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热词
    • 2. 发明授权
    • 박막 구조체에 관한 정보를 위해 저 코히어런스 간섭 측정 신호를 분석하기 위한 방법 및 시스템
    • 用于分析关于薄膜结构的信息的低相干干涉测量信号的方法和系统
    • KR101054786B1
    • 2011-08-05
    • KR1020077029677
    • 2006-05-18
    • 지고 코포레이션
    • 드그루트피터
    • G01B9/02G01B11/02
    • G01B11/2441G01B9/02084G01B9/02087G01B9/02088G01B9/0209G01N21/8422
    • 스캐닝 간섭 측정 신호를 분석하기 위한 방법 및 시스템에 대해 개시한다. 시험 물체(test object)(예를 들어, 박막을 갖는 샘플)의 제1 위치에 대해 스캐닝 간섭계에 의해 생성된 스캐닝 간섭 측정 신호를 제공하는 단계; 스캐닝 간섭계에 의해 생성되고 하나 이상의 파라미터 값에 의해 파라미터화되는, 상기 스캐닝 간섭 측정 신호의 모델 함수를 제공하는 단계; 상기 파라미터 값들을 변화시킴으로써 상기 모델 함수와 상기 스캐닝 간섭 측정 신호 사이의 스캔 위치에서의 각각의 일련의 시프트(shift)에 대해, 상기 스캐닝 간섭 측정 신호에 상기 모델 함수를 적합시키는 단계; 및 상기 적합에 기초하여 상기 제1 위치에서의 상기 시험 물체에 관한 정보(시험 물체의 박막에 대한 표면 높이 또는 표면 프로파일, 및/또는 두께 또는 두께 프로파일)를 결정하는 단계를 포함한다.
    • 公开了一种分析扫描干扰测量信号的方法和系统。 提供由扫描干涉仪产生的用于测试对象(例如,具有薄膜的样本)的第一位置的扫描干涉测量信号; 提供由所述扫描干涉仪生成并由一个或多个参数值参数化的所述扫描干涉测量信号的模型函数; 通过改变参数值,在模型函数和扫描干扰测量信号之间的扫描位置处将模型函数拟合用于每一系列位移的扫描干涉测量信号; 并且基于拟合确定第一位置处的信息(测试对象的薄膜的表面高度或表面轮廓和/或厚度或厚度轮廓)。
    • 4. 发明公开
    • 박막 구조체에 관한 정보를 위해 저 코히어런스 간섭 측정 신호를 분석하기 위한 방법 및 시스템
    • 用于分析薄膜结构信息的低相干干涉信号的方法和系统
    • KR1020080015018A
    • 2008-02-15
    • KR1020077029677
    • 2006-05-18
    • 지고 코포레이션
    • 드그루트피터
    • G01B9/02G01B11/02
    • G01B11/2441G01B9/02084G01B9/02087G01B9/02088G01B9/0209G01N21/8422
    • Methods and systems are disclosed for analyzing a scanning interferometry signal. Steps include: providing a scanning interferometry signal produced by a scanning interferometer for a first location of a test object (e.g., a sample having a thin film); providing a model function of the scanning interferometry signal produced by the scanning interferometer, wherein the model function is parametrized by one or more parameter values; fitting the model function to the scanning interferometry signal for each of a series of shifts in scan position between the model function and the scanning interferometry signal by varying the parameter values; and determining information about the test object (e.g., a surface height or height profile, and/or a thickness or thickness profile for a thin film in the test object) at the first location based on the fitting.
    • 公开了用于分析扫描干涉测量信号的方法和系统。 步骤包括:提供由扫描干涉仪产生的用于测试对象(例如,具有薄膜的样本)的第一位置的扫描干涉测量信号; 提供由扫描干涉仪产生的扫描干涉测量信号的模型函数,其中模型函数由一个或多个参数值参数化; 通过改变参数值,在模型函数和扫描干涉测量信号之间的扫描位置的一系列移位中的每一个对拟合扫描干涉测量信号拟合模型函数; 以及基于所述拟合来确定关于所述第一位置处的所述测试对象的信息(例如,表面高度或高度分布,以及/或所述测试对象中的薄膜的厚度或厚度分布)。
    • 6. 发明公开
    • 객체 표면의 특성을 결정하기 위한 간섭계
    • 用于确定物体表面特征的干涉仪
    • KR1020090073221A
    • 2009-07-02
    • KR1020097009642
    • 2006-01-19
    • 지고 코포레이션
    • 드레가새비어콜론나드그루트피터
    • G01B11/30G01B9/02G01B11/25
    • G01B9/023G01B9/02004G01B9/02027G01B9/02043G01B9/02044G01B9/02057G01B9/02072G01B9/02074G01B9/02084G01B9/02088G01B9/0209G01B11/0675G01B11/2441G01B2290/45G01B2290/70G01N21/21G01N21/211
    • (i) an interferometer configured to direct test electromagnetic radiation to a test surface (124) and reference electromagnetic radiation to a reference surface (122) and subsequently combine the electromagnetic radiation to form an interference pattern, the electromagnetic radiation being derived from a common source (102); (ii) a multi-element detector (134); and (iii) one or more optics (13S) configured to image the interference pattern onto the detector (134) so that different elements of the detector (134) correspond to different illumination angles of the test surface (124) by the test electromagnetic radiation. The measurements made by the detector elements provide ellipsometry/ ref lectometry data for the test surface (124). The disclosed system (100) can further be reconfigured to operate in a different mode (e.g., a profiling mode) in which the different elements of the detector (134) correspond to different locations of the test surface (124).
    • (i)干涉仪,被配置为将测试电磁辐射引导到测试表面(124)并将电磁辐射引用到参考表面(122),并且随后组合电磁辐射以形成干涉图案,所述电磁辐射是从公共源 (102); (ii)多元件检测器(134); 以及(iii)被配置为将所述干涉图案成像到所述检测器(134)上的一个或多个光学器件(13S),使得所述检测器(134)的不同元件对应于所述测试表面(124)通过所述测试电磁辐射 。 由检测器元件进行的测量为测试表面(124)提供椭圆测量/参考测量数据。 所公开的系统(100)还可被重新配置为以不同的模式(例如,轮廓模式)操作,其中检测器(134)的不同元件对应于测试表面(124)的不同位置。
    • 8. 发明公开
    • 객체 표면의 특성을 결정하기 위한 간섭계
    • 用于确定物体表面特征的干涉仪
    • KR1020070104615A
    • 2007-10-26
    • KR1020077019011
    • 2006-01-19
    • 지고 코포레이션
    • 드레가새비어콜론나드그루트피터
    • G01B11/02G01B11/06
    • G01B9/023G01B9/02004G01B9/02027G01B9/02043G01B9/02044G01B9/02057G01B9/02072G01B9/02074G01B9/02084G01B9/02088G01B9/0209G01B11/0675G01B11/2441G01B2290/45G01B2290/70G01N21/21G01N21/211
    • (i) an interferometer configured to direct test electromagnetic radiation to a test surface (124) and reference electromagnetic radiation to a reference surface (122) and subsequently combine the electromagnetic radiation to form an interference pattern, the electromagnetic radiation being derived from a common source (102); (ii) a multi-element detector (134); and (iii) one or more optics (13S) configured to image the interference pattern onto the detector (134) so that different elements of the detector (134) correspond to different illumination angles of the test surface (124) by the test electromagnetic radiation. The measurements made by the detector elements provide ellipsometry/ ref lectometry data for the test surface (124). The disclosed system (100) can further be reconfigured to operate in a different mode (e.g., a profiling mode) in which the different elements of the detector (134) correspond to different locations of the test surface (124).
    • (i)干涉仪,被配置为将测试电磁辐射引导到测试表面(124)并将电磁辐射引用到参考表面(122),并且随后组合电磁辐射以形成干涉图案,所述电磁辐射是从公共源 (102); (ii)多元件检测器(134); 以及(iii)被配置为将所述干涉图案成像到所述检测器(134)上的一个或多个光学器件(13S),使得所述检测器(134)的不同元件对应于所述测试表面(124)通过所述测试电磁辐射 。 由检测器元件进行的测量为测试表面(124)提供椭圆测量/参考测量数据。 所公开的系统(100)还可被重新配置为以不同的模式(例如,轮廓模式)操作,其中检测器(134)的不同元件对应于测试表面(124)的不同位置。