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1. 发明授权

KR101494568B1 최적화된 조정 가능성을 갖는 투영 노광 장치 有权
标题翻译：投影曝光装置优化调整可能性
公开(公告)号：KR101494568B1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：KR1020137031547
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본 발명은 오브젝트 필드를 결상하기 위한 마이크로리소그래피용 투영 장치이며, 대물부와, 대물부의 하나 또는 복수의 광학 요소를 조작하기 위한 하나 또는 복수의 머니퓰레이터와, 하나 또는 복수의 머니퓰레이터를 조정 또는 제어하기 위한 제어 유닛과, 대물부의 적어도 하나 또는 복수의 결상 수차를 결정하기 위한 결정 장치와, 결상 수차에 관한 상한 및/또는 머니퓰레이터에 관한 운동을 비롯하여 대물부의 하나 또는 복수의 사양에 관한 상한을 포함하는 메모리를 포함하고, 결상 수차 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 및/또는 최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에 적어도 하나의 머니퓰레이터의 조정 또는 제어에 의한 머니퓰레이터 운동 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅을 결정할 때, 상한의 언더슈팅이 수행될 수 있는 투영 장치를 제공한다.

2. 发明公开

KR1020110047250A 최적화된 조정 가능성을 갖는 투영 노광 장치 有权
标题翻译：投影曝光装置具有优化的调节能力
公开(公告)号：KR1020110047250A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：KR1020117006816
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본 발명은 오브젝트 필드를 결상하기 위한 마이크로리소그래피용 투영 장치이며, 대물부와, 대물부의 하나 또는 복수의 광학 요소를 조작하기 위한 하나 또는 복수의 머니퓰레이터와, 하나 또는 복수의 머니퓰레이터를 조정 또는 제어하기 위한 제어 유닛과, 대물부의 적어도 하나 또는 복수의 결상 수차를 결정하기 위한 결정 장치와, 결상 수차에 관한 상한 및/또는 머니퓰레이터에 관한 운동을 비롯하여 대물부의 하나 또는 복수의 사양에 관한 상한을 포함하는 메모리를 포함하고, 결상 수차 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 및/또는 최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에 적어도 하나의 머니퓰레이터의 조정 또는 제어에 의한 머니퓰레이터 운동 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅을 결정할 때, 상한의 언더슈팅이 수행될 수 있는 투영 장치를 제공한다.
摘要翻译：本发明提供了一种用于微光刻的投射设备用于在一个或多个用于操作一个目标部分或多个光学元件的机械手和一个或多个用于调节或控制的多个操纵器的对象成像的领域中，目标部分，并且包括控制单元和物镜部分的至少一个或所述上限和/或上限，以及根据该确定装置用于确定多个成像像差，成像像差运动一个目标部分上或多个操纵器的规范的存储器并且它包括，成像像差过冲中的一个和的上限的/由一个或至多30000毫秒，或10000ms，或5000毫秒，或1000毫秒或200毫秒，或20ms，或5ms的，或至少一个在1毫秒通过操纵器的操纵器的调整或控制，操纵器运动中的一个的上限之一，可以执行下限的上限。

3. 发明公开

KR1020150082659A 마이크로리소그래피용 투영 장치 审中-实审
标题翻译：投影设备用于微型计算机
公开(公告)号：KR1020150082659A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：KR1020157016834
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본발명은오브젝트필드를결상하기위한마이크로리소그래피용투영장치이며, 대물부와, 대물부의하나또는복수의광학요소를조작하기위한하나또는복수의머니퓰레이터와, 하나또는복수의머니퓰레이터를조정또는제어하기위한제어유닛과, 대물부의적어도하나또는복수의결상수차를결정하기위한결정장치와, 결상수차에관한상한및/또는머니퓰레이터에관한운동을비롯하여대물부의하나또는복수의사양에관한상한을포함하는메모리를포함하고, 결상수차중 하나에의한상한중 하나의오버슈팅및/또는최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에적어도하나의머니퓰레이터의조정또는제어에의한머니퓰레이터운동중 하나에의한상한중 하나의오버슈팅을결정할때, 상한의언더슈팅이수행될수 있는투영장치를제공한다.

4. 发明公开

KR1020140130117A EUV 마이크로리소그래피용 투영 렌즈, 필름 요소 및 필름 요소를 포함하는 투영 렌즈를 생산하는 방법 审中-实审
标题翻译：用于EUV微结构，电影元件的投影镜头和制作包含电影元件的投影镜头的方法
公开(公告)号：KR1020140130117A
公开(公告)日：2014-11-07
申请号：KR1020147022045
申请日：2013-02-08
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 바브라노르베르트 , 슈나이더쏘냐 , 슈나이더리카르다 , 바그너헨드릭 , 발트크리스티앙 , 일리에프루멘 , 식케탄츠토마스 , 그루너토랄프 , 파울스발터 , 슈밋트홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G02B17/0892 , B82Y10/00 , G02B17/0896 , G03F7/70191 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G21K1/062 , Y10T29/49826
摘要： 본 발명에 따르면, 극자외 범위(EUV)로부터 작동 파장(λ)을 갖는 전자기 방사에 의해 투영 렌즈의 이미지 평면(IS) 내로 투영 렌즈의 대물 평면(OS) 내에 배열된 패턴을 결상하기 위한 투영 렌즈(PO)는, 대물 평면 내에 배열된 패턴이 밀에 의해 이미지 평면에 결상될 수 있는 방식으로 대물 평면과 이미지 평면 사이의 투영 비임 경로 내에 배열되는 미러 표면을 갖는 다수의 미러(M1 내지 M6)를 포함한다. 지정된 파면 보정 장치(WFC)는 필름을 갖는 필름 요소(FE)를 포함하며, 상기 필름은 파면 보정 디바이스의 작동 모드에서 투영 비임 경로 내에 배열되고 작동 파장(λ)에서 광학적 사용 영역 내에 충돌하는 EUV 방사의 대부분을 투과시킨다. 필름 요소는 제1 복소 굴절률 n
1 = (1-δ
1 ) + iβ
1 을 가지며 제1 층 두께 프로파일에 따라 상기 사용 영역에 걸쳐 국소적으로 변경되는 제1 광학 층 두께를 갖는 제1 층 재료로 구성되는 제1 층과, 제2 복소 굴절률 n
2 = (1-δ
2 ) + iβ
2 를 가지며 제2 층 두께 프로파일에 따라 상기 사용 영역에 걸쳐 국소적으로 변경되는 제2 광학 층 두께를 갖는 제2 층 재료로 구성되는 제2 층을 포함하고, 제1 층 두께 프로파일 및 제2 층 두께 프로파일은 상이하다. 1로부터의 제1 굴절률의 실수 부분의 편차(δ
1 )는 제1 층 재료의 흡수율(β
1 )에 비해 크고, 1로부터의 제2 굴절률의 실수 부분의 편차(δ
2 )는 제2 층 재료의 흡수율(β
2 )에 비해 작다.

6. 发明公开

KR1020170001734A 마이크로리소그래피용 투영 장치 审中-实审
标题翻译：投影设备用于微型计算机
公开(公告)号：KR1020170001734A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：KR1020167036259
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본발명은오브젝트필드를결상하기위한마이크로리소그래피용투영장치이며, 대물부와, 대물부의하나또는복수의광학요소를조작하기위한하나또는복수의머니퓰레이터와, 하나또는복수의머니퓰레이터를조정또는제어하기위한제어유닛과, 대물부의적어도하나또는복수의결상수차를결정하기위한결정장치와, 결상수차에관한상한및/또는머니퓰레이터에관한운동을비롯하여대물부의하나또는복수의사양에관한상한을포함하는메모리를포함하고, 결상수차중 하나에의한상한중 하나의오버슈팅및/또는최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에적어도하나의머니퓰레이터의조정또는제어에의한머니퓰레이터운동중 하나에의한상한중 하나의오버슈팅을결정할때, 상한의언더슈팅이수행될수 있는투영장치를제공한다.
摘要翻译：一种用于微光刻的投影曝光装置，包括：照明系统，被配置为用曝光灯照亮物场中的掩模; 以及投影物镜，包括多个光学元件，其配置成将来自物场中的掩模的曝光光成像到图像场中的晶片。投影曝光装置是晶片扫描器，其构造成在曝光光的晶片曝光期间使晶片相对于掩模移动。投影物镜还包括至少一个操纵器，其构造成操纵光学元件中的至少一个以及被配置为控制操纵器的控制单元。控制单元被配置为在曝光用的晶片曝光期间用操纵器来操纵光学元件。

7. 发明公开

KR1020140101891A 최적화된 조정 가능성을 갖는 투영 노광 장치 无效
公开(公告)号：KR1020140101891A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：KR1020147018834
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891 , H01L21/0274
摘要： 본 발명은 오브젝트 필드를 결상하기 위한 마이크로리소그래피용 투영 장치이며, 대물부와, 대물부의 하나 또는 복수의 광학 요소를 조작하기 위한 하나 또는 복수의 머니퓰레이터와, 하나 또는 복수의 머니퓰레이터를 조정 또는 제어하기 위한 제어 유닛과, 대물부의 적어도 하나 또는 복수의 결상 수차를 결정하기 위한 결정 장치와, 결상 수차에 관한 상한 및/또는 머니퓰레이터에 관한 운동을 비롯하여 대물부의 하나 또는 복수의 사양에 관한 상한을 포함하는 메모리를 포함하고, 결상 수차 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 및/또는 최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에 적어도 하나의 머니퓰레이터의 조정 또는 제어에 의한 머니퓰레이터 운동 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 을 결정할 때, 상한의 언더슈팅이 수행될 수 있는 투영 장치를 제공한다.

8. 发明授权

KR101426123B1 최적화된 조정 가능성을 갖는 투영 노광 장치 有权
公开(公告)号：KR101426123B1
公开(公告)日：2014-08-05
申请号：KR1020117006816
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본 발명은 오브젝트 필드를 결상하기 위한 마이크로리소그래피용 투영 장치이며, 대물부와, 대물부의 하나 또는 복수의 광학 요소를 조작하기 위한 하나 또는 복수의 머니퓰레이터와, 하나 또는 복수의 머니퓰레이터를 조정 또는 제어하기 위한 제어 유닛과, 대물부의 적어도 하나 또는 복수의 결상 수차를 결정하기 위한 결정 장치와, 결상 수차에 관한 상한 및/또는 머니퓰레이터에 관한 운동을 비롯하여 대물부의 하나 또는 복수의 사양에 관한 상한을 포함하는 메모리를 포함하고, 결상 수차 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 및/또는 최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에 적어도 하나의 머니퓰레이터의 조정 또는 제어에 의한 머니퓰레이터 운동 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅을 결정할 때, 상한의 언더슈팅이 수행될 수 있는 투영 장치를 제공한다.

9. 发明公开

KR1020140002078A 최적화된 조정 가능성을 갖는 투영 노광 장치 有权
标题翻译：投影曝光装置优化调整可能性
公开(公告)号：KR1020140002078A
公开(公告)日：2014-01-07
申请号：KR1020137031547
申请日：2009-09-18
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 빗트너보리스 , 발터홀거 , 뢰쉬마티아스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： 본 발명은 오브젝트 필드를 결상하기 위한 마이크로리소그래피용 투영 장치이며, 대물부와, 대물부의 하나 또는 복수의 광학 요소를 조작하기 위한 하나 또는 복수의 머니퓰레이터와, 하나 또는 복수의 머니퓰레이터를 조정 또는 제어하기 위한 제어 유닛과, 대물부의 적어도 하나 또는 복수의 결상 수차를 결정하기 위한 결정 장치와, 결상 수차에 관한 상한 및/또는 머니퓰레이터에 관한 운동을 비롯하여 대물부의 하나 또는 복수의 사양에 관한 상한을 포함하는 메모리를 포함하고, 결상 수차 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅 및/또는 최대 30000 ms, 또는 10000ms, 또는 5000 ms, 또는 1000 ms, 또는 200 ms, 또는 20 ms, 또는 5 ms 또는 1 ms 안에 적어도 하나의 머니퓰레이터의 조정 또는 제어에 의한 머니퓰레이터 운동 중 하나에 의한 상한 중 하나의 오버슈팅을 결정할 때, 상한의 언더슈팅이 수행될 수 있는 투영 장치를 제공한다.

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