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1. 发明公开

KR20120027758A Polishing pad 有权
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：KR20120027758A
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：KR20100089532
申请日：2010-09-13
申请人： OH SE YEOL
发明人： OH SE YEOL
IPC分类号： B24D11/02 , B24D3/14 , B24D7/00 , B24D11/00
CPC分类号： B24D3/007 , B24D3/14 , B24D7/00 , B24D11/02
摘要： PURPOSE: A polishing pad is provided to keep a stable state for a long time because a bent part of a metal plate covers a rim to prevent damage of a buffer plate. CONSTITUTION: A polishing pad comprises a metal plate(100), a buffer plate(200), velcro tapes(300a,300b), and a polishing plate(400). An annular bent part(110) is formed in the lower side of a rim of the metal plate. The buffer plate is fitted in the bent part of the metal plate. The Velcro tapes are respectively adhered in the lower surface of the metal plate and the upper surface of the buffer plate, and both velcro tapes are attached or separated each other. The polishing plate is attached in underside of the buffer plate.
摘要翻译：目的：提供抛光垫以保持长时间的稳定状态，因为金属板的弯曲部分覆盖边缘以防止缓冲板的损坏。构成：抛光垫包括金属板（100），缓冲板（200），尼龙搭扣（300a，300b）和抛光板（400）。环形弯曲部分（110）形成在金属板的边缘的下侧。缓冲板安装在金属板的弯曲部分。魔术贴带分别粘附在金属板的下表面和缓冲板的上表面上，并且两个尼龙搭扣彼此附接或分离。抛光板附着在缓冲板的下侧。

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