미 , 오카요시지 , 오카모토다께오 , 후쿠토미요시테루
IPC分类号： H01L21/68

4. 发明授权

KR100315007B1 카세트내의 기판 검출 및 반송장치와 그 방법 失效
公开(公告)号：KR100315007B1
公开(公告)日：2002-02-28
申请号：KR1019960052831
申请日：1996-11-08
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 오카요시지 , 후쿠토미요시테루 , 이타바마사유키 , 고야마야스후미 , 유게도시야
IPC分类号： H01L21/68
摘要： 기판 검출장치는 카세트를 사이에 두고 서로 대향하도록 배치된 투광소자와 수광소자를 포함하는 광 센서유니트와, 상기 광 센서유니트와 상기 카세트중 적어도 하나를 상대적으로 수직방향으로 이동시키는 수직구동수단 및, 상기 광 센서유니트와 상기 카세트중 적어도 하나가 상대적으로 수직방향으로 이동할 때 상기 광 센서유니트에 의해 발생된 출력신호의 파형에 기초해서 상기 카세트내에 수용된 각 기판의 수직위치 범위를 검출하는 기판위치 검출수단을 구비한다. 기판 반송장치는 상기 카세트에 수용된 한쌍의 기판 사이의 수직 간격을 측정하는 간격측정수단 및, 상기 수직간격이 소정의 임계치보다 작을 때 경사 궤적을 따라 반송함을 상승시키면서 상기 한쌍의 기판 사이로 상기 반송함을 삽입하는 암 구동수단을 구비한다.

5. 发明授权

KR100274485B1 기판처리장치 및 기판처리장치에서의 에어공급방법 失效
标题翻译：基板加工设备中的基板加工设备和空气供应方法
公开(公告)号：KR100274485B1
公开(公告)日：2000-12-15
申请号：KR1019960055653
申请日：1996-11-20
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 요시오카가츠시 , 후쿠토미요시테루 , 스기모토겐지
IPC分类号： H05K3/00
CPC分类号： B05C15/00 , B05C11/08
摘要： 속도조절판이 외부 에어와 격리된 기판처리장치 내부의 기판처리부 위에 마련된다. 따라서, 장치 내부의 조절된 에어에 의해 형성된 다운플로가 고속 및 저속의 다운플로로 분리되어 각각 기판처리부와 기판처리부의 주변으로 공급된다. 결과적으로, 앞의 다운플로는 기판 표면의 온습도를 조절하고 기판으로부터 흩뿌려진 처리액의 입자 및 미세 분말이 기판에 부착되는 것을 방지하기에 적당한 속도를 가지며, 뒤의 다운플로는 먼지와 입자가 분산에 의해 올라오는 것을 방지하는데 필요한 최소한의 속도로 억제된다. 따라서, 온습도가 조절된 에어의 소모를 감소하면서 장치 내부를 외부 에어로부터 격리시키는 것이 가능하다.

6. 发明公开

KR1019980032325A 기판처리장치 无效
公开(公告)号：KR1019980032325A
公开(公告)日：1998-07-25
申请号：KR1019970042238
申请日：1997-08-28
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 오오타니마사미 , 후쿠토미요시테루
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 온도의 조정이 용이하고, 기판의 품질관리를 행하기 쉬운 기판처리장치를 제공한다.
기판은 미리 정해진 처리순서에 따라 반송, 처리된다. 이 처리순서에 대응하는 웨이퍼 플로에, 동등의 기능을 가지는 복수의 기판처리부로 이루어지는 부분(병행처리부)이 복수 존재하는 경우에는, 어떤 병행처리부의 1개의 기판처리부를 다른 병행처리부를 구성하는 1개의 기판처리부와 1대1로 고정적으로 대응시킴으로써 복수의 병렬 반송경로가 설정된다. 그리고, 기판이 순환 반송될 때, 예컨대, 경로 1이 선택된 경우에는, 그 기판은 핫 플레이트(HP1)로 반입된 후, 반드시 쿨 플레이트(CP1), 스핀 디벨로퍼(SD1), 핫 플레이트(HP3)의 순으로 반송되어, 일련의 처리가 행해진다.

7. 发明授权

KR1019970000698B1 기판반송장치 失效
标题翻译：半导体基板的传输装置
公开(公告)号：KR1019970000698B1
公开(公告)日：1997-01-18
申请号：KR1019920022246
申请日：1992-11-24
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 후쿠토미요시테루 , 오오타니마사미 , 오카모토다케오
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67769 , H01L21/67766 , H01L21/6838
摘要： 내용 없음.

8. 发明公开

KR1019960002495A 기판처리장치 失效
公开(公告)号：KR1019960002495A
公开(公告)日：1996-01-26
申请号：KR1019950016058
申请日：1995-06-16
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 사사다시게루 , 아오키가오루 , 고다마미츠마사 , 스기모토겐지 , 후쿠토미요시테루 , 이노우에히데카즈
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본 발명에 의한 장치는 열처리부를 포함하는 제1처리부 그룹을 액세스하는 제1반송로보트(고온로보트)를 비열처리부를 액세스하는 제2로보트(저온로보트)와 분리시키기 위한 구성을 가지고 있다. 피처리기판의 순환반송 동안 열처리부에서 발생된 열이 비열처리부로 흘러 들어가는 것이 방치된다. 반도체 웨이퍼는 핫 플레이트 함하는 제1처리부 그룹과 핫 플레이트를 포함하지 않는 제2처리부 그룹 사이에서 하나씩 순환되어 각 처리부에서 동시에 처리된다. 고온로보트는 제1처리부 그룹을 액세스하지만, 저온로보트는 제2처리부 그룹을 액세스한다. 2개 로보트 사이의 반도체 웨이퍼 사이의 이송은 쿨 플레이트를 사용하여 형성된 이송부에서 실행된다. 저온로보트는 열처리를 받지 않기 때문에 제2처리부 그룹에 포함되어 있는 비열처리부에서의 온도는 저온로보트가 비열처리부를 액세스할 때라도 안정하게 된다.

9. 发明公开

KR1019970032312A 기판처리장치 및 기판처리장치에서의 에어공급방법 失效
标题翻译：在衬底处理设备和衬底处理设备中供应空气的方法
公开(公告)号：KR1019970032312A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019960055653
申请日：1996-11-20
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 요시오카가츠시 , 후쿠토미요시테루 , 스기모토겐지
IPC分类号： H05K3/00
摘要： 속도조절판이 외부 에어와 격리된 기판처리장치 내부의 기판처리부 위에 마련된다. 따라서 장치 내부의 조절된 에어에 의해 형성된 다운플로가 고속 및 저속의 다운플로로 분리되어 각각 기판처리부와 기판처리부의 주변으로 공급된다. 결과적으로, 앞의 다운플로는 기판 표면의 온습도를 조절하고 기판으로부터 흩뿌려진 처리액의 입자 및 미세 분말이 기판에 부착되는 것을 방지하기에 적당한 속도를 가지며, 뒤의 다운플로는 먼지와 입자가 분산에 의해 올라오는 것을 방지하는데 필요한 최소한의 속도로 억제된다. 따라서, 온습도가 조절된 에어의 소모를 감소하면서 장치 내부를 외부 에어로부터 격리시키는 것이 가능하다.

10. 发明公开

KR1019970014491A 기판의 회전처리 방법 및 그 장치 失效
标题翻译：用于旋转衬底的方法和设备
公开(公告)号：KR1019970014491A
公开(公告)日：1997-03-29
申请号：KR1019960033688
申请日：1996-08-14
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 요시오카가츠시 , 후쿠토미요시테루 , 미츠하시츠요시 , 스기모토겐지
IPC分类号： B05C11/08
摘要： 비산 방지컵의 세정능력이 높고, 세정기구등의 착탈 조작이 불필요하며, 게다가 통상의 기판 회전처리시에는 스핀천만을 저토크에서 양호하게 회전 구동할 수 있는 기판의 회전처리방법 및 장치를 개새하고 있다. 통상의 기판회전처리시에는 컵 세정부재는 스핀척의 회전축과 분리되어 스핀천만이 회전구동된다. 컵 세정시에는 스핀척과 비산 방지컵을 상대 승강시킴으로써 컵 세정부재를 컵 세정높이에 위치시킴과 동시에, 컵 세정부재를 회전 전달부를 통하여 회전축에 걸어맞추어 연결한다. 이 상태에서 컵 세정부재를 회전시킴과 동시에 세정액 공급노즐에서 컵 세정부재의 세정액 안내부에 공급된 세정액을 원심력에 의해 비산시켜 비산 방지컵의 내면을 세정한다.

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