专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102227909B1 배치식 기판처리장치 및 그 운용방법 有权
公开(公告)号：KR102227909B1
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020190085807
申请日：2019-07-16
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 김희석 , 최규진 , 이강일
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/02
摘要： 본발명은배치식기판처리장치및 그운용방법에관한것으로서, 보다상세하게는반응튜브의인시튜(in-situ) 세정주기를늘릴수 있는배치식기판처리장치및 그운용방법에관한것이다. 본발명의일실시예에따른배치식기판처리장치는기판이다단으로적재되는기판보트를수용하는내부공간을갖는종형의반응튜브; 상기반응튜브의내부에증착가스를공급하는증착가스공급부; 상기반응튜브의외측에배치되어, 상기반응튜브의내부에열에너지를제공하는히터부; 및상기반응튜브의내벽에코팅되어, 잉여의증착가스에의한증착부산물층이부착되는부착층;을포함할수 있다.

2. 发明公开

KR1020210009154A 배치식 기판처리장치 및 그 운용방법 有权
公开(公告)号：KR1020210009154A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：KR1020190085807
申请日：2019-07-16
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 김희석 , 최규진 , 이강일
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/02
摘要： 본발명은배치식기판처리장치및 그운용방법에관한것으로서, 보다상세하게는반응튜브의인시튜(in-situ) 세정주기를늘릴수 있는배치식기판처리장치및 그운용방법에관한것이다. 본발명의일실시예에따른배치식기판처리장치는기판이다단으로적재되는기판보트를수용하는내부공간을갖는종형의반응튜브; 상기반응튜브의내부에증착가스를공급하는증착가스공급부; 상기반응튜브의외측에배치되어, 상기반응튜브의내부에열에너지를제공하는히터부; 및상기반응튜브의내벽에코팅되어, 잉여의증착가스에의한증착부산물층이부착되는부착층;을포함할수 있다.

3. 发明授权

KR101731488B1 기판처리장치 및 튜브 조립체 조립방법 有权
公开(公告)号：KR101731488B1
公开(公告)日：2017-05-02
申请号：KR1020150149572
申请日：2015-10-27
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 유차영 , 제성태 , 최규진 , 구자대 , 김준 , 정봉주 , 박경석 , 김용기 , 김재우
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
摘要： 본발명은기판이처리되는내부공간을형성하고, 복수의적층체가적층되어조립되는튜브조립체; 상기튜브조립체의내부공간에서복수의기판을다단으로지지하는기판홀더; 상기튜브조립체의일측에설치되고, 상기내부공간의복수의기판각각으로공정가스를공급하는가스공급유닛; 및상기내부공간으로공급된공정가스를배기하도록튜브조립체에연결되는배기유닛을; 포함하고, 층류를유도하여기판의상부면으로균일한양의공정가스를공급할수 있다.

4. 发明公开

KR1020170010583A 기판 처리장치 有权
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR1020170010583A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：KR1020150102391
申请日：2015-07-20
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 최규진 , 박송환 , 한성민 , 최성하
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/45563 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , H01L21/67109 , H01L21/67303 , H01L21/67309
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것으로서, 보다상세하게는배치식기판처리장치에서복수의기판에각각독립적으로공정을수행할수 있는기판처리장치에관한것이다. 본발명의일실시예에따른기판처리장치는복수의기판이각각적재되는복수의적재공간을형성하는복수의구획플레이트와, 상기복수의구획플레이트를서로연결하는복수의연결로드를포함하고, 상기복수의기판이상기복수의적재공간에다단으로적재되는기판보트; 내부에상기기판보트가수용되는수용공간이형성되고, 상기기판보트에적재된기판의처리공정이수행되는내부반응튜브; 분사노즐을통해상기복수의기판에원료가스와식각가스가포함된공정가스를공급하는가스공급부; 및상기분사노즐에대응되어형성된흡입구를통해상기내부반응튜브내의공정잔류물을배기하는배기부를포함하고, 상기복수의기판은상기복수의구획플레이트로부터이격되어적재될수 있다.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置，更具体地，可以在多个基板上独立地进行处理的间歇式基板处理装置。基板处理装置包括：基板舟，包括多个隔板和多个连接杆，内部反应管，气体供给单元和排气单元，并且多个基板被装载以与隔板分离。

5. 发明公开

KR1020160124534A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR1020160124534A
公开(公告)日：2016-10-28
申请号：KR1020150055297
申请日：2015-04-20
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 최규진 , 박송환 , 김경훈 , 한성민 , 최성하
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것으로서, 보다상세하게는기판처리의균일도를향상시킬수 있는기판처리장치에관한것이다. 본발명의일실시예에따른기판처리장치는기판처리공간을제공하는챔버; 상기챔버로공정가스를공급하는공정가스공급라인; 가장자리부에상기공정가스가분사되는분사홀이형성된제1 확산판; 상기제1 확산판에대향되어위치하고, 기판을지지하는기판지지대; 상기제1 확산판과상기기판지지대의사이에제공되고, 복수의분배홀이형성된제2 확산판; 및상기제1 확산판과상기제2 확산판의사이공간에플라즈마를형성하는플라즈마발생부를포함할수 있다.
摘要翻译：基板处理装置技术领域本发明涉及基板处理装置，尤其涉及能够提高基板处理的均匀性的基板处理装置。根据本发明实施例的基板处理设备包括用于提供基板处理空间的腔室; 用于将处理气体供应到腔室的处理气体供应管线; 具有注入孔的第一扩散板，工艺气体通过该注入孔在边缘处被注入; 衬底支撑件，所述衬底支撑件被定位成面对所述第一扩散板并支撑所述衬底设置在所述第一扩散板与所述基板支撑体之间并具有多个分配孔的第二扩散板; 以及等离子体发生器，用于在第一扩散板和第二扩散板之间的空间中产生等离子体。

6. 发明授权

KR101720620B1 기판처리장치 및 챔버 세정방법 有权
标题翻译：基板处理设备和腔室清洁方法
公开(公告)号：KR101720620B1
公开(公告)日：2017-03-28
申请号：KR1020150055991
申请日：2015-04-21
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 제성태 , 최규진 , 구자대 , 김준
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： C23C16/4405 , C23C16/45502 , H01L21/02 , H01L21/67017 , H01L21/67063 , H01L21/67109 , H01L21/67757 , H01L21/68792
摘要： 본발명은기판대기공간을제공하는제1 몸체부및 상기기판상에박막증착공정이수행되는공간을제공하는제2 몸체부를구비하는챔버, 상기기판이적재되고상기제1 몸체부와상기제2 몸체부사이를이동가능한기판홀더, 상기제2 몸체부의내부에서상기기판으로박막증착을위한제1 가스를공급하는제1 공급유닛, 상기제1 몸체부내부로상기박막을증착하면서생성된부산물과반응하여흄을발생시키는제2 가스를공급하는제2 공급유닛, 및상기챔버내부의가스들을배기하는배기유닛을포함하여, 기판상에박막을증착하면서생성된부산물을신속하게제거할수 있다.
摘要翻译：本发明提供一种腔室，其包括提供基板保持空间的第一本体部分和提供执行薄膜沉积工艺的空间的第二本体部分，体副该可动基板支架，从内侧第二主体部分供给第一，用于与基板单元成膜供给第一气体，副产物，反应产物和沉积薄膜由内侧的第一主体部分用于供应用于产生烟气的第二气体的第二供应单元以及用于排出腔室内的气体的排气单元，从而可以快速地去除在基板上沉积薄膜时产生的副产物。

7. 发明授权

KR101715192B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR101715192B1
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：KR1020150149573
申请日：2015-10-27
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 유차영 , 제성태 , 최규진 , 구자대 , 김준 , 정봉주 , 박경석 , 김용기 , 김재우
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/67 , H01L21/60 , H01L21/677 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/687
摘要： 본발명은, 기판이처리되는내부공간을형성하고, 분사부와배기구를각각구비하는복수의적층체가적층되어조립되는튜브조립체, 상기내부공간에서복수의기판을다단으로지지하는기판홀더, 공정가스를공급하도록상기복수의적층체중 어느하나의분사부와연결되는공급라인, 및공정가스를배기하도록복수의배기구중 어느하나와연결되는배기라인을포함하고, 공정가스의층류를유도하여기판의상부면으로균일하게공정가스를공급할수 있다.
摘要翻译：本发明中，以形成其中所述衬底进行处理的内部空间，注射组件和管组件被组装层叠多个具有排气口的多层的，分别为从在多个阶段中的内部空间支撑多个基板的基板支架，工艺气体到喂连接到多个的所述多个层叠体重或者在其连接到所述喷射部供给管线中的排气端口中的一个排气管线，和排出工艺气体，和处理气体基板服装面的诱导层流这样工艺气体可以均匀地供应。

8. 发明授权

KR101682153B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板加工装置
公开(公告)号：KR101682153B1
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020150052534
申请日：2015-04-14
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 제성태 , 최규진 , 한성민
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/205 , C23C16/00 , H01L21/02 , H01L21/02041 , H01L21/673
摘要： 본발명은내부공간을형성하는제1 튜브, 상기제1 튜브의내부공간에복수의기판을상하방향으로적재하고, 각기판이처리되는복수의처리공간을개별적으로형성하는기판홀더, 상기제1 튜브의내부로가스를공급하도록상하방향으로각각의상기처리공간에대응하여배치되는복수의메인분사홀을구비하는가스공급유닛, 및상기제1 튜브내부의복수의처리공간으로공급된가스를외부로배기하는배기유닛을포함하고, 상기배기유닛은, 상기메인분사홀과마주보고, 상하방향으로각각의처리공간에대응하여일렬로배치되는복수의배기홀을포함하여, 기판상의가스의유동을원활하게할 수있다.
摘要翻译：本发明包括：具有内部空间的第一管; 用于在第一管的内部空间中垂直堆叠多个基板并且独立地形成其中正在处理每个基板的多个处理空间的基板保持器; 气体供给单元，其具有与各处理空间对应地垂直配置的多个主喷射孔，以便向第一管供给气体; 以及排出单元，其用于排出已经供应到第一管内部的多个处理空间的气体，其中排出单元包括面向主喷射孔的多个排放孔，并且垂直设置在一条直线上对应于每个处理空间，从而使得气体在基板上的平稳流动。

9. 发明授权

KR101715193B1 기판 처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR101715193B1
公开(公告)日：2017-03-10
申请号：KR1020150102391
申请日：2015-07-20
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 최규진 , 박송환 , 한성민 , 최성하
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/45563 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , H01L21/67109 , H01L21/67303 , H01L21/67309
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것으로서, 보다상세하게는배치식기판처리장치에서복수의기판에각각독립적으로공정을수행할수 있는기판처리장치에관한것이다. 본발명의일실시예에따른기판처리장치는복수의기판이각각적재되는복수의적재공간을형성하는복수의구획플레이트와, 상기복수의구획플레이트를서로연결하는복수의연결로드를포함하고, 상기복수의기판이상기복수의적재공간에다단으로적재되는기판보트; 내부에상기기판보트가수용되는수용공간이형성되고, 상기기판보트에적재된기판의처리공정이수행되는내부반응튜브; 분사노즐을통해상기복수의기판에원료가스와식각가스가포함된공정가스를공급하는가스공급부; 및상기분사노즐에대응되어형성된흡입구를통해상기내부반응튜브내의공정잔류물을배기하는배기부를포함하고, 상기복수의기판은상기복수의구획플레이트로부터이격되어적재될수 있다.
摘要翻译：基板处理装置技术领域本发明涉及一种基板处理装置，尤其涉及能够在批量处理装置中对多个基板独立地进行处理的基板处理装置。根据本发明实施例的基板处理设备包括：多个分隔板，其形成多个堆叠空间，多个基板分别堆叠在所述堆叠空间上;以及多个连接杆，所述多个连接杆将多个分隔板彼此连接，一种基板舟皿，仪表板以多级方式堆叠在所述多个装载空间中; 其中形成有用于容纳基板舟的容纳空间的内部反应管以及装载在基板舟上的基板的处理过程; 气体供应单元，用于通过喷嘴向所述多个基板供应包含源气体和蚀刻气体的处理气体; 以及排气单元，用于通过与所述喷嘴对应地形成的入口排出所述内反应管中的处理残留物，其中所述多个基板可以堆叠远离所述多个隔板。

10. 发明公开

KR1020160122524A 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR1020160122524A
公开(公告)日：2016-10-24
申请号：KR1020150052534
申请日：2015-04-14
申请人： 주식회사 유진테크
发明人： 정우덕 , 제성태 , 최규진 , 한성민
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/205 , C23C16/00 , H01L21/02 , H01L21/02041 , H01L21/673
摘要： 본발명은내부공간을형성하는제1 튜브, 상기제1 튜브의내부공간에복수의기판을상하방향으로적재하고, 각기판이처리되는복수의처리공간을개별적으로형성하는기판홀더, 상기제1 튜브의내부로가스를공급하도록상하방향으로각각의상기처리공간에대응하여배치되는복수의메인분사홀을구비하는가스공급유닛, 및상기제1 튜브내부의복수의처리공간으로공급된가스를외부로배기하는배기유닛을포함하고, 상기배기유닛은, 상기메인분사홀과마주보고, 상하방향으로각각의처리공간에대응하여일렬로배치되는복수의배기홀을포함하여, 기판상의가스의유동을원활하게할 수있다.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置，包括：形成内部空间的第一管;用于将多个基板竖直装载在第一管的内部空间中并且分别形成用于处理基板的多个处理空间的基板支架; 并且，在上下方向上与各处理空间对应地配置多个主喷射孔，以向第一管内供给气体，其中，排气单元包括多个排气孔，所述多个排气孔与面向主喷射孔的垂直方向上的各个处理空间对应地排列成一列，以平稳地流动基板上的气体它可制成。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式