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1. 发明公开

KR1020040070257A 감열기록재료 无效
公开(公告)号：KR1020040070257A
公开(公告)日：2004-08-06
申请号：KR1020047009707
申请日：2002-12-20
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 와타나베츠토무 , 미츠오히로후미 , 키토우히로카즈
IPC分类号： B41M5/30 , B41M5/26
CPC分类号： B41M5/3336 , B41M5/3275 , B41M5/3333 , B41M5/3372 , B41M5/3375 , B41M5/3377 , B41M5/41 , B41M5/426 , B41M5/44 , B41M2205/04
摘要： 지지체 상에 전자공여성 무색염료 및 그 전자수용성 화합물을 조합시킨 발색계 감열기록층을 갖고, 전자수용성 화합물로서 R
1 -Ph-SO
2 R
2 로 표시되는 화합물[식 중, R
1 : 수산기, 알킬기, R
2 : -Ph, -NH-Ph, -Ph-OR
3 , -NH-CO-NH-Ph, R
3 : 알킬기, Ph: 페닐기]을 함유하고, 적어도 감열기록층이 그 도포액을 커튼 도포함으로써 형성된 것인 감열기록재료.

2. 发明公开

KR1020040065299A 감열기록재료 无效
公开(公告)号：KR1020040065299A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：KR1020047009691
申请日：2002-12-20
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 와타나베츠토무 , 미츠오히로후미
IPC分类号： B41M5/30
CPC分类号： B41M5/323 , B41M5/3275 , B41M5/3336 , B41M5/3372 , B41M5/3375 , B41M5/3377 , B41M5/41 , C08K5/0008 , C08K5/0016 , C08K5/11 , C09J7/35 , C09J11/06 , C09J2205/102 , C09J2429/00 , Y02P20/582
摘要： 전자공여성 무색염료와, 상기 염료와 반응하여 발색시키는 전자수용성 화합물과 증감제를 함유하는 감열기록층을 갖는 감열기록재료로서, (1)∼(3) 중 적어도 하나를 만족시킨다.
(1) 소정 인가에너지로 열인화했을 때의 화상농도가 1.20이상이며, 또한 인자속도가 10㎝/sec이상의 기록장치에 이용된다. (2) 70℃의 열원에 5초간 접촉시킨 후의 화상농도가 0.15이하이며, 상기 증감제가, 2-벤질옥시나프탈렌 등이다. (3) 전자수용성 화합물이, R
1 -Ph-SO
2 R
2 [식중, R
1 은, 수산기, 알킬기를 나타내고, R
2 는, -Ph, -NH-Ph, -Ph-OR
3 , -NH-CO-NH-Ph를 나타낸다. R
3 은, 알킬기를 나타낸다. Ph는 페닐기를 나타내고, -SO
2 R
2 를 함유하는 치환기로 치환되어 있어도 좋다.]로 나타내어지는 화합물이고, 체적평균입경 0.5∼1.0㎛이다.

3. 发明授权

KR100855601B1 네거티브 감광성 열경화성 수지 조성물, 네거티브 감광성열경화성 수지층 전사재료, 및 네거티브 내성 화상형성방법 有权
标题翻译：负离子感光性热固性树脂组合物，负离子感光性热固化树脂层的转印材料和形成具有负极性的图像的方法
公开(公告)号：KR100855601B1
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：KR1020010080373
申请日：2001-12-18
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 다나카미츠토시 , 와카타유우이치 , 야마모토미주키
IPC分类号： G03F7/027
摘要： (과제) 보존안정성이 우수하고, 약알칼리성 수용액에 의해 현상가능하고, 해상도가 높고, 투명성, 내열성, 내약품성 및 절연성도 우수한 네거티브 감광성 열경화성 수지 조성물 및 네거티브 감광성 열경화성 수지층 전사재료를 제공한다.
(해결수단) 전체 고형분 중의 질량백분율이 10∼90%인 하기 식(I)로 표시되는 중합성 모노머와 카르복실산기 함유 모노머의 공중합으로 얻어지는 알칼리 가용성 수지, 5∼50%인 에틸렌 불포화 화합물 및 0.1∼50%인 광중합개시제를 적어도 함유하는 네거티브 감광성 열경화성 수지 조성물 및 이 네거티브 감광성 열경화성 수지로 이루어지는 층을 임시 지지체상에 형성한 네거티브 감광성 열경화성 수지층 전자재료이다. 하기 식(I)중, R
1 은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, X는 할로겐원자, 히드록시기, 탄소수가 1∼12인 치환기를 보유하고 있어도 좋은 알콕시기, 아릴옥시기 등을 나타낸다.

4. 发明授权

KR100763429B1 포지티브 감광성 열경화성 수지 조성물, 전사재료 및화상형성 방법 失效
标题翻译：正式工作的感光性热固性树脂组合物，用于转印的材料和形成图像的方法
公开(公告)号：KR100763429B1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：KR1020010045086
申请日：2001-07-26
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 와카타유이치 , 야마모토미주키 , 다나카미쯔토시 , 이와사키마사유키
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
摘要： 본 발명은, 보존안정성이 우수하기 때문에, 사용하기가 용이하고, pH 10정도의 약 알칼리성 수용액에서 현상할 수 있으며, 해상도가 높을 뿐만 아니라, 경화 후의 막투명성이 우수하고, 내열성, 내용제성, 절연성이 우수한 포지티브 감광성 열경화성 수지 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 5몰%~80몰%의 하기 일반식(I)의 중합성 단량체와 5몰%~80몰%의 카르복실산기를 함유하는 단량체를 필수성분으로 포함하는 공중합으로 얻어지는 알칼리 가용성 수지와, 상기 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여 10~120중량부의 1,2-퀴논디아지드 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 포지티브 감광성 열경화성 수지 조성물로 이루어진다.

(여기에서, R
1 은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다. X는 할로겐원자, 히드록시기, 또는 탄소수 1~12로 이루어지며, 치환기를 보유하고 있어도 좋은, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬카르보닐옥시기, 아릴카르보닐옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 알킬술포닐옥시기 또는 아릴술포닐옥시기를 나타낸다)

5. 发明公开

KR1020070020283A 패턴형성방법, 컬러필터의 제조방법, 컬러필터 및액정표시장치 无效
标题翻译：图案形成方法，彩色滤光片制造方法，彩色滤光片和液晶显示
公开(公告)号：KR1020070020283A
公开(公告)日：2007-02-20
申请号：KR1020067025770
申请日：2005-05-31
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 이시카와히로미 , 시모야마유지 , 코다마토모히로
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/004 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70291 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/70275 , G03F7/70116 , G03F7/2051
摘要： A pattern forming method for forming a fine pattern with high definition while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution. The method comprises a photosensitive layer forming step of forming a photosensitive layer on the surface of a base using a photosensitive compound containing, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, a step of modulating light from light illuminating means by means of light modulating means having n element drawing sections which receives at least light from the light illuminating means and outputs light and exposing the photosensitive layer formed at the photosensitive layer forming step in a lean-oxygen atmosphere by light passing through a microlens array where microlenses having an aspherical surface for correcting the aberration due to the distortion of the exit surface at the element drawing sections are arrayed or to light passing through a microlens array where microlenses having a lens aperture shape preventing light from around the element drawing sections from entering, and a development step for developing the photosensitive layer exposed to light at the exposure step. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：一种图案形成方法，用于在提高图案形成的生产率和在高分辨率的光敏组合物上形成预定图案的同时，以高清晰度形成精细图案。该方法包括使用含有粘合剂，可聚合化合物和光聚合引发剂的光敏化合物在基材表面上形成感光层的感光层形成步骤，通过光调制来自光照射装置的光的步骤调制装置具有n个元素绘制部分，其至少接收来自光照射装置的光并且输出光并且在通过微透镜阵列的光中透过在稀薄氧气氛中的感光层形成步骤形成的感光层，其中具有非球面的微透镜排列由于元件拉拔部分处的出射表面的变形而产生的像差的表面或通过微透镜阵列的光，其中具有防止来自元件拉伸部分周围的光的透镜孔形状的微透镜进入显影步骤用于显影曝光的感光层在曝光步骤光。 ®KIPO＆WIPO 2007

6. 发明公开

KR1020040012662A 감열기록재료 无效
公开(公告)号：KR1020040012662A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：KR1020037003063
申请日：2002-05-31
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 와타나베츠토무 , 미츠오히로후미
IPC分类号： B41M5/30
CPC分类号： B41M5/3336 , B41M5/3338 , B41M5/41
摘要： 본 발명에서는 지지체상에 전자공여성 무색염료 및 전자수용성 화합물을 함유하는 감열발색층을 형성한 감열기록재료에 있어서, 전자수용성 화합물로서 4-히드록실벤젠술폰아닐리드를 함유하는 것을 특징으로 하는 감열기록재료가 개시된다.

7. 发明公开

KR1020020011085A 포지티브 감광성 열경화성 수지 조성물, 전사재료 및화상형성 방법 失效
标题翻译：正性感光热固化树脂组合物，转印材料和成像方法
公开(公告)号：KR1020020011085A
公开(公告)日：2002-02-07
申请号：KR1020010045086
申请日：2001-07-26
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 와카타유이치 , 야마모토미주키 , 다나카미쯔토시 , 이와사키마사유키
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0758
摘要： PURPOSE: To provide a positive photosensitive thermosetting resin composition easy to use, because of its superior preservation stability, developable with a low alkaline aqueous solution of about pH 10, having high resolution and giving a film which is superior in transparency heat and solvent resistances and insulating property, after curing. CONSTITUTION: The positive photosensitive thermosetting resin composition contains an alkali-soluble resin, obtained by copolymerizing 5-80 mol% polymerizable monomer of general formula I (where R1 is H or methyl; and X is halogen, hydroxy or a 1-12C alkoxy, aryloxy, alkylcarbonyloxy, arylcarbonyloxy, alkoxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, alkylsulfonyloxy or arylsulfonyloxy which may have a substituent) and 5-80 mol% carboxylic acid containing monomer as essential components and 10-120 pts.wt. 1,2- quinonediazido compound based on 100 pts.wt. of the alkali-soluble resin.
摘要翻译：目的：提供一种易于使用的正型感光性热固性树脂组合物，由于其优异的保存稳定性，可用约pH 10的低碱性水溶液显影，具有高分辨率，并得到透明性高耐溶剂性优异的膜，绝缘性能，固化后。正式感光性热固性树脂组合物含有通过使5-80摩尔％的通式I的可聚合单体（其中R 1为H或甲基; X为卤素，羟基或1-12C烷氧基，芳氧基，烷基羰基氧基，芳基羰基氧基，烷氧基羰基氧基，芳氧基羰基氧基，烷基磺酰氧基或可具有取代基的芳基磺酰氧基）和5-80摩尔％的含羧酸单体作为必需成分和10-120重量份。 1,2-醌二叠氮化合物，基于100重量份的碱溶性树脂。

8. 发明公开

KR1020070062965A 감광성 조성물, 및 패턴형성방법 및 영구패턴 无效
标题翻译：光敏组合物，形成图案的方法和永久图案
公开(公告)号：KR1020070062965A
公开(公告)日：2007-06-18
申请号：KR1020077000325
申请日：2005-06-09
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키
IPC分类号： G03F7/035 , C08G18/32 , G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/035 , C08G18/0823 , C09D175/16 , H05K3/287 , G03F7/027 , G03F7/028
摘要： Disclosed is a photosensitive composition having excellent developability, soldering heat resistance, fracture resistance and pressure cooker resistance which is preferably used for manufacturing flexible printed circuit boards. The cured coating film of such a photosensitive composition is significantly improved in flexibility. Also disclosed are a method for forming a pattern and a permanent pattern. The photosensitive composition contains at least a polyurethane resin (A) having a carboxyl group, a polymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C) and a thermal crosslinking agent (D). The polyurethane resin (A) having a carboxyl group is preferably obtained by reacting a diisocyanate compound represented by the constitutional formula (I) below with a diol compound represented by the constitutional formula (II) or the constitutional formula (III) below.
摘要翻译：公开了优选用于制造柔性印刷电路板的显影性，焊接耐热性，耐断裂性和耐压力锅电阻的光敏组合物。这种感光性组合物的固化涂膜的柔软性显着提高。还公开了一种用于形成图案和永久图案的方法。感光性组合物至少含有具有羧基的聚氨酯树脂（A），聚合性化合物（B），光聚合引发剂（C）和热交联剂（D）。具有羧基的聚氨酯树脂（A）优选通过使下述结构式（I）表示的二异氰酸酯化合物与下述结构式（II）或下述结构式（III）表示的二醇化合物反应来获得。

9. 发明公开

KR1020070051335A 감광성 전자재료, 패턴형성방법 및 패턴 无效
标题翻译：感光材料和图案形成方法与图案
公开(公告)号：KR1020070051335A
公开(公告)日：2007-05-17
申请号：KR1020077006138
申请日：2005-08-16
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키
IPC分类号： G03F7/09 , H01L21/027 , H05K3/00 , G02B5/20
CPC分类号： G03F7/0007 , G02B5/201 , G03F7/091 , G03F7/092 , G03F7/70291
摘要： 본 발명은 고감도 감광층이어도 안전등 하에서의 광포그를 방지할 수 있고, 특히 프린트 기판 및 액정표시장치(LCD)용 컬러필터의 제조에 바람직하게 사용되는 감광성 전사재료 등을 제공하는 것을 목적으로 한다. 이를 위해서, 지지체와, 그 지지체 상에 쿠션층과, 산소차단층과, 감광층을 이 순서로 가지고 이루어지고, 상기 쿠션층 및 산소차단층 중 적어도 어느 한쪽이 파장 500㎚이상 600㎚이하에 있어서의 흡광도가 1이상이고, 또한 파장 350㎚이상 450㎚이하에 있어서의 흡광도가 0.3이하인 광흡수 특성을 갖는 감광성 전사재료를 제공한다. 상기 감광성 전사재료는 상기 산소차단층 및 쿠션층 중 적어도 어느 한쪽이 염료를 함유하는 것이 바람직하다.

10. 发明公开

KR1020040065301A 감열기록재료 无效
公开(公告)号：KR1020040065301A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：KR1020047009765
申请日：2002-12-20
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 이와사키마사유키 , 와타나베츠토무 , 미츠오히로후미
IPC分类号： B41M5/30
CPC分类号： B41M5/3336 , B41M5/3275 , B41M5/3333 , B41M5/3372 , B41M5/3375 , B41M5/3377 , B41M5/41 , B41M5/42 , B41M5/426 , B41M5/44 , B41M2205/04
摘要： 지지체상에, 전자공여성 무색염료와, 상기 전자공여성 무색염료와 반응해서 발색시키는 전자수용성 화합물을 함유하는 감열기록층을 갖는 감열기록재료이다. 상기 전자수용성 화합물을 R
1 -Ph-SO
2 R
2 로 나타내어지는 화합물로 하는 형태, 컬높이의 최대값을 5.0㎜이하로 하는 형태, 상기 지지체의 감열기록층을 갖는 측으로부터 인가에너지 15.2mJ/㎟로 열인화했을 때의 화상농도를 1.20이상으로 하는 형태, 적어도 1층의 상기 감열기록층을 갖는 표면측의 최표면과 이면측의 최표면을 마찰시켰을 때의 정마찰계수 및 동마찰계수가 0.2∼0.5의 범위내에 있는 형태, 상기 안료의 보일드 아마인유 흡유량이 30∼200㎖/100g이며, 체적 평균입경이 0.5∼3㎛이며,또한 속도 10㎝/sec이상에서의 열인자가 가능한 기록장치에 이용되는 형태 등이 바람직하다.

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