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    • 2. 发明公开
    • 조화동박, 동박적층판 및 프린트 배선판
    • 硬化铜箔,铜箔层压板和印刷线路板
    • KR1020150014850A
    • 2015-02-09
    • KR1020140088795
    • 2014-07-15
    • 제이엑스금속주식회사
    • 호리구치겐무로가다케미고토지즈루고다이라무네오
    • H05K1/09C25D7/06
    • C25D5/10H05K3/188
    • (과제)
      본 발명은, 높은 주파수의 전기신호가 전송되었을 경우이더라도 전기신호의 전송손실을 감소시킴과 아울러 소정의 필강도를 유지하는 것을 과제로 한다.
      (해결수단)
      기재와, 기재의 적어도 어느 하나의 주면 상에 성장되는 바탕도금층 및 조화도금층을 구비하는 도금층을 구비하고, 최종의 소둔처리 후의 도금층 성장면은, 피크강도비(A)와, 면외배향비(B)와, 면내배향비(C)의 곱셈에 의하여 나타내어지는 입방체 집합조직의 총합배향률이 80% 이상인 면이고, 전기신호의 주파수를 f라고 하였을 때에, 도금층의 두께가 0.4μm 이상 6.3/(f)
      1/2 μm 이하이고, 도금층의 표면의 10점평균조도(Rz)가 0.6μm 이상 1.2μm 이하이다.
    • 本发明提供一种粗糙化铜箔,铜箔层叠体和印刷线路板。 本发明即使在发送高频电信号的情况下也能够降低电信号的传输损耗,并且保持特定的剥离强度。 本发明包括:基材; 以及镀层,其具有在至少一种基材的主表面上固化的基底镀层和粗糙化镀层。 在最终退火处理之后,镀层固化面大于通过将峰强度比(A),表面外取向比(B)和表面内取向比(B)相乘而得到的立方体集合的总取向比的80% 比(C)。 当电信号的频率为f时,电镀层的厚度为0.4μm至6.3 /(f)^ 1 /2μm,镀层表面的刻痕10平均照度(Rz)在 0.6μm和1.2μm。
    • 3. 发明公开
    • 복합동박 및 복합동박의 제조방법
    • 复合铜箔和制造复合铜箔的方法
    • KR1020140100401A
    • 2014-08-14
    • KR1020130152780
    • 2013-12-10
    • 제이엑스금속주식회사
    • 고토지즈루아오야마다쿠야
    • B32B15/01H05K1/03H05K1/09
    • Disclosed are composite copper foil and a method for manufacturing composite copper foil which has a high adhesion performance with a base material while maintaining the transmittance of the base material. A rolled copper foil, a copper plating layer formed on at least the side surface of the rolled copper foil, and a rough copper plating layer formed on the copper plating layer and having rough particles in which the average particle size is 0.05-0.30 um are included. The ratio of a maximum particle size and a minimum particle size of the rough particle is 65% or less. The rough particles are continued on the copper plating layer over the distance of 20 um or greater on the cut surface in which the rough copper plating layer is cut in a thickness direction.
    • 公开了复合铜箔和复合铜箔的制造方法,其在保持基材的透射率的同时具有与基材的高粘合性能。 在轧制铜箔的至少侧面上形成的轧制铜箔,铜镀层以及形成在镀铜层上并具有平均粒径为0.05〜0.30μm的粗糙粒子的粗铜镀层为 包括在内。 粗粒子的最大粒径和最小粒径的比例为65%以下。 在粗铜层在厚度方向切割的切割面上,在铜镀层上继续粗糙粒子20μm以上的距离。