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1. 发明授权

KR100359886B1 웨이퍼에입자를제어하는침적하는방법및장치 失效
公开(公告)号：KR100359886B1
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：KR1019960706847
申请日：1995-06-19
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우
IPC分类号： B05D1/12
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼(14) 또는 다른 표면상에 입자를 용착하는 방법으로, 먼저 용착 챔버내로 챔버(11)를 정화시키는 청정 가스(16) 유동을 제공한다. 웨이퍼(14)가 제위치에 놓여진 후 청정 가스(16) 유동이 계속된다. 에어로솔은 소정의 시간 동안 청정 가스 유동에 혼합되어 그 결합된 혼합 유동이 용착 챔버(11)를 통과할 때 입자가 챔버(11)내에 지지된 웨이퍼(14)상에 용착되게 한다. 소정 입자수를 세는 동안 또는 소정의 시간 동안 입자 용착이 계속된 후, 챔버(11)로 부터 웨이퍼(14)가 분리될 때 에어로솔(22)의 유동은 중단되고, 웨이퍼(14)상에 청정 공기 유동(16) 막이 제공된다. 본 발명의 장치는 청정 공기(16) 공급원, 청정 공기 가스로의 에어로솔 유입을 제어하기 위한 밸브(24), 및 챔버(11)내로 도입된 가스의 경로에서 웨이퍼(14)를 지지하기 위한 지지체(12)를 설치함으로써 상기 방법을 수행한다.

2. 发明公开

KR1020090125014A 박막 증착에서 여과 및 가스/증기 혼합 장치 有权
标题翻译：过滤和气体/蒸汽混合在薄膜沉积中的装置
公开(公告)号：KR1020090125014A
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：KR1020090047843
申请日：2009-05-29
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우 , 야민마 , 덕딘
IPC分类号： H01L21/22 , H01L21/02
CPC分类号： B01D46/0027 , C23C16/4402 , F22B1/28
摘要： PURPOSE: A filtering and gas/vapor mixing apparatus in thin film deposition is provided to form a thin film with uniform thickness on a wafer, by removing particles from gas/vapor mixture and improving uniformity of the gas/vapor mixture at the same time. CONSTITUTION: A first enclosure(110) comprises a first porous filter element for particle filtering. A base part(115) comprises a feed flow path(130) and a drain flow path(140) for flowing in and drawing out gas/vapor mixture in the first enclosure. The mixture forms vapor from a liquid precursor for thin film deposition. Angular relationship between orifice(150) and the feed flow path and the drain flow path is nearly normal angular relationship. An evaporation apparatus generates a heated exhaust gas/vapor mixture stream. The porous filter element is made of a stainless steel.
摘要翻译：目的：提供薄膜沉积中的过滤和气/蒸气混合装置，以在晶片上形成具有均匀厚度的薄膜，通过从气体/蒸气混合物中除去颗粒并同时改善气体/蒸汽混合物的均匀性。构成：第一外壳（110）包括用于颗粒过滤的第一多孔过滤元件。基部（115）包括用于在第一外壳中流入和抽出气体/蒸汽混合物的进料流动路径（130）和排出流动路径（140）。混合物从用于薄膜沉积的液体前体形成蒸汽。孔（150）与进料流路和排出流路之间的角度关系几乎是正常的角度关系。蒸发装置产生加热的废气/蒸汽混合物流。多孔过滤元件由不锈钢制成。

3. 发明授权

KR101626839B1 박막 증착에서 여과 및 가스/증기 혼합 장치 有权
标题翻译： /薄膜沉积过滤和气体/蒸气混合装置
公开(公告)号：KR101626839B1
公开(公告)日：2016-06-13
申请号：KR1020090047843
申请日：2009-05-29
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우 , 야민마 , 덕딘
IPC分类号： H01L21/22 , H01L21/02
CPC分类号： B01D46/0027 , C23C16/4402 , F22B1/28
摘要： 본발명은가스/증기혼합물로부터입자를제거하고, 동시에가스/증기혼합물의균일성을향상시켜박막증착및 반도체소자제조를위해보다균일하게혼합된혼합물스트림을생성하기위한장치에관한것이다.

4. 发明公开

KR1020160003578A 박막 증착에서 여과 및 가스/증기 혼합 장치 无效
标题翻译：过滤和气体/蒸汽混合在薄膜沉积中的装置
公开(公告)号：KR1020160003578A
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：KR1020150173102
申请日：2015-12-07
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우 , 야민마 , 덕딘
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/60
CPC分类号： B01D46/0027 , C23C16/4402 , F22B1/28
摘要： 본발명은가스/증기혼합물로부터입자를제거하고, 동시에가스/증기혼합물의균일성을향상시켜박막증착및 반도체소자제조를위해보다균일하게혼합된혼합물스트림을생성하기위한장치에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种从气体/蒸汽混合物中除去颗粒并提高气体/蒸汽混合物的均匀性以产生用于薄膜沉积和半导体器件制造的更均匀混合的混合物流的装置。该装置包括：第一外壳，其包含用于颗粒过滤的第一多孔过滤元件; 以及具有用于气体/蒸汽混合物进入和离开第一外壳的入口和出口流动通道并且附接到第一外壳的基座部分。

5. 发明授权

KR101502415B1 액체 전구물질 분무 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于液体前体原子化的方法和装置
公开(公告)号：KR101502415B1
公开(公告)日：2015-03-13
申请号：KR1020090085747
申请日：2009-09-11
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： B05B7/168 , B05B7/0475 , B05B7/066 , B05B7/1686 , Y10S261/65
摘要： 본 발명은 증기 발생 및 기판 위에 박막 증착용 전구액체를 분무하는 장치에 관한 것이다. 상기 전구액체는 운반 기체에 의해 분무되어 상기 운반 기체 내에서 현탁되는 작은 전구액체 액적으로 이루어진 액적 에어로졸을 형성한다. 이후, 상기 액적 에어로졸은 증기를 형성하기 위해 가열되고, 기판 위에 박막을 형성하기 위한 증착 챔버 내부로 도입될 수 있는 기체/증기 혼합물을 생성한다. 상기 액체는 초과 가열되어 열 분해의 결과로 물질이 분해되어 바람직하지 않은 부산물이 형성되거나 유도되는 것을 막기 위해 이러한 방식으로 분무 장치 내로 도입된다. 상기 장치는 특히 액체를 기화시키기 위해 높은 기화 온도가 요구되는 저 증기압을 갖는 고분자량 물질을 기화시키는 데에 적합하다. 또한, 상기 장치는 기화용 용매에 용해된 고체 전구물질을 기화시키는 데에 이용될 수 있다.

6. 发明公开

KR1020100031482A 액체 전구물질 분무 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于液体前体原子化的方法和装置
公开(公告)号：KR1020100031482A
公开(公告)日：2010-03-22
申请号：KR1020090085747
申请日：2009-09-11
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： B05B7/168 , B05B7/0475 , B05B7/066 , B05B7/1686 , Y10S261/65
摘要： PURPOSE: A method and an apparatus for spraying a liquid precursor material are provided to spray a liquid precursor for depositing a thin film on a substrate by generating vapor. CONSTITUTION: An atomizer(10) forms a droplet aerosol(51) and includes a tube housing(40), a capillary tube(60), a gas path, and a spray orifice. The tube housing includes an upper side, a lower side, and a gas inlet(24). A liquid inlet(22) is formed on the upper side of the tube housing. The lower side of the tube housing is attached to a vaporization chamber. The gas inlet receives the gas from a gaseous material. The capillary tube is inputted to the housing through the liquid inlet. An inlet capillary tube receives the liquid from the end of an outlet capillary tube. The gas path is between the tube housing and the capillary tube. The spray orifice sprays the gas at a high speed and forms a droplet by spraying the liquid.
摘要翻译：目的：提供一种用于喷射液体前体材料的方法和装置，以通过产生蒸汽来喷射用于在基板上沉积薄膜的液体前体。构成：雾化器（10）形成液滴气溶胶（51）并且包括管壳体（40），毛细管（60），气体路径和喷射孔。管壳包括上侧，下侧和气体入口（24）。液体入口（22）形成在管壳体的上侧。管壳的下侧连接到蒸发室。气体入口从气体材料接收气体。毛细管通过液体入口输入壳体。入口毛细管从出口毛细管的端部接收液体。气体通道位于管壳和毛细管之间。喷射孔高速喷射气体并通过喷射液体形成液滴。

7. 发明公开

KR1019970703204A 웨이퍼에입자를제어하는침적하는방법및장치 失效
标题翻译：用于控制晶片上的粒子的沉积方法和设备
公开(公告)号：KR1019970703204A
公开(公告)日：1997-07-03
申请号：KR1019960706847
申请日：1995-06-19
申请人： 엠 에스피 코포레이션
发明人： 벤자민와이.에이치.리우
IPC分类号： B05D1/12
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼(14) 또는 다른 표면상에 입자를 용착하는 방법으로, 먼저 용착 챔버내로 챔버(11)를 정화시키는 청정 가스(16) 유동을 제공한다. 웨이퍼(14)가 제위치에 놓여진 후 청정 가스(16) 유동이 계속된다. 에어로솔은 소정의 시간 동안 청정 가스 유동에 혼합되어 그 결합된 혼합 유동이 용착 챔버(11)를 통과할때 입자가 챔버(11)내에 지지된 웨이퍼(14)상에 용착되게 한다. 소정 입자수를 세는 동안 또는 소정의 시간동안 입자 용착이 계속된 후, 챔버(11)로부터 웨이퍼(14)가 분리될 때 에어로솔(22)의 유동은 중단되고, 웨이퍼(14)상에 청정 공기 유동(16) 막이 제공된다. 본 발명의 장치는 청정 공기(16) 공급원, 청정 공기 가스로의 에어로솔 유입을 제어하기 위한 밸브(24), 및 챔버(11)내로 도입된 가스의 경로에서 웨이퍼(14)를 지지하기 위한 지지체(12)를 설치함으로써 상기 방법을 수행한다.

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