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1. 发明公开

KR1020030074368A 고내구성 석영유리, 그 제조방법, 이를 이용한 부재 및 장치 有权
标题翻译：高耐久性石英玻璃及其制造方法，使用其的部件和装置
公开(公告)号：KR1020030074368A
公开(公告)日：2003-09-19
申请号：KR1020030015167
申请日：2003-03-11
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤 , 토소쿼츠 가부시키가이샤
发明人： 아라이카즈요시 , 타카하타츠토무 , 하시모토신키치 , 키리야히데야키 , 하라다요시노리
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： C03C3/085 , C03C3/095
摘要： Al과, 주기율표 제 2A 족원소, 제 3A 족원소 및 제 4A 족원소로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 원소(M)을 함유하는 고내구성 석영유리. 바람직하게는, Al과 원소(M)의 함유량의 합은, 금속원소 합계량에 준하여 30원자% 이상이며, 또한, Al과 원소(M)의 원자비는 0.05∼20의 범위이다.
이 석영유리는, 고순도이면서도 석영유리가 갖는 양호한 가공성, 저발진성을 유지한 채, 높은 내구성을 갖고 있기 때문에, 할로겐화물 가스 및/또는 그 플라즈마를 이용하는 반도체제조장치 또는 액정제조장치의 부재로서 적합하다.

2. 发明公开

KR1020020076183A 고내구성 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및이를 이용한 부재 및 장치 有权
标题翻译：高耐用的QUARTZ玻璃，其制备方法，制造玻璃的装置，以及使用玻璃的会员和装置
公开(公告)号：KR1020020076183A
公开(公告)日：2002-10-09
申请号：KR1020020016491
申请日：2002-03-26
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤 , 토소쿼츠 가부시키가이샤
发明人： 하라다요시노리 , 미즈타니슈조 , 하시모토신키치 , 쿠도마사카즈 , 미우라나오키 , 타카하시카츠후미 , 키요하라히데키
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： C03B19/01 , C03B19/095 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03B2201/54 , C03C3/06 , C03C2201/34 , C03C2201/3411 , C03C2201/40 , C03C2201/54 , Y02P40/57
摘要： PURPOSE: A highly durable quartz glass, its preparation method and apparatus, a quartz glass member, and a semiconductor manufacturing device and a liquid crystal manufacturing device employing the member are provided, wherein the quartz glass is improved in durability, processability and transparency. CONSTITUTION: The quartz glass comprises 0.01-2 wt% of at least element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf and Zr. The quartz glass is prepared by dropping the silica powder containing Zr into the furnace using an acid hydride salt as a heat source, layering it, and extending the layer outward. Also the quartz glass is prepared by passing the powder mixture of a silicate powder and the silica powder containing Zr through the plasma arc-coupling region where at least two plasma arcs are coupled and at least two electrodes have opponent polarity, or its neighborhood, thereby melting the mixture.
摘要翻译：目的：提供高耐用的石英玻璃及其制备方法和装置，石英玻璃构件和半导体制造装置以及采用该构件的液晶制造装置，其中石英玻璃的耐久性，加工性和透明度得到改善。构成：石英玻璃含有0.01-2重量％的至少选自Mg，Ca，Sr，Ba，Y，Hf和Zr的元素。通过使用氢化氢盐作为热源将含有Zr的二氧化硅粉末放入炉内来制备石英玻璃，将其分层并向外延伸。此外，石英玻璃通过使硅酸盐粉末和含有Zr的二氧化硅粉末的粉末混合物通过等离子体电弧耦合区域而制备，其中至少两个等离子体电弧耦合，并且至少两个电极具有对立的极性或其邻域，由此熔化混合物。

3. 发明授权

KR100927815B1 고내구성 석영유리, 그 제조방법, 이를 이용한 부재 및 장치 有权
标题翻译： 고내구성석영유리，그제조방법，이를이용한부재및장
公开(公告)号：KR100927815B1
公开(公告)日：2009-11-23
申请号：KR1020030015167
申请日：2003-03-11
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤 , 토소쿼츠 가부시키가이샤
发明人： 아라이카즈요시 , 타카하타츠토무 , 하시모토신키치 , 키리야히데야키 , 하라다요시노리
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： C03C3/085 , C03C3/095
摘要： Highly durable silica glass comprising silica having incorporated therein aluminum and at least one element (M) selected from group 2A elements, group 3A elements and group 4A elements of the periodic table. Preferably, the sum of aluminum and element (M) is at least 30 atomic % based on the amount of total metal elements in the silica glass, and the atomic ratio of aluminum to element (M) is in the range of 0.05 to 20. The silica glass has a high purity and exhibits enhanced durability while good processability and machinability, and reduced dusting property are kept, and the glass is suitable for members of a semiconductor production apparatus or liquid crystal display production apparatus using a halogenated gas and/or its plasma.
摘要翻译：含有二氧化硅的高度耐用的二氧化硅玻璃中加入了铝和至少一种选自周期表2A族元素，3A族元素和4A族元素的元素（M）。优选地，基于二氧化硅玻璃中全部金属元素的量，铝和元素（M）的总和为至少30原子％，并且铝与元素（M）的原子比在0.05至20的范围内。＆lt;＆gt;二氧化硅玻璃的纯度高，耐久性提高，并且加工性和机械加工性良
好，飞散性降低，适用于半导体制造装置或液晶显示装置的部件，卤化气体和/或其等离子体。

4. 发明授权

KR100842232B1 고내구성 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및이를 이용한 부재 및 장치 有权
标题翻译：高耐久性QUARTZ玻璃，其制造方法和装置，以及使用其的成员和装置
公开(公告)号：KR100842232B1
公开(公告)日：2008-06-30
申请号：KR1020020016491
申请日：2002-03-26
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤 , 토소쿼츠 가부시키가이샤
发明人： 하라다요시노리 , 미즈타니슈조 , 하시모토신키치 , 쿠도마사카즈 , 미우라나오키 , 타카하시카츠후미 , 키요하라히데키
IPC分类号： C03C3/06
CPC分类号： C03B19/01 , C03B19/095 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03B2201/54 , C03C3/06 , C03C2201/34 , C03C2201/3411 , C03C2201/40 , C03C2201/54 , Y02P40/57
摘要： 할로겐화물 가스 및 그 플라즈마를 이용하는 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치의 부재로서 적절히 사용할 수 있는 내구성이 높은 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 이 부재를 구비한 반도체 제조장치 또는 액정 제조장치를 제공한다.
Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Hf 및 Zr로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 원소를 0.047중량% 이상 1.100중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 고(高)내구성 석영글라스, 그 제조방법 및 제조용장치, 및 이를 이용한 부재 및 장치를 사용한다.
고내구성, 석영글라스, 제조방법, 제조용장치

5. 发明公开

KR1020090057237A 용융 석영 유리 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：熔融石英玻璃及其制造方法
公开(公告)号：KR1020090057237A
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：KR1020097004337
申请日：2007-09-11
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤
发明人： 아라이카즈요시 , 타카하타츠토무 , 하시모토신키치 , 우치다마사토 , 야마다노부스케 , 하라다요시노리 , 호리코시히데하루
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0085 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C4/10 , C03C2201/23 , C03C2201/50 , C03C2201/54 , Y02P40/57
摘要： A fused quartz glass comprising OH in a content of 5 ppm or less and Li, Na, K, Mg, Ca and Cu each in a content of less than 0.1 ppm, exhibiting an internal transmittance, as measured at a thickness of 10 mm with respect to ultraviolet radiation of 245 nm wavelength, of 95% or greater. Preferably, the fused quartz glass exhibits a viscosity coefficient of 1011.5 Pa.s or greater at 1215°C, and exhibits a Cu ion diffusion coefficient, as measured in a region from over 20 mum up to 100 mum in a depth from the surface when left in atmosphere at 1050°C for 24 hours, of 1810-10 cm2/sec or below. This fused quartz glass is produced by converting a raw material silica powder to cristobalite and thereafter fusing the same in a nonreducing atmosphere. This fused quartz glass has the properties of being high in the transmittance of ultraviolet ray, visible light and infrared ray, being highly purified, having high heat resistance and being low in the diffusion velocity of metal impurities, so that it is suitable for use as various optical materials, members for semiconductor production, members for liquid crystal production, etc.
摘要翻译：包含5ppm以下的OH和Li，Na，K，Mg，Ca和Cu的熔融石英玻璃，其含量小于0.1ppm，表现出内部透射率，以10mm的厚度测量，相对于245nm波长的紫外线辐射，为95％以上。优选地，熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为1011.5Pa.s或更大，并且表现出在离表面深度超过20μm至100μm的区域中测量的Cu离子扩散系数，在1050℃的大气中放置24小时，为1810-10cm2 / sec或更低。该熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末转化为方英石，然后在非还原性气氛中将其熔融而制得。该熔融石英玻璃具有紫外线，可见光和红外线的透射率高，高纯度，耐热性高，金属杂质扩散速度低的特性，因此适用于各种光学材料，半导体制造用构件，液晶制造用构件等。

6. 发明授权

KR101378748B1 용융 석영 유리 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：熔融石英玻璃及其制造方法
公开(公告)号：KR101378748B1
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：KR1020097004337
申请日：2007-09-11
申请人： 토소가부시키가이샤 , 토소 에스지엠 가부시키가이샤
发明人： 아라이카즈요시 , 타카하타츠토무 , 하시모토신키치 , 우치다마사토 , 야마다노부스케 , 하라다요시노리 , 호리코시히데하루
IPC分类号： C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0085 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C4/10 , C03C2201/23 , C03C2201/50 , C03C2201/54 , Y02P40/57
摘要： 본 발명에 의하면, 파장 245㎚의 자외광에 대한 두께 10㎜에서의 내부 투과율이 95% 이상이며, OH 함유량이 5ppm 이하, Li, Na, K, Mg, Ca, Cu의 함유량이 각각 0.1ppm 미만인 용융 석영 유리가 제공된다. 바람직하게는, 이 용융 석영 유리의 1215℃에 있어서의 점성률은 10
11.5 ㎩·s 이상이며, 또, 1050℃에서 대기 중에 24시간 방치 시의, 표면으로부터의 깊이가 20㎛를 초과하여 100㎛까지의 영역에 있어서의 Cu 이온의 확산계수가 1×10
-10 ㎠/sec 이하이다. 이 용융 석영 유리는, 원료 실리카 분말을 크로스토발라이트화하고, 이어서, 비환원성 분위기 중에서 용융시킴으로써 제조된다. 이 용융 석영 유리는, 자외선, 가시광선, 적외선의 투과율이 높고, 고순도이면서 내열성이 높으며, 금속 불순물의 확산속도가 작다고 하는 특성을 지니고, 각종 광학 재료, 반도체 제조용 부재, 액정 제조용 부재 등으로서 적합하다.
용융 석영 유리, 내부 투과율, OH 함유량, 실리카 분말, 비환원성 분위기

7. 发明公开

KR1020050095846A 내식성 부재 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：耐腐蚀成员及其生产方法
公开(公告)号：KR1020050095846A
公开(公告)日：2005-10-04
申请号：KR1020057012996
申请日：2004-01-26
申请人： 토소가부시키가이샤
发明人： 아베마사노리 , 다카하시코야타 , 아라이카즈요시 , 다카하타쯔토무 , 하시모토신키치 , 코고마사노리
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C4/10
CPC分类号： C03C17/04 , C03C3/062 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/095 , C03C8/02 , C03C15/00 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/3417 , C03C19/00 , C03C2217/78 , C23C4/10 , C23C4/11 , C23D5/04 , Y02T50/67
摘要： Members used in CVD apparatuses, plasma processing apparatuses and the like are worn out by reaction with a corrosive gas or etching with plasma and thus cause problems such as contamination of products by particles formed therefor and lowering of productivity yield. Glasses resistant to corrosive gases and plasma are weak in the heat-resistant strength and thus have limited applications. A member composed of a highly heat-resistant base covered with a glass spray coating of a corrosion-resistant glass containing at least one element selected from the group consisting of elements of group 2a, group 3a and group 4a, especially one with a spray coating of an alminosilicate or zirconia silicate is high in corrosion resistance to corrosive gases and plasma and in heat-resistant strength, and thus forms few particles.
摘要翻译：在CVD装置，等离子体处理装置等中使用的构件通过与腐蚀性气体的反应或等离子体蚀刻而磨损，因此产生诸如由其形成的颗粒污染产品和降低生产率的问题。耐腐蚀性气体和等离子体的玻璃的耐热强度较弱，因此应用有限。由高耐热基底构成的构件，其覆盖有耐腐蚀玻璃的玻璃喷涂层，其含有至少一种选自组2a，组3a和组4a的元素的元素，特别是具有喷涂层的硅酸铝或氧化锆硅酸盐对腐蚀性气体和等离子体的耐腐蚀性和耐热强度高，因此形成很少的颗粒。

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