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1. 发明公开

KR1020130048151A 변위 검출 장치 审中-实审
标题翻译：位移检测装置
公开(公告)号：KR1020130048151A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：KR1020120117098
申请日：2012-10-22
申请人： 디엠지 모리 가부시키가이샤
发明人： 다미야히데아키
IPC分类号： G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02018 , G01B9/02022 , G01B9/02081 , G01B2290/70
摘要： PURPOSE: A displacement detecting device is provided to controls heat generated when using the device, and to reduce a service condition. CONSTITUTION: A displacement detecting device(1) comprises a light source(2), a beam splitting unit(3), a diffraction grating(4), a reflecting body(6), a beam joining unit, a light receiving part(8), and a relative position information output unit(10). The beam splitting unit splits lights emitted by the light source into a first beam becoming incident into a target measurement member and a second beam utilized as reference lights. The diffraction grating is split by the beam splitting unit, diffracts the first beam reflected by a target measurement surface of the target measurement member, and makes the diffracted first beam incident into the target measurement surface of the target measurement member again. The reflecting unit reflects the second beam split by the light splitting unit. The beam joining unit mutually overlaps the first beam diffracted by the diffracting grating and reflected by the measurement surface again and the second beam reflected by the reflecting unit. The light receiving unit receives the coherent lights of the first and second beams overlapped by the beam joining unit. [Reference numerals] (10) Relative position information output unit
摘要翻译：目的：提供一种位移检测装置，用于控制使用装置时产生的热量，并减少使用条件。构成：位移检测装置（1）包括光源（2），分束单元（3），衍射光栅（4），反射体（6），光束接合单元，光接收部分（8））和相对位置信息输出单元（10）。分束单元将由光源发射的光分成入射到目标测量构件中的第一光束和用作参考光的第二光束。衍射光栅由分束单元分裂，衍射由目标测量部件的目标测量表面反射的第一光束，并使衍射的第一光束再次入射到目标测量部件的目标测量表面。反射单元反射由分光单元分裂的第二光束。光束接合单元与由衍射光栅衍射的第一光束相互重叠并由测量表面再次反射，并且由反射单元反射的第二光束相互重叠。光接收单元接收由光束接合单元重叠的第一和第二光束的相干光。（附图标记）（10）相对位置信息输出单元

2. 发明公开

KR1020090118852A 간섭계 有权
标题翻译：干涉
公开(公告)号：KR1020090118852A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：KR1020090041024
申请日：2009-05-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가토시게키
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/00 , G02B13/00
CPC分类号： G01B9/02018 , G01B9/02059 , G01B11/14
摘要： PURPOSE: An interferometer is provided to obtain maximum interference strength and obtain displacement information of an object to be measured from light reflected twice from a reference mirror and a measurement mirror. CONSTITUTION: An interferometer comprises a light splitting element, a reference mirror(4a), a measurement mirror(4b), and an optical system(6). The interferometer more comprises a reflector element(5) and a light receiving element(16). The light splitting element divides the light of a light source into reference light and measurement light. The reference mirror reflects the reference light incident from the first direction. The measurement mirror reflects the measurement light incident from the second direction. The optical system interposes the light splitting element. The reflection light of the reference mirror and the measurement mirror is incident to the optical system.
摘要翻译：目的：提供干涉仪以获得最大的干涉强度，并从从参考反射镜和测量镜反射两次的光线获得待测物体的位移信息。构成：干涉仪包括光分离元件，参考反射镜（4a），测量镜（4b）和光学系统（6）。干涉仪还包括反射器元件（5）和光接收元件（16）。光分离元件将光源的光分成参考光和测量光。参考镜反射从第一方向入射的参考光。测量镜反射从第二方向入射的测量光。光学系统插入光分离元件。参考反射镜和测量镜的反射光入射到光学系统。

3. 发明授权

KR101227763B1 물체의 각변위를 간섭계에 의해 측정하기 위한 장치 및 방법 失效
标题翻译：旋转干涉仪
公开(公告)号：KR101227763B1
公开(公告)日：2013-01-29
申请号：KR1020100138019
申请日：2010-12-29
申请人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
发明人： 예라즈니스윌리엄에스 , 워터스리차드씨
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/26
CPC分类号： G01B9/02018 , G01B9/02056 , G01B9/02081 , G01B11/26 , G01B2290/15 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要： 레이저 빔을 참조 빔과 측정 빔으로 분할함으로써 물체의 각변위가 간섭계에 의해 측정된다. 참조 빔은 고정된 참조 재귀반사기로 향하고, 이어서 위상 시프트 검출기로 향한다. 측정 빔은 물체의 회전가능한 반사면으로 향하고, 이어서 고정된 측정 재귀반사기로 향하며, 이어서 회전가능한 반사면으로 되돌아가고, 이어서 위상 시프트 검출기로 향하며, 그 결과 위상 시프트 검출기는, 회전가능한 반사면이 변위될 때 측정 빔의 경로 길이가 변할 때의 회전가능한 반사면의 각변위를 측정한다.

4. 发明公开

KR1020020086239A 형상 측정장치 및 방법 失效
标题翻译：形状测量装置和方法
公开(公告)号：KR1020020086239A
公开(公告)日：2002-11-18
申请号：KR1020020024907
申请日：2002-05-07
申请人： 파나소닉 주식회사
发明人： 구보게이시 , 이마다유키오 , 다케우치히로유키 , 한다고우지 , 요시즈미게이이치
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B9/02023 , G01B9/02018 , G01B9/02031 , G01B11/026 , G01B2290/70
摘要： PURPOSE: To facilitate measuring thickness variation in a thin plate member such as a wefer accurately and efficiently. CONSTITUTION: The beam diameter of light gathered with a lens 1 is focused to ca. 0.1 mm by passing it in a polarization beam splitter 2 and irradiating the thin plate member 4 twice with measuring light, and the distortion of light signal is reduced to 1/2 by placing a lens 5 on a different surface of the polarization beam splitter 2.
摘要翻译：目的：便于测量薄板构件的厚度变化，如精确高效地进行测试。构成：用镜头1收集的光束的光束直径被聚焦到约通过将其通过偏振分束器2并以测量光照射薄板构件2两次，并且通过将透镜5放置在偏振分束器2的不同表面上将光信号的失真减小到1/2 。

5. 发明授权

KR101142947B1 간섭계 有权
标题翻译：干涉
公开(公告)号：KR101142947B1
公开(公告)日：2012-05-08
申请号：KR1020090041024
申请日：2009-05-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가토시게키
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/00 , G02B13/00
CPC分类号： G01B9/02018 , G01B9/02059 , G01B11/14
摘要： 본 발명의 간섭계는, 광을 레퍼런스광 및 측정광으로 분할하는 PBS(2)와, 제1방향으로부터 상기 레퍼런스 미러에 입사하는 레퍼런스광을 반사하는 레퍼런스 미러(4a)와, 제2방향으로부터 상기 측정미러에 입사하는 상기 측정광을 반사하는 측정미러(4b)와, 상기 레퍼런스 미러(4a) 및 상기 측정미러(4b)로부터의 반사광이 입사하는 렌즈계(6)와, 상기 렌즈계(6)로부터의 광을 반사하는 반사소자(5)와, 합파된 광을 수광하는 수광소자(16)를 구비하고, 상기 레퍼런스 미러(4a) 및 상기 측정미러(4b)는, 상기 반사소자에 대해서 공액관계에 있고, 상기 레퍼런스 미러(4a) 및 상기 측정미러(4b)의 적어도 하나는, 그 법선 방향이 상기 제1방향 및 상기 제2방향과는 다르도록 기울어서 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020060054006A 위치 검출장치 및 방법 有权
标题翻译：位置检测装置和方法
公开(公告)号：KR1020060054006A
公开(公告)日：2006-05-22
申请号：KR1020050096983
申请日：2005-10-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이시주카코
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/02
CPC分类号： G01B9/02018 , G01B9/02061 , G01B9/02079 , G01B2290/15 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要： 본 발명의 위치 검출장치는, 광원의 광속으로부터 평행 광속을 형성하고, 빔 스플리터에 의해 분리된 분리 광속이 기준면 및 측정 대상면 각각에 비스듬한 각도로 입사하도록, 평행 광속을 빔 스플리터에 공급하는 입사 유닛과, 기준면과 측정 대상면에서 반사되어, 빔 스플리터에 의해 광로가 통일된 분리 광속을, 광로를 따라 빔 스플리터에 평행 광속으로서 공급하기 위해 반사하는 반사 유닛을 가지고, 반사 유닛으로부터 공급되고, 빔 스플리터에서 분리되며, 기준면과 측정 대상면에서 반사되고, 빔 스플리터에서 다시 광로가 통일된 광속을 간섭시켜, 분리 광속의 위상차에 대응한 신호를 생성한다.
광로, 스플리터, 위상차, 가간섭성.

7. 发明授权

KR100465538B1 형상 측정장치 및 방법 失效
标题翻译： 형상측정장치및방법
公开(公告)号：KR100465538B1
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：KR1020020024907
申请日：2002-05-07
申请人： 파나소닉 주식회사
发明人： 구보게이시 , 이마다유키오 , 다케우치히로유키 , 한다고우지 , 요시즈미게이이치
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B9/02023 , G01B9/02018 , G01B9/02031 , G01B11/026 , G01B2290/70
摘要： Arranged on both sides of a thin plate are optical displacement gauges that irradiate measurement lights onto surfaces of the thin plate and receive the measurement lights reflected by the surface so as to measure displacements of the surfaces of the thin plate. Variation of thickness of the thin plate is obtained on the basis of the displacements of the surfaces of the thin plate measured by each of the optical displacement gauges. Each of the optical displacement gauges detects the displacement of a respective surface of the thin plate with high accuracy by irradiating the measurement light to the thin plate two times.
摘要翻译：在薄板的两侧设置光学位移计，其将测量光照射到薄板的表面上，并接收由表面反射的测量光，以测量薄板表面的位移。基于由每个光学位移计测量的薄板的表面的位移来获得薄板的厚度变化。每个光学位移计通过将测量光照射到薄板两次来高精度地检测薄板各个表面的位移。

8. 发明授权

KR100808886B1 위치 검출장치 및 방법 有权
标题翻译：位置检测装置和方法
公开(公告)号：KR100808886B1
公开(公告)日：2008-03-03
申请号：KR1020050096983
申请日：2005-10-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이시주카코
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/02
CPC分类号： G01B9/02018 , G01B9/02061 , G01B9/02079 , G01B2290/15 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要： 본 발명의 위치 검출장치는, 광원의 광속으로부터 평행 광속을 형성하고, 빔 스플리터에 의해 분리된 분리 광속이 기준면 및 측정 대상면 각각에 비스듬한 각도로 입사하도록, 평행 광속을 빔 스플리터에 공급하는 입사 유닛과, 기준면과 측정 대상면에서 반사되어, 빔 스플리터에 의해 광로가 통일된 분리 광속을, 광로를 따라 빔 스플리터에 평행 광속으로서 공급하기 위해 반사하는 반사 유닛을 가지고, 반사 유닛으로부터 공급되고, 빔 스플리터에서 분리되며, 기준면과 측정 대상면에서 반사되고, 빔 스플리터에서 다시 광로가 통일된 광속을 간섭시켜, 분리 광속의 위상차에 대응한 신호를 생성한다.
광로, 스플리터, 위상차, 가간섭성.

9. 发明授权

KR100649173B1 리소그래피장치, 디바이스 제조방법 및 컴퓨터 프로그램을 기록한 기록매체 有权
标题翻译：平版印刷设备，设备制造方法和记录介质记录计算机程序
公开(公告)号：KR100649173B1
公开(公告)日：2006-11-24
申请号：KR1020040026157
申请日：2004-04-16
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 아드리아엔스요한네스마티아스테오도루스안토니우스 , 빔스,마르첼헨드리쿠스마리아 , 판데르파쉬,엔겔베르투스안토니우스프란시스쿠스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01B9/02027 , G01B9/02018 , G01B9/0207 , G03F7/70775 , G03F9/7003
摘要： 간섭계 변위측정 시스템에서, 빔시어(beamshear)에 대한 보정이 이루어진다. 보정은 측정빔이 가로지르는 광경로의 길이 및 측정거울의 각도에 비례하는 변수의 다항식일 수 있다. 보정은 측정빔의 파면의 비평탄도(non-planarity)에 의하여 발생된 에러를 보상한다.

10. 发明公开

KR1020040090906A 리소그래피장치, 디바이스 제조방법 및 컴퓨터 프로그램을 기록한 기록매체 有权
标题翻译：平面设备，用于制造设备的方法和计算机程序来消除或改善镜像卷积的影响
公开(公告)号：KR1020040090906A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：KR1020040026157
申请日：2004-04-16
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 아드리아엔스요한네스마티아스테오도루스안토니우스 , 빔스,마르첼헨드리쿠스마리아 , 판데르파쉬,엔겔베르투스안토니우스프란시스쿠스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01B9/02027 , G01B9/02018 , G01B9/0207 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , G03F9/7049
摘要： PURPOSE: A lithographic apparatus is provided to eliminate or improve the influence of mirror inclination by compensating for an error generated by non-planarity of a wavefront of a measurement beam. CONSTITUTION: A radiation system supplies a projection beam of X-rays. A support structure supports a patterning unit functioning to pattern the projection beam according to a necessary pattern. A substrate is held by a substrate table. A projection system projects the patterned beam to a target on the substrate. An interferometer displacement measuring system measures displacement values of transferable constitution elements of a lithographic projection apparatus and includes a model that relates sensor measurement values to the displacement values of the transferable constitution elements. The model includes at least one correction term which is a function of a variable expressing a beamshear of a measurement beam of the interferometer displacement measuring system.
摘要翻译：目的：提供光刻设备以通过补偿由测量光束的波前的非平面性产生的误差来消除或改善镜面倾斜的影响。构成：辐射系统提供X射线的投影束。支撑结构支持图案化单元，其功能是根据必要的图案来对投影光束进行图案化。衬底由衬底台保持。投影系统将图案化的光束投影到基底上的靶。干涉仪位移测量系统测量光刻投影设备的可转移构件元件的位移值，并且包括将传感器测量值与可转印构件元件的位移值相关联的模型。该模型包括至少一个校正项，其是表示干涉仪位移测量系统的测量光束的波束的变量的函数。

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