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1. 发明授权

KR101317626B1 배기가스 개더링 장치 有权
标题翻译：用于排气的收集装置
公开(公告)号：KR101317626B1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：KR1020110091635
申请日：2011-09-09
申请人： 홍정의 , (주)제이오션
发明人： 홍정의
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본 발명은 반도체 소자 제조 공정에서 프로세스 챔버로부터 배기되는 배기가스에 포함된 반응부산물을 포집하기 위한 배기가스 개더링 장치에 관한 것으로, 본 발명의 배기가스 개더링 장치는 이중튜브 구조의 히팅 유닛; 및 상기 히팅 유닛이 설치되는 하우징; 상기 하우징 내부에 설치되고, 상기 히팅 유닛을 감싸도록 배치되며 배기가스를 냉각하여 배기가스에 포함된 반응부산물을 포집하는 플레이트 모듈을 포함하되; 상기 히팅 유닛은 상기 하우징의 외측에 위치되고, 배기라인이 연결되는 배기라인 연결포트; 상기 하우징의 내측에 위치되고, 상기 배기라인 연결포트와 연결되어 배기가스가 유입되는 일단과 배기가스가 빠져나가는 타단을 갖는 원통형상의 내통; 상기 내통을 감싸도록 설치되고, 배기가스가 빠져나가도록 개방된 일단과 막혀있는 타단을 갖는 원통형상으로 이루어지되, 상기 외통의 막혀있는 타단이 상기 내통의 타단으로부터 이격된 상태에서 마주보도록 배치되는 내통; 상기 내통에 설치되고, 상기 내통을 통과하는 배기가스를 가열하기 위해 다단으로 설치되는 막대형상의 히터들을 포함한다.

2. 发明公开

KR1020160125053A 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록 有权
标题翻译：具有对准键的远程等离子体源块
公开(公告)号：KR1020160125053A
公开(公告)日：2016-10-31
申请号：KR1020150055708
申请日：2015-04-21
申请人： (주)뉴젠텍 , (주)제이오션 , 강동원 , 홍정의
发明人： 강동원 , 홍정의 , 권용만
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24
摘要： 본발명은정렬키 구조의원격플라즈마소스블록에관한것이고, 구체적으로서로결합되는서브블록에정렬키가형성되어원격플라즈마소스블록의결합특성이향상되도록하는정렬키 구조의원격플라즈마소스블록에관한것이다. 정렬키 구조의원격플라즈마소스블록은제1 서브블록(10) 및제2 서브블록(20)이서로결합되어형성되고, 제1 서브블록(10) 또는제2 서브블록(20)의결합부분에정렬키가형성된다.

3. 发明授权

KR101406203B1 마이크로파 플라즈마 어플리케이터 및 원격 플라즈마 반도체 식각장비 有权
标题翻译：微波等离子体涂覆器和远程等离子体半导体蚀刻装置
公开(公告)号：KR101406203B1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：KR1020120055039
申请日：2012-05-23
申请人： (주)제이오션 , 주식회사 지피케이 , 홍정의 , 최종식
发明人： 홍정의 , 최종식
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/205
摘要： 마이크로파 플라즈마 어플리케이터를 개시한다. 마이크로파 플라즈마 어플리케이터는 중앙에 수평으로 연장된 마이크로파 도파관이 결합된 수직 실린더형 하우징과, 하우징 상단에 연결되어 하우징 내부 공동으로 가스를 유입하기 위한 가스 유입관과, 하우징 하단에 형성되어 플라즈마를 외부로 유출하기 위한 유출구와, 하우징 내부 공동에 배치되어 상단이 가스 유입관에 결합되고 하단이 유출구에 결합된 플라즈마 튜브와, 마이크로파 도파관에 유입되는 마이크로파가 통과할 간격을 유지하면서 플라즈마 튜브의 외주면에 감겨지고, 내부에 냉각액이 공급되는 솔레노이드형 동관과, 솔레노이드 동관 상단에 결합된 제1전극과, 솔레노이드 동관 하단에 결합된 제2전극을 포함한다. 따라서 솔레노이드 코일에 의해 플라즈마 튜브에 자기장을 형성하여 플라즈마 튜브가 손상되는 것을 방지할 수 있다.

4. 发明授权

KR101692697B1 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록 有权
标题翻译：具有对准键的远程等离子体源块
公开(公告)号：KR101692697B1
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：KR1020150055708
申请日：2015-04-21
申请人： (주)뉴젠텍 , (주)제이오션 , 강동원 , 홍정의
发明人： 강동원 , 홍정의 , 권용만
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/24
摘要： 본발명은정렬키 구조의원격플라즈마소스블록에관한것이고, 구체적으로서로결합되는서브블록에정렬키가형성되어원격플라즈마소스블록의결합특성이향상되도록하는정렬키 구조의원격플라즈마소스블록에관한것이다. 정렬키 구조의원격플라즈마소스블록은제1 서브블록(10) 및제2 서브블록(20)이서로결합되어형성되고, 제1 서브블록(10) 또는제2 서브블록(20)의결합부분에정렬키가형성된다.

5. 发明授权

KR101335967B1 전력감시기 및 이를 구비하는 교류 전력 사용 장치 有权
标题翻译：监测电力质量的装置
公开(公告)号：KR101335967B1
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：KR1020120079381
申请日：2012-07-20
申请人： (주)제이오션 , 홍정의
发明人： 홍정의
IPC分类号： G01R19/00 , G01R31/00
CPC分类号： G01R21/06 , G01R19/2513
摘要： The present invention relates to a power monitoring device and, more specifically, to a power monitoring device for monitoring the quality of AC power. The power monitoring device according to an embodiment of the present invention, as a power monitoring device for a device with an AC input unit, includes a first connection unit; a second connection unit; a measurement unit, wherein the measurement unit has a wiring connecting the first and second connection units and measures the quality of the AC; a processing unit connected to the measurement unit and digitizing the AC quality; and a display unit for displaying the data.
摘要翻译：电力监视装置技术领域本发明涉及功率监视装置，更具体地，涉及用于监视AC电力质量的电力监视装置。作为本发明的实施方式的电力监视装置，作为具有交流输入部的装置的电力监视装置，具有第一连接部，第二连接单元; 测量单元，其中测量单元具有连接第一和第二连接单元的布线并且测量AC的质量; 连接到测量单元并数字化AC质量的处理单元; 以及用于显示数据的显示单元。

6. 发明公开

KR1020130131169A 마이크로파 플라즈마 어플리케이터 및 원격 플라즈마 반도체 식각장비 有权
标题翻译：微波等离子体应用器和远程等离子体半导体蚀刻设备
公开(公告)号：KR1020130131169A
公开(公告)日：2013-12-03
申请号：KR1020120055039
申请日：2012-05-23
申请人： (주)제이오션 , 주식회사 지피케이 , 홍정의 , 최종식
发明人： 홍정의 , 최종식
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32229 , H01J37/3244 , H01J37/32522 , H01J37/32559 , H01J37/32577 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H05H1/46 , H05H2001/4607
摘要： The present invention discloses a microwave plasma applicator. The micro plasma applicator includes: a vertical cylinder type housing in which a microwave waveguide horizontally extended in the center is engaged; a gas inlet pipe connected to an upper end of the housing for inhaling gas into a cavity of the housing; an outlet formed in a lower end of the housing for discharging plasma to the outside; a plasma tube arranged in the cavity of the housing, of which the upper end is connected to the gas inlet pipe and the lower end is connected to the outlet; a solenoid copper pipe for maintaining a gap in which microwave come into the microwave waveguide pass through, wound up to the outer surface of the plasma tube having coolant inside; a first electrode connected to an upper end of the solenoid copper pipe; and a second electrode connected to a lower end of the solenoid copper pipe. Therefore, damage to a plasma tube is prevented by forming a magnetic field in the plasma tube using a solenoid coil.
摘要翻译：本发明公开了一种微波等离子体涂敷器。微型等离子体施加器包括：垂直圆筒型壳体，其中在中心水平延伸的微波波导接合; 气体入口管，其连接到所述壳体的上端，用于将气体吸入所述壳体的空腔中; 出口形成在壳体的下端，用于将等离子体排放到外部; 布置在壳体的空腔中的等离子体管，其上端连接到气体入口管，下端连接到出口; 用于保持微波进入微波波导的间隙的螺线管铜管通过，卷绕到具有冷却剂的等离子体管的外表面; 连接到电磁铜管的上端的第一电极; 以及连接到电磁铜管的下端的第二电极。因此，通过使用电磁线圈在等离子体管中形成磁场来防止等离子体管的损坏。

7. 外观设计

KR3007134300000S 有权
公开(公告)号：KR3007134300000S
公开(公告)日：2013-10-22
申请号：KR3020120035391
申请日：2012-07-20
申请人： (주)제이오션 , 홍정의
设计人： 홍정의

8. 发明公开

KR1020130028239A 배기가스 개더링 장치 有权
标题翻译：用于排气的收集装置
公开(公告)号：KR1020130028239A
公开(公告)日：2013-03-19
申请号：KR1020110091635
申请日：2011-09-09
申请人： 홍정의 , (주)제이오션
发明人： 홍정의
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67098 , F16L53/30 , F16L55/07 , H01L21/67034
摘要： PURPOSE: A gathering apparatus for exhaust gas is provided to reduce a total length of the gathering apparatus. CONSTITUTION: A heating unit(200) has a heat treatment part(210) of a double pipe structure. A housing(100) surrounds the heat treatment part of a heating unit. The heat treatment part includes an inner container(220) and an outer container(230). The inner container provides a first heating pipe. The outer container provides the second heating pipe.
摘要翻译：目的：提供废气收集装置以减少采集装置的总长度。构成：加热单元（200）具有双管结构的热处理部（210）。壳体（100）围绕加热单元的热处理部分。热处理部包括内容器（220）和外容器（230）。内容器提供第一加热管。外容器提供第二加热管。

9. 发明公开

KR1020090039018A 배기가스 데포지션 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于沉积排气的装置和方法
公开(公告)号：KR1020090039018A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：KR1020070104405
申请日：2007-10-17
申请人： (주)제이오션
发明人： 홍정의
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/00
摘要： An apparatus and a method for depositing an exhaust gas are provided to minimize temperature interference between mutual regions by separating a high temperature region heating an exhaust gas and a low temperature region cooling an exhaust gas. A deposition unit(100) removes a toxic gas of an exhaust gas by activating an unreacted gas included in the exhaust gas under a high temperature, and includes a first body(110) and a heating member(120). The first body is formed into a square case of a double wall structure having an inner heating space. A first inflow port(114) connected to an exhaust line(22) is formed on a top surface(112) of the first body. A first exhaust port is formed on a bottom surface of the first body, and corresponds to a path(310) of a partition part(300) positioned between the deposition unit and a collecting unit(200). The heating member is installed in a heating space of the first body, activates the unreacted gas included in the exhaust gas by heating the exhaust gas flowed through the first inflow port, and includes a heating part(122), a guide pipe(124), and deposition plates(126).
摘要翻译：提供一种用于沉积废气的装置和方法，用于通过分离加热废气的高温区域和冷却废气的低温区域来最小化相互区域之间的温度干扰。沉积单元（100）通过在高温下活化废气中包含的未反应气体来除去废气的有毒气体，并且包括第一主体（110）和加热构件（120）。第一主体形成具有内部加热空间的双壁结构的正方形壳体。连接到排气管线（22）的第一流入口（114）形成在第一主体的顶表面（112）上。第一排气口形成在第一主体的底表面上，并且对应于位于沉积单元和收集单元之间的分隔部分（300）的路径（310）。加热部件安装在第一主体的加热空间中，通过加热流过第一流入口的排气来激活排气中包含的未反应气体，并且包括加热部（122），引导管（124），和沉积板（126）。

10. 发明授权

KR101406696B1 원격 플라즈마 소스를 위한 플라즈마 블록 有权
标题翻译：等离子体块用于远程等离子体源
公开(公告)号：KR101406696B1
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：KR1020130165925
申请日：2013-12-27
申请人： (주)뉴젠텍 , (주)제이오션
发明人： 강동원 , 홍정의 , 홍진석 , 백상천
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32862
摘要： The present invention relates to a plasma block for a remote plasma source, more specifically, to a plasma block which guides the generation and flow of plasma in between plasma source and vacuum chamber in a cleaning process of the vacuum chamber using a remote plasma source. In a plasma block which is formed by combining mutually connected two sub blocks (10), an interface, which is formed when an external connection path (14) formed in the sub block (10) meets internal connection paths (131a, 131b), forms a spherical surface or a complex spherical surface having an solid angle which is determined by the extended length of the external connection path (14) and extended length of the internal connection paths (131a, 131b) or a cross-sectional area between the internal connection paths (131a, 131b) and the external connection path (14).
摘要翻译：本发明涉及一种用于远程等离子体源的等离子体块，更具体地，涉及一种等离子体块，其在远程等离子体源的真空室的清洁过程中引导等离子体源和真空室之间的等离子体的产生和流动。在通过组合相互连接的两个子块（10）形成的等离子体块中，当形成在子块（10）中的外部连接路径（14）与内部连接路径（131a，131b）相遇时形成的界面，形成具有由外部连接路径（14）的延伸长度和内部连接路径（131a，131b）的延伸长度确定的立体角的球面或复合球面，或内部连接路径（131a，131b）的横截面积连接路径（131a，131b）和外部连接路径（14）。

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