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1. 发明公开

KR1020090072546A 포토레지스트 제거용 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의제조 방법 无效
标题翻译：用于去除光电元件的组合物和使用其制造阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020090072546A
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：KR1020070140687
申请日：2007-12-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 박홍식 , 홍선영 , 김봉균 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425
摘要： A composition for removing photoresist, and a method for preparing an array substrate by using the composition are provided to improve the resist removing power, thereby reducing the processing time. A composition for removing photoresist comprises an amine compound comprising a cyclic amine and/or amine; a glycol ether compound; a corrosion inhibitor; and a polar solvent. Preferably the content of the glycol ether compound is 10-90 wt%. Preferably the polar solvent is formamide.
摘要翻译：提供了用于除去光致抗蚀剂的组合物，以及通过使用该组合物制备阵列基板的方法，以提高抗蚀剂去除能力，从而减少处理时间。用于除去光致抗蚀剂的组合物包含包含环胺和/或胺的胺化合物; 乙二醇醚化合物; 腐蚀抑制剂; 和极性溶剂。二醇醚化合物的含量优选为10-90重量％。优选极性溶剂是甲酰胺。

2. 发明公开

KR1020170070871A 포토 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 어레이의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光致抗蚀剂剥离剂组合物及使用其制造薄膜晶体管阵列的方法
公开(公告)号：KR1020170070871A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：KR1020150177871
申请日：2015-12-14
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김봉균 , 박홍식 , 정재우 , 김병욱 , 조태표 , 허순범 , 장두영 , 김동관
IPC分类号： G03F7/42 , H01L27/12
摘要： 금속패턴에대한부식및/또는유기/무기막등에대한손상없이포토레지스트만을제거할수 있는포토레지스트제거용박리제조성물이제공된다. 상기포토레지스트제거용박리제조성물은, 상기박리제조성물의전체중량에대하여, 15 중량% 내지 80 중량%의 N,N-디메틸프로피온아마이드를포함하는비양자성극성용매, 25 중량% 내지 80 중량%의양자성극성용매, 및 1 중량% 내지 15 중량%의아민계화합물을포함한다.
摘要翻译：的腐蚀和/或可以仅去除光致抗蚀剂而不损坏有机/无机薄膜光刻胶剥离剂用于去除该图案中的金属的组合物被提供。用于去除光致抗蚀剂剥离剂组合物是基于所述隔离剂组合物，15重量％到80％的总重量按重量计的N，N-二甲基 - 丙酰胺的非质子极性溶剂中，25％至80％（重量）含磁性uiyang的极性溶剂和1重量％至15重量％的基于胺的化合物。

3. 发明公开

KR1020100003526A 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법 无效
标题翻译：使用其制造显示面板的剥离器和方法
公开(公告)号：KR1020100003526A
公开(公告)日：2010-01-11
申请号：KR1020080063461
申请日：2008-07-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D1/72 , G02F1/1333 , G02F1/13458 , G02F1/136227 , G03F7/34 , H01L27/124
摘要： PURPOSE: A stripper is provided to ensure excellent strippability of a photosensitive film, to remarkably reduce swelling phenomenon in a color filter and insulating layer, and to suppress display defects by preventing the unevenness caused by swelling of the surface of the color filter and insulating layer. CONSTITUTION: A stripper comprises 1-20 weight% cyclic amine compound, 10-90 weight% glycol ether compound, and the remaining amount of polar solvent. A method for manufacturing a display panel using a release agent comprises the steps of: forming a gate electrode(124); forming an insulating layer(140) on the gate electrode; forming a semiconductor(151) on the gate insulating layer; forming a source electrode(173) and a drain electrode(175) on the semiconductor; forming a color filter(230) on the source electrode and drain electrode; and forming pixel electrode(191) on the insulating layer.
摘要翻译：目的：提供剥离器，以确保感光膜的优异的剥离性，显着减少滤色器和绝缘层中的溶胀现象，并且通过防止由滤色器和绝缘层的表面膨胀引起的不均匀性来抑制显示缺陷。构成：剥离剂包含1-20重量％的环胺化合物，10-90重量％的二醇醚化合物和剩余量的极性溶剂。使用脱模剂制造显示面板的方法包括以下步骤：形成栅电极（124）; 在栅电极上形成绝缘层（140）; 在栅绝缘层上形成半导体（151）; 在半导体上形成源电极（173）和漏电极（175）; 在源电极和漏电极上形成滤色器（230）; 以及在所述绝缘层上形成像素电极（191）。

4. 发明授权

KR101488265B1 박리 조성물 및 박리 방법 有权
标题翻译：汽提和汽提方法的组成
公开(公告)号：KR101488265B1
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：KR1020070098028
申请日：2007-09-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이지선 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 기판 상에 칼라 필터 또는 유기 절연막을 형성하는 공정 중에 불량이 발생하는 경우, 기판상에 형성된 칼라 레지스트 또는 유기 절연막을 용이하게 박리시키고 기판을 재사용할 수 있도록 하는 박리 조성물 및 박리 방법에 관한 것으로서, 하이드록사이드계 화합물 0.5 내지 45 중량%, 알킬렌글리콜알킬에테르계 화합물 10 내지 89 중량%, 알칸올아민계 화합물 5 내지 45 중량% 및 무기 염 화합물 0.01 내지 5 중량%를 포함하는 박리 조성물을 제공하여, 칼라 레지스트 또는 유기 절연막의 제거시 하지의 박막 트랜지스터에 손상을 가하지 않으면서 박리 공정을 진행할 수 있다.
칼라 필터, 칼라 레지스트, 유기 절연막, 박리 조성물

5. 发明公开

KR1020100070087A 포토레지스트 박리제 조성물 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电子剥离器的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020100070087A
公开(公告)日：2010-06-25
申请号：KR1020080128684
申请日：2008-12-17
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 김봉균 , 박홍식 , 홍선영 , 최영주 , 이병진 , 서남석 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , H01L27/124 , H01L27/1288
摘要： PURPOSE: A photoresist stripper composition and a method for manufacturing a thin film transistor array substrate using the same are provided to prevent the damage of an underlayer film when photoresist is stripped. CONSTITUTION: A photoresist stripper composition comprises: chain type amine compound 5 ~ 30 weight%; cyclic amine compound 0.5 ~ 10 weight%; glycol ether compound 10 ~ 80 weight%; distilled water 5 ~ 30 weight%; and anticorrosive agent 0.1 ~ 5 weight%. The chain type amine compound is selected from a group comprising monoethanolamine, diethanolamine, triethanolammine, propanolamin, dipropanolamine, tripropanolamine, isopropanol amine, diisopropanol, triisopropanol amine, 2-(2-aminoetoxy) ethanol.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂剥离剂组合物和使用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法，以防止当光致抗蚀剂剥离时下层膜的损伤。构成：光致抗蚀剂剥离剂组合物包含：链型胺化合物5〜30重量％; 环胺化合物0.5〜10重量％; 乙二醇醚化合物10〜80重量％; 蒸馏水5〜30重量％; 和防腐剂0.1〜5重量％。链型胺化合物选自单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，丙醇胺，二丙醇胺，三丙醇胺，异丙醇胺，二异丙醇，三异丙醇胺，2-（2-氨氧基）乙醇。

6. 发明公开

KR1020090032640A 박리 조성물 및 박리 방법 有权
标题翻译：用于剥离和剥离方法的组合物
公开(公告)号：KR1020090032640A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：KR1020070098028
申请日：2007-09-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이지선 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 김성배 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/34
CPC分类号： G03F7/425
摘要： A stripping composition and a stripping method using the same are provided to prevent the damage of the thin film transistor when removing color resist or organic insulating film. A stripping composition comprises a hydroxide-based compound 0.5-45 weight%, alkylene glycol alkyl ether-based compound 10-89 weight%, an alkanolamine-based compound 5-45 weight% and inorganic salt compound 0.01-5 weight%. The hydroxide-based compound has C1-4 alkyl group. The alkylene glycol alkyl ether-based compound has C1-4 alkyl group.
摘要翻译：提供剥离组合物和使用其的剥离方法以防止当去除彩色抗蚀剂或有机绝缘膜时薄膜晶体管的损坏。剥离组合物包含0.5-45重量％的氢氧化物基化合物，10-89重量％的亚烷基二醇烷基醚基化合物，5-45重量％的链烷醇胺化合物和0.01-5重量％的无机盐化合物。基于氢氧化物的化合物具有C1-4烷基。亚烷基二醇烷基醚类化合物具有C1-4烷基。

7. 发明授权

KR101706987B1 유기절연막 박리액의 제조방법 有权
标题翻译：用于剥离有机电介质层的液体组合物的制备方法
公开(公告)号：KR101706987B1
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020090051254
申请日：2009-06-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/3105 , C11D1/72 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/11 , G03F7/075
摘要： 본발명은유기절연막박리액의제조방법에관한것으로, 특히 a) 환류장치가구비된가압조건의교반기내에서테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 또는이의염, 글리콜에테르및 물을고온에서교반하는단계; b) 상기 a)단계의교반후 실온으로냉각된교반물에수용성아민을첨가하는단계;를포함하는것을특징으로하는유기절연막박리액의제조방법및 이에의하여제조된유기절연막박리액에관한것이다. 본발명에의하여제조된유기절연막박리액은유기절연막의하부에위치하고있는금속배선및 칼라레지스트는손상시키지않으면서유기절연막, 특히티에프티엘시디(TFT-LCD)용네가티브형유기절연막만을짧은시간내에용이하게제거할수 있다.
摘要翻译：目的：提供一种制备用于剥离有机介电层的液体组合物的方法，以防止位于有机介电层下部的金属布线和着色抗蚀剂的损坏，并除去用于TFT-LCD的负型有机介电层很短的时间。构成：制备液体组合物的方法包括以下步骤：搅拌3-15重量份的四甲基氢氧化铵或其盐，10-60重量份的乙二醇醚和9-45重量份的水，在90℃ -120℃2-72小时; 并向冷却至室温的混合物中加入20-40重量份的水溶性胺。混合器内的压力保持在1.5-5atm。

8. 发明授权

KR101696390B1 ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译： - 用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR101696390B1
公开(公告)日：2017-01-13
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
摘要： 본발명은 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것으로, 보다상세하게는테트라메틸암모늄하이드록사이드 10-15 중량부, 모노에탄올아민 10-15 중량부, 및잔부의물을포함하여, 모든막에대한세정효과가우수하고, 금속막질에대한부식방지와작업성이향상되고, 안정성및 환경친화성을확보할수 있는 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것이다.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

9. 发明公开

KR1020110134185A ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译：一种用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR1020110134185A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
CPC分类号： C11D7/34 , C11D7/00 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要： PURPOSE: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor is provided to improve workability, anti-corrosion property to the metal membrane and cleaning effect to the all membrane, and satisfy stability and environmental-friendly. CONSTITUTION: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor comprises 10-15 parts by weight tetramethylammonium hydroxide, 10-15 parts by weight monoethanolamine, and the residue of water. A cleaning composition additionally comprises 0.01-0.1 mercapto based compound on the basis of the total 100 parts by weight of the tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine and water. The mercapto based compound is one or more selected from the group consisting of mercaptomethyl imidazole, mercaptomethyl imidazole, thioglycerol, and thiolactic acid.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

10. 发明公开

KR1020110095814A 증착 재료 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 审中-实审
标题翻译：用于沉积物质的洗涤液体组合物和使用其的洗涤方法
公开(公告)号：KR1020110095814A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020110011876
申请日：2011-02-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/32 , H05B33/10 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/32 , C11D11/0047 , C11D11/0094 , H05B33/10
摘要： PURPOSE: A cleaning solution composition for deposition materials is provided to shorten the time of a production process and to save production costs by rapidly removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device. CONSTITUTION: A cleaning solution composition for deposition materials comprises: 5-80 weight% of N-methyl-2-pyrrolidone; and 20-95 weight% of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. A cleaning method comprises a step of removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device using the cleaning solution composition for deposition materials.
摘要翻译：目的：提供用于沉积材料的清洁溶液组合物，以缩短生产过程的时间并通过快速去除附着在电光学装置的生产设备上的沉积材料来节省生产成本。构成：用于沉积材料的清洁溶液组合物包含：5-80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮; 和20-95重量％的1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。清洁方法包括使用沉积材料的清洁溶液组合物除去附着到电光学装置的制造装置上的沉积材料的步骤。

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