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    • 4. 发明公开
    • 박형 실리콘 기판 및 그 제조방법
    • 薄硅衬底及其制造方法
    • KR1020170033995A
    • 2017-03-28
    • KR1020150132034
    • 2015-09-18
    • 영남대학교 산학협력단
    • 정재학노지원김민수
    • H01L31/18H01L31/0392H01L31/0236
    • Y02E10/50
    • 본발명은양질의박형실리콘기판을안정적으로구현하기위한것으로서, 제 1 반응조내에실리콘모재를배치하는제 1 단계; 상기제 1 반응조내에서도금공정에의하여상기실리콘모재의상면에니켈층을형성하는제 2 단계; 상기니켈층아래의상기실리콘모재측면의적어도일부에레이저스크라이빙공정으로그루브(groove)를형성하는제 3 단계; 니켈과실리콘의응력차이로인하여상기그루브를기점으로크랙이전파되면서상기니켈층과상기실리콘모재의일부인박형실리콘이상기실리콘모재의나머지로부터박리되어분리되는제 4 단계; 및상기실리콘모재의나머지로부터박리되어분리된상기니켈층과상기박형실리콘의복합구조체를니켈에칭제를수용한제 2 반응조에침지하여니켈층이제거된박형실리콘기판을형성하는제 5 단계;를포함하는박형실리콘기판의제조방법을제공한다.
    • 本发明提供一种稳定实施高质量薄硅衬底的方法,包括:第一步骤,将硅基材料布置在第一反应容器中; 第二步骤,即使在第一反应容器中也通过金工艺在硅基材料的上表面上形成镍层; 第三步骤,通过激光刻划工艺在所述镍层下方的所述硅基材的所述侧表面的至少一部分中形成凹槽; 第四步,从作为硅基材料的一部分的薄硅移相硅基材的剩余部分剥离镍层,同时由于镍和硅之间的应力差异而从沟槽传播裂纹; 第五步,将与硅基材料和薄硅层的其余部分分离的镍层的复合结构浸入含有镍蚀刻剂的第二反应容器中,以形成镍层已从其去除的薄硅衬底 本发明提供了一种制造薄硅衬底的方法。
    • 5. 发明公开
    • 실리콘 잉곳 제조 장치 및 원료 공급 방법
    • 硅源生产装置和供应源的方法
    • KR1020160098869A
    • 2016-08-19
    • KR1020150021050
    • 2015-02-11
    • 영남대학교 산학협력단
    • 정재학
    • C30B15/02C30B15/00C30B29/06
    • C30B15/02C30B29/06
    • 본발명은도가니내의열적분포도가좌우대칭이유지되어보다균일한성장을할 수있는효과를갖는, 실리콘잉곳제조장치및 원료공급방법에관한것으로서, 챔버; 실리콘용탕을수용하도록상기챔버의내부에설치되는도가니; 상기실리콘용탕을가열할수 있도록상기도가니를가열하는히터; 상기실리콘용탕으로부터성장되는실리콘잉곳을인상할수 있도록상기챔버에설치되는인상장치; 상기도가니의일측에실리콘을주입할수 있도록상기챔버에설치되는제 1 실리콘공급기; 및상기도가니의타측에실리콘을주입할수 있도록상기챔버에설치되는제 2 실리콘공급기;를포함할수 있다.
    • 本发明涉及一种用于制造硅锭的装置,其中热分布在坩埚内保持对称,从而确保硅锭的均匀生长,并且还涉及供应原料的方法。 用于生产硅锭的装置可以包括:腔室; 坩埚,其设置在所述室内,以容纳硅熔体; 加热坩埚以加热硅熔体的加热器; 拉动装置,其设置在所述室内,以便拉动从所述硅熔体生长的硅锭; 第一硅进料器,其设置在所述室内,以将硅注入坩埚的一侧; 以及设置在所述室内的第二硅进料器,以将硅注入所述坩埚的另一侧。
    • 8. 发明公开
    • 오,폐수처리시스템의 원격제어장치
    • 用于监测和控制远程废水处理系统的方法和装置
    • KR1020030075428A
    • 2003-09-26
    • KR1020020014645
    • 2002-03-19
    • 영남대학교 산학협력단
    • 정재학
    • G05B19/048
    • G05B19/048G05B23/02G05B2219/23178G05B2219/24048H04Q9/02
    • PURPOSE: A method and an apparatus for monitoring and controlling remotely a waste water treatment system are provided to reduce the environmental pollution by performing efficiently a waste water treatment process. CONSTITUTION: An apparatus for monitoring and controlling remotely a waste water treatment system includes a sensor for identifying the internal state information of the waste water treatment system and an interface(40) for monitoring and controlling the waste water treatment system. The sensor includes a D0 sensor(33), an ORP sensor(34), a temperature sensor(35), and an MLSS sensor(36). The D0 sensor(33) is used for sensing the dissolved oxygen concentration. The ORP sensor(34) is used for measuring the oxygen acidity of the solution within a tank. The temperature sensor(35) is used for measuring the internal temperature of the tank. The MLSS sensor(36) is used for measuring the floating solid. The interface(40) includes an ADC module(41), a DAC module(42), a memory module(43), DI0 module(44), a CPU, a backup module(46), and a display(47). The ADC module(41) and the DAC module(42) are used for converting an analog signal to a digital signal or the digital signal to the analog signal. The memory module(43) is used for storing the sensor information. The DI0 module(44) is sued for monitoring an operating state of a main controller. The CPU is used for comparing the measured values. The backup module(46) is used for storing the data. The display(47) is used for displaying the present state.
    • 目的:提供远程监控和控制废水处理系统的方法和装置,以便有效地执行废水处理过程来减少环境污染。 构成:用于远程监测和控制废水处理系统的装置包括用于识别废水处理系统的内部状态信息的传感器和用于监测和控制废水处理系统的接口(40)。 传感器包括D0传感器(33),ORP传感器(34),温度传感器(35)和MLSS传感器(36)。 D0传感器(33)用于感测溶解氧浓度。 ORP传感器(34)用于测量罐内溶液的氧酸度。 温度传感器(35)用于测量罐的内部温度。 MLSS传感器(36)用于测量浮动固体。 接口(40)包括ADC模块(41),DAC模块(42),存储器模块(43),DI0模块(44),CPU,备用模块(46)和显示器(47)。 ADC模块(41)和DAC模块(42)用于将模拟信号转换为数字信号或将数字信号转换为模拟信号。 存储器模块(43)用于存储传感器信息。 起诉DI0模块(44)监控主控制器的运行状态。 CPU用于比较测量值。 备份模块(46)用于存储数据。 显示器(47)用于显示当前状态。