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1. 发明授权

KR101706987B1 유기절연막 박리액의 제조방법 有权
标题翻译：用于剥离有机电介质层的液体组合物的制备方法
公开(公告)号：KR101706987B1
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020090051254
申请日：2009-06-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/3105 , C11D1/72 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/11 , G03F7/075
摘要： 본발명은유기절연막박리액의제조방법에관한것으로, 특히 a) 환류장치가구비된가압조건의교반기내에서테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 또는이의염, 글리콜에테르및 물을고온에서교반하는단계; b) 상기 a)단계의교반후 실온으로냉각된교반물에수용성아민을첨가하는단계;를포함하는것을특징으로하는유기절연막박리액의제조방법및 이에의하여제조된유기절연막박리액에관한것이다. 본발명에의하여제조된유기절연막박리액은유기절연막의하부에위치하고있는금속배선및 칼라레지스트는손상시키지않으면서유기절연막, 특히티에프티엘시디(TFT-LCD)용네가티브형유기절연막만을짧은시간내에용이하게제거할수 있다.
摘要翻译：目的：提供一种制备用于剥离有机介电层的液体组合物的方法，以防止位于有机介电层下部的金属布线和着色抗蚀剂的损坏，并除去用于TFT-LCD的负型有机介电层很短的时间。构成：制备液体组合物的方法包括以下步骤：搅拌3-15重量份的四甲基氢氧化铵或其盐，10-60重量份的乙二醇醚和9-45重量份的水，在90℃ -120℃2-72小时; 并向冷却至室温的混合物中加入20-40重量份的水溶性胺。混合器内的压力保持在1.5-5atm。

2. 发明授权

KR101696390B1 ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译： - 用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR101696390B1
公开(公告)日：2017-01-13
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
摘要： 본발명은 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것으로, 보다상세하게는테트라메틸암모늄하이드록사이드 10-15 중량부, 모노에탄올아민 10-15 중량부, 및잔부의물을포함하여, 모든막에대한세정효과가우수하고, 금속막질에대한부식방지와작업성이향상되고, 안정성및 환경친화성을확보할수 있는 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것이다.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

3. 发明公开

KR1020110134185A ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译：一种用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR1020110134185A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
CPC分类号： C11D7/34 , C11D7/00 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要： PURPOSE: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor is provided to improve workability, anti-corrosion property to the metal membrane and cleaning effect to the all membrane, and satisfy stability and environmental-friendly. CONSTITUTION: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor comprises 10-15 parts by weight tetramethylammonium hydroxide, 10-15 parts by weight monoethanolamine, and the residue of water. A cleaning composition additionally comprises 0.01-0.1 mercapto based compound on the basis of the total 100 parts by weight of the tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine and water. The mercapto based compound is one or more selected from the group consisting of mercaptomethyl imidazole, mercaptomethyl imidazole, thioglycerol, and thiolactic acid.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

4. 发明公开

KR1020110095814A 증착 재료 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 审中-实审
标题翻译：用于沉积物质的洗涤液体组合物和使用其的洗涤方法
公开(公告)号：KR1020110095814A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020110011876
申请日：2011-02-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/32 , H05B33/10 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/32 , C11D11/0047 , C11D11/0094 , H05B33/10
摘要： PURPOSE: A cleaning solution composition for deposition materials is provided to shorten the time of a production process and to save production costs by rapidly removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device. CONSTITUTION: A cleaning solution composition for deposition materials comprises: 5-80 weight% of N-methyl-2-pyrrolidone; and 20-95 weight% of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. A cleaning method comprises a step of removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device using the cleaning solution composition for deposition materials.
摘要翻译：目的：提供用于沉积材料的清洁溶液组合物，以缩短生产过程的时间并通过快速去除附着在电光学装置的生产设备上的沉积材料来节省生产成本。构成：用于沉积材料的清洁溶液组合物包含：5-80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮; 和20-95重量％的1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。清洁方法包括使用沉积材料的清洁溶液组合物除去附着到电光学装置的制造装置上的沉积材料的步骤。

5. 发明公开

KR1020090072546A 포토레지스트 제거용 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의제조 방법 无效
标题翻译：用于去除光电元件的组合物和使用其制造阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020090072546A
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：KR1020070140687
申请日：2007-12-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 박홍식 , 홍선영 , 김봉균 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425
摘要： A composition for removing photoresist, and a method for preparing an array substrate by using the composition are provided to improve the resist removing power, thereby reducing the processing time. A composition for removing photoresist comprises an amine compound comprising a cyclic amine and/or amine; a glycol ether compound; a corrosion inhibitor; and a polar solvent. Preferably the content of the glycol ether compound is 10-90 wt%. Preferably the polar solvent is formamide.
摘要翻译：提供了用于除去光致抗蚀剂的组合物，以及通过使用该组合物制备阵列基板的方法，以提高抗蚀剂去除能力，从而减少处理时间。用于除去光致抗蚀剂的组合物包含包含环胺和/或胺的胺化合物; 乙二醇醚化合物; 腐蚀抑制剂; 和极性溶剂。二醇醚化合物的含量优选为10-90重量％。优选极性溶剂是甲酰胺。

6. 发明授权

KR102134577B1 화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물 有权
公开(公告)号：KR102134577B1
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：KR1020130136944
申请日：2013-11-12
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 장두영 , 김병욱 , 조태표 , 윤석일 , 허순범 , 한영규
IPC分类号： C11D11/00 , C11D7/26 , C11D7/32 , H01L21/306

7. 发明公开

KR1020170070871A 포토 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 어레이의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光致抗蚀剂剥离剂组合物及使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR1020170070871A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：KR1020150177871
申请日：2015-12-14
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김봉균 , 박홍식 , 정재우 , 김병욱 , 조태표 , 허순범 , 장두영 , 김동관
IPC分类号： G03F7/42 , H01L27/12
摘要： 금속패턴에대한부식및/또는유기/무기막등에대한손상없이포토레지스트만을제거할수 있는포토레지스트제거용박리제조성물이제공된다. 상기포토레지스트제거용박리제조성물은, 상기박리제조성물의전체중량에대하여, 15 중량% 내지 80 중량%의 N,N-디메틸프로피온아마이드를포함하는비양자성극성용매, 25 중량% 내지 80 중량%의양자성극성용매, 및 1 중량% 내지 15 중량%의아민계화합물을포함한다.
摘要翻译：的腐蚀和/或可以仅去除光致抗蚀剂而不损坏有机/无机薄膜光刻胶剥离剂用于去除该图案中的金属的组合物被提供。用于去除光致抗蚀剂剥离剂组合物是基于所述隔离剂组合物，15重量％到80％的总重量按重量计的N，N-二甲基 - 丙酰胺的非质子极性溶剂中，25％至80％（重量）含磁性uiyang的极性溶剂和1重量％至15重量％的基于胺的化合物。

8. 发明公开

KR1020140064401A 포토레지스트 박리액 조성물 및 포토레지스트의 박리방법 审中-实审
标题翻译：用于光电子剥离解决方案的组合物和使用其的光电离子的剥离方法
公开(公告)号：KR1020140064401A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：KR1020120131695
申请日：2012-11-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 허순범 , 김병욱 , 조태표 , 윤석일 , 정세환 , 장두영 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/42 , G03F7/426
摘要： The present invention relates to a photoresist stripping solution composition and a method for stripping a photoresist, and more specifically, to a photoresist stripping solution composition which includes N-dimethyl-propionamide, solketal, and organic amines and can substitute for glycol ether compounds harmful to environment and human bodies.
摘要翻译：光致抗蚀剂剥离溶液组合物和剥离光致抗蚀剂的方法技术领域本发明涉及光致抗蚀剂剥离溶液组合物和剥离光致抗蚀剂的方法，更具体地说，涉及包括N-二甲基 - 丙酰胺，溶胶缩酮和有机胺的光致抗蚀剂剥离溶液组合物，并且可以代替对环境和人体。

9. 发明授权

KR101333779B1 티에프티 엘시디용 칼라 레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：用于TIFITIAL LCD的彩色光刻胶剥离液液体组合物
公开(公告)号：KR101333779B1
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020070083612
申请日：2007-08-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/32
摘要： 본 발명은 티에프티 엘시디의 칼라필터 공정 중 발생하는 불량의 기판을 재사용하기 위해 칼라레지스트 패턴 및 오버코트를 제거하는 티에프티 엘시디용 칼라레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (a) 무기 알칼리 하이드록사이드, 암모늄 하이드록사이드, 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬 암모늄 하이드록사이드 및 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 페닐알킬 암모늄 하이드록사이드로 이루어진 군에서 선택되는 하이드록사이드 화합물 1 내지 20 중량%; (b) 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 갖는 알킬렌글리콜에테르 및 알킬렌 글리콜로 이루어진 군에서 1종 이상 선택되는 화합물 1 내지 70 중량%; (c) 하이드록실아민 0.5 내지 10 중량%; (d) 알콕시알킬아민 0.5 내지 50 중량%; 및 (e) 잔량의 물을 포함하는, 칼라레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 칼라 레지스트 박리액 조성물은 칼라 레지스트와 오버코트를 단시간 내에 제거할 수 있고, 종래 칼라 레지스트 패턴의 제거가 곤란하여 대부분 폐기되었던 칼라 필터 기판의 재사용을 가능케 한다.
칼라 레지스트, 오버코트, 박리액, 티에프티 엘시디
摘要翻译：本发明涉及一种茶FT LCD滤色器处理T FT LCD彩色抗蚀剂用于去除彩色抗蚀剂图案和外涂层中，为了重复使用剥离剂组合物过程中产生的缺陷的衬底，并且更特别地（a）中的无机碱氢氧化物化合物1从氢氧化物，氢氧化铵，烷基具有铵20具有1至4个碳原子，氢，和选自苯基烷基氢氧化铵的具有烷基的1至4个碳原子的基团的烷基％重量; （b）1至70重量％的选自具有1至4个碳原子的烷基的亚烷基二醇醚和亚烷基二醇的化合物; （c）0.5-10重量％的羟胺; （d）0.5至50重量％的烷氧基烷基胺; （e）剩余的水量。

10. 发明公开

KR1020110006784A 포토레지스트의 도포 효율 증진용 밀착제 조성물 无效
标题翻译：改善光电效率的粘合剂组合物
公开(公告)号：KR1020110006784A
公开(公告)日：2011-01-21
申请号：KR1020090064328
申请日：2009-07-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/16
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/11
摘要： PURPOSE: An adhesive composition is provided to increase adhesion between a photoresist and a semiconductor substrate, to enable uniform coating of the photoresist, and to prevent lithography processing defects. CONSTITUTION: An adhesive composition for improving coating efficiency of a photoresist comprises (a) alkyleneglycol monoalkylether acetate, (b) alkyl lactate, and (c) gamma-butyrolactone. The alkyleneglycol monoalkylether acetate is at least one kind selected from the group consisting of propyleneglycol monomethylether acetate, propyleneglycol monoethylether acetate, propyleneglycol monopropylether acetate, propyleneglycol monobutylether acetate.
摘要翻译：目的：提供粘合剂组合物以增加光致抗蚀剂和半导体衬底之间的粘合性，以使光致抗蚀剂均匀涂覆，并防止光刻加工缺陷。构成：用于提高光致抗蚀剂的涂布效率的粘合剂组合物包含（a）亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯，（b）乳酸烷基酯和（c）γ-丁内酯。亚烷基二醇单烷基醚乙酸酯是选自丙二醇单甲醚乙酸酯，丙二醇单乙醚乙酸酯，丙二醇单丙醚乙酸酯，丙二醇单丁醚乙酸酯中的至少一种。

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