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1. 发明公开

KR1020120095349A ＬＥＤ 광원 장치 无效
标题翻译： LED光源设备
公开(公告)号：KR1020120095349A
公开(公告)日：2012-08-28
申请号：KR1020127002535
申请日：2010-07-27
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 마츠이료타로 , 요코야마히데아키
IPC分类号： H01L33/48 , H01L33/54 , H01L27/15
CPC分类号： B01J19/123 , F21V29/00 , F21V29/70 , F21Y2105/00 , F21Y2105/10 , F21Y2115/10
摘要： 출사 영역의 광량을 소정 광량 이상으로 또한 균일화할 수가 있는 LED 광원 장치를 제공한다. LED 광원 장치(1)는, 자외선광을 전방을 향해 출사하는 LED(10)가 병설된 LED 병설 영역 R을 가지는 자외선 발광 LED 어레이(3)와, 이 자외선 발광 LED 어레이(3)의 LED 병설 영역 R의 전방측에 대향하도록 설치되고, 직방체 외형을 나타냄과 아울러, 석영을 포함하는 재료로 형성된 광투과 부재(4)를 구비하고 있다. LED(10)의 전면(10a)에는 소정 폭 H의 연부(11)로 둘러싸이고 자외선광을 출사하기 위한 출사면 S가 설치되어 있다. 여기서, 전방으로부터 보았을 때에 있어서, 광투과 부재(4)의 단부는 자외선 발광 LED 어레이(3)의 LED 병설 영역 R의 단부에 대해 소정 폭 H의 1/2 내측으로부터 소정 폭 H의 1/2 외측의 사이에 위치하고 있다.

2. 发明公开

KR1020080070494A 광원 장치 无效
标题翻译：光源设备
公开(公告)号：KR1020080070494A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：KR1020070092904
申请日：2007-09-13
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 마츠이료타로
IPC分类号： H01J61/52 , H01J61/84 , G03B27/54 , G03F7/20
CPC分类号： G03B27/54 , G03B21/16 , G03B21/20 , G03B21/2026 , G03F7/70016 , H01J61/52
摘要： A light source is provided to prevent a reflective surface from being blurred by spraying inertia gas on the reflective surface using a gas spray structure. A light source device includes a light source, a reflective mirror(4), and a gas spray structure(5). The reflective mirror reflects the light radiated from the light source on a reflective surface and emits the light from an exit opening. The gas spray structure includes a through-hole, where the light from the reflective mirror penetrates. The gas spray structure sprays gas on the reflective surface. The light source device includes a case(2), where the light source, the reflective mirror, and the gas spray structure are contained. The case circulates the air from outside. The gas spray structure includes a supply unit, a spray unit, and a distributing path.
摘要翻译：提供光源以通过使用气体喷射结构在反射表面上喷射惯性气体来防止反射表面模糊。光源装置包括光源，反射镜（4）和气体喷射结构（5）。反射镜将从光源辐射的光反射在反射表面上并从出口开口发射光。气体喷射结构包括通孔，其中来自反射镜的光穿透。气体喷射结构在反射面上喷射气体。光源装置包括壳体（2），其中包含光源，反射镜和气体喷射结构。这种情况从外面传播空气。气体喷射结构包括供给单元，喷射单元和分配路径。

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