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1. 发明授权

KR101557443B1 조명기기 有权
标题翻译：照明设备
公开(公告)号：KR101557443B1
公开(公告)日：2015-10-06
申请号：KR1020140051425
申请日：2014-04-29
申请人： 엘지전자 주식회사 , 인하대학교 산학협력단
发明人： 박선정 , 조한규 , 황보창권 , 김원영 , 김훈 , 임재동 , 이상일
IPC分类号： F21V7/04
CPC分类号： F21K9/68 , F21V7/22 , F21Y2101/00
摘要： 실시예에따른조명기기는광을생성하는광원부및 상기광원부에서생성된광을일 방향으로반사시키는반사층을가지는반사유닛을포함하고, 상기반사층은금속을포함하는금속반사층및 상기금속반사층상에위치되고, 서로다른굴절율을가지는복수개의유전체층을포함하는유전체반사층을포함한다.
摘要翻译：根据本发明实施例的照明装置包括：产生光的光源单元; 以及具有反射层的反射单元，以将由光源单元产生的光反射到一个方向。反射层包括：含有金属的金属反射层; 以及介电反射层，其设置在所述金属反射层上并且包括具有不同折射率的多个电介质层。

2. 发明授权

KR101105837B1 경사 입사 증착을 이용한 패턴 모사 방법 有权
标题翻译：使用斜角沉积法进行图案复制法
公开(公告)号：KR101105837B1
公开(公告)日：2012-01-13
申请号：KR1020090105911
申请日：2009-11-04
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/205
摘要： 경사 입사 증착을 이용한 패턴 모사 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 경사 입사 증착을 이용한 패턴 모사 방법은, (a) 일정 간격으로 패턴이 형성된 기판을 마련하는 단계, (b) 기판이 지면에 수직한 축을 기준으로 일 방향에서 제1 경사 입사각을 갖도록 기판을 일 방향으로 각 이동시킨 상태에서 기판을 360도 회전시키면서 제1 증착 물질을 증착하여 패턴 상에 수직 방향으로 나선형 구조의 다수의 제1 패턴이 포함된 상기 제1 박막층을 형성하는 단계 및 (c) 제1 박막층이 형성된 기판을 지면에 평행한 제2 경사 입사각을 갖도록 각 이동시킨 상태에서 제2 증착 물질을 증착시켜 제1 패턴 상에 수직한 구조의 다수의 제2 패턴이 포함된 제2 박막층을 형성하는 단계를 포함한다.
광학 박막, 경사 입사 증착, 패턴, 모사

3. 发明授权

KR101799521B1 광결정형 광변조기 및 이를 구비하는 3차원 영상 획득 장치 有权
标题翻译：光子晶体光学调制器及具有该光学调制器的三维图像采集装置
公开(公告)号：KR101799521B1
公开(公告)日：2017-11-20
申请号：KR1020110049015
申请日：2011-05-24
申请人： 삼성전자주식회사 , 인하대학교 산학협력단
发明人： 유장우 , 박용화 , 이용호 , 황보창권 , 김진주
IPC分类号： H04N13/00 , G02B26/10 , G02B27/22
CPC分类号： G02F1/017 , B82Y20/00 , G01S7/4816 , G01S17/89 , G02F1/0311 , G02F2202/32 , H04N5/2258
摘要： 광결정형광변조기가개시된다. 개시된광결정형광변조기는기판; 상기기판상에형성된제1전극; 상기제1전극상에형성된것으로, 전기장인가에따라광학적성질이변하는물질로이루어진활성층; 상기활성층위에형성된제2전극; 상기제2전극상에, 2차원격자형태로형성된광결정(photonic crystal)층;을포함한다.
摘要翻译：公开了一种光子晶体光学调制器。所公开的光子晶体光学调制器包括衬底; 形成在衬底上的第一电极; 形成在第一电极上并由其光学特性根据电场的施加而改变的材料制成的有源层; 形成在有源层上的第二电极; 并且在第二电极上以二维点阵的形式形成光子晶体层。

4. 发明授权

KR101182626B1 경사 입사각 증착을 이용한 보호층의 제조방법 有权
标题翻译：保护层制造方法采用扫帚角沉积法
公开(公告)号：KR101182626B1
公开(公告)日：2012-09-14
申请号：KR1020110131768
申请日：2011-12-09
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/24 , C23C14/34
摘要： 본 발명은 경사 입사각 증착을 이용한 보호층 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 경사 입사각 증착을 이용한 보호층은, 소정의 각도로 기울어져 회전되는 기판, 기판상에 소정의 간격으로 이격되어 형성된 기둥 미세구조를 가지는 비등방 박막층, 비등방 박막층의 기둥 미세구조상에 소정의 경사 입사각으로 증착되어 기둥 미세구조를 보호하는 보호층을 포함한다.

5. 发明授权

KR100968208B1 원편광 변환 소자 및 휘도 향상 소자와 그 제작 방법 有权
标题翻译：圆偏振光转换元件和亮度增强元件及其制造方法
公开(公告)号：KR100968208B1
公开(公告)日：2010-07-06
申请号：KR1020080050954
申请日：2008-05-30
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： G02B5/30
摘要： 본 발명은 경사입사 증착방법을 이용하는 원편광 변환 소자 및 휘도 향상 소자와 그 제작 방법에 관한 것으로서, 기판 위에 소정 각도로 지그재그 구조를 갖는 제1 유전체 박막층을 증착하고, 상기 제1 유전체 박막층의 상부에 나선형 구조의 제2 유전체 박막층을 증착하여 원편광 변환 소자를 제작하고, 한편 상기 제2 유전체 박막층의 상부에 지그재그 구조의 제3 유전체 박막층을 증착하여 휘도 향상 소자를 제작하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명은 원편광 변환 소자의 경우에 입사하는 원편광의 편광 방향을 바꾸어 줄 수 있을 뿐만 아니라 투과 혹은 반사시키는 원편광을 나선형 구조의 회전 방향으로 쉽게 조절할 수 있고, 휘도 향상 소자의 경우에 나선형 구조의 회전 방향에 따라 반사하는 원편광을 반사판을 이용하여 다시 무편광된 빛으로 바꾸어 되돌아 휘도 향상소자로 입사하게 만들어 광 효율을 증대시킬 수 있다.
원편광 변환 소자, 휘도 향상 소자, 유전체 박막층, 지그재그 구조, 나선형 구조, 비등방성

6. 发明授权

KR100936264B1 광대역 원편광 브래그 반사필름 및 그의 제조방법 有权
标题翻译：宽带圆形布拉格反射器及其制造方法
公开(公告)号：KR100936264B1
公开(公告)日：2010-01-12
申请号：KR1020080005208
申请日：2008-01-17
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： G02B5/30 , G02B5/08
摘要： 개시된 광대역 원편광 브래그 반사필름은, 유리 또는 고분자 물질로 이루어지는 기판; 유전체 물질을 기판의 상부에 나선형 피치 기둥 구조물로서 복수개를 상호 이격되게 증착 형성한 구조를 가지는 비등방 박막층을 포함한다.
이와 같은 광대역 원편광 브래그 반사필름은, 유전체 물질의 사용으로 열에 대한 안정성을 높일 수 있고, 제조 공정이 단순하여 공정 시간 및 비용을 절감할 수 있으며, 대면적 제품 생산 및 응용이 가능하고, 투과 및 반사시키는 파장을 광대역으로 확대할 수 있으며, 다른 추가적인 필터를 사용하지 않고도 하나의 필름을 이용하여 동시에 여러 개의 파장에서 원편광을 반사시킬 수 있으며, 경량화 및 박형화가 가능하고, 간단한 변경 및 추가 구성으로 용이하게 제작할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.
원편광, 광학박막, 반사율, 나선형 피치, 브래그 반사판, 다공성 박막

7. 发明公开

KR1020100125904A 변형 경사 입사각 증착 장치 및 이를 이용한 무반사 광학 박막의 제조 방법, 그리고 무반사 광학 박막 有权
标题翻译：修改倾斜角沉积设备和使用其反光膜的抗反射光膜的制造方法
公开(公告)号：KR1020100125904A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：KR1020090044859
申请日：2009-05-22
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： G02B1/118 , C23C14/04 , C23C14/22 , C23C14/56
CPC分类号： G02B1/118 , C23C14/044 , C23C14/225 , C23C14/564
摘要： PURPOSE: A modified tilted incident angle deposition apparatus, a method for manufacturing an anti-reflective optical thin film, and the anti-reflective optical thin film are provided to obtain a superior anti-reflective function with four refractive index layers. CONSTITUTION: A supporting board(120) regulates an angle by the movement of a supporting stand in a chamber and includes a mounting region of a base board. A container(150) contains a depositing material for depositing one or more anti-reflective thin film layers on the base board. A porous depositing filter(140) is placed between the supporting board and the container and improves the porosity of the depositing material.
摘要翻译：目的：提供改进的倾斜入射角沉积设备，制造抗反射光学薄膜的方法和抗反射光学薄膜，以获得具有四个折射率层的优异的抗反射功能。构成：支撑板（120）通过支撑架在腔室中的移动来调节角度，并且包括基板的安装区域。容器（150）包含用于在基板上沉积一个或多个抗反射薄膜层的沉积材料。将多孔沉积过滤器（140）放置在支撑板和容器之间，并改善了沉积材料的孔隙率。

8. 发明授权

KR100780406B1 유전체 박막의 기둥 미세구조를 이용한 위상지연판의구조와 제작방법 失效
标题翻译：使用柱状微结构介质薄膜制备板的制造方法和结构
公开(公告)号：KR100780406B1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：KR1020060065487
申请日：2006-07-12
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 우석훈 , 박용준
IPC分类号： B32B27/00 , B32B15/08
摘要： A structure of a retardation plate using a columnar micro-structured dielectric thin film and a manufacturing method thereof are provided to secure thermal stability and firm mechanical property better than that of the retardation plate using polymer or liquid crystals and to keep uniform retardation over a wide area. A structure of a retardation plate(10) using a columnar micro-structured dielectric thin film is composed of: a substrate(11) made of glasses or polymer; an anisotropic thin film layer(13) deposited on the upper side of the substrate and provided with a dielectric columnar micro-structure; and an isotropic thin film layer(15) deposited on the upper side of the anisotropic thin film layer to increase transmittance in a specific wavelength region and to protect the anisotropic thin film layer.
摘要翻译：提供使用柱状微结构的电介质薄膜的相位差板的结构及其制造方法，以确保热稳定性和比使用聚合物或液晶的相位差板的机械特性更好的机械性能，并且在宽的范围内保持均匀的延迟区。使用柱状微结构的电介质薄膜的相位差板（10）的结构由以下部分构成：由玻璃或聚合物构成的基板（11）沉积在衬底的上侧并具有介电柱状微结构的各向异性薄膜层（13）; 以及沉积在各向异性薄膜层的上侧的各向同性薄膜层（15），以提高特定波长区域的透射率并保护各向异性薄膜层。

9. 发明授权

KR101088403B1 변형 경사 입사각 증착 장치 및 이를 이용한 무반사 광학 박막의 제조 방법, 그리고 무반사 광학 박막 有权
标题翻译：改型倾角沉积设备及其制造方法采用与防反射光学膜相同的抗反射光学膜
公开(公告)号：KR101088403B1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：KR1020090044859
申请日：2009-05-22
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： G02B1/118 , C23C14/04 , C23C14/22 , C23C14/56
CPC分类号： G02B1/118 , C23C14/044 , C23C14/225 , C23C14/564
摘要： 무반사 광학 박막의 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 무반사 광학 박막의 제조 방법은, 챔버(chamber) 내의 지지대와 연결된 지지판 상에 기판을 장착하는 제1 단계, 기판이 지면에 평행하도록 상기 지지대를 수직하게 이동시키는 제2 단계, 기판 상에 증착 물질을 이용하여 제1 굴절률층을 증착시키는 제3 단계, 제1 굴절률층이 증착된 기판이 소정의 경사각을 갖도록 지지대를 이동시키는 제4 단계, 기판의 하부 영역에 위치하며 기판으로 향하는 증착 물질의 다공성을 증가시키는 다공성 증가 필터를 이용하여 기판 상에 상기 제1 굴절률층보다 작은 굴절률을 갖는 제2 굴절률층을 증착시키는 제5 단계, 기판의 하부 영역 상에서 다공성 증가 필터를 제외시키고, 제1 및 제2 굴절률층이 증착된 기판이 지면에 평행하도록 지지대를 수직하게 이동시키는 제6 단계 및, 제3 내지 제5 단계를 1회 반복하는 제7 단계를 포함한다.
경사 입사각, 다공성 증가 필터, 굴절률, 무반사 박막

10. 发明公开

KR1020110049073A 경사 입사 증착을 이용한 패턴 모사 방법 有权
标题翻译：使用OBLIQUE角度沉积的图案复制方法
公开(公告)号：KR1020110049073A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：KR1020090105911
申请日：2009-11-04
申请人： 인하대학교 산학협력단
发明人： 황보창권 , 박용준
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/2053 , G03F7/0002 , H01L21/0226 , H01L21/2033
摘要： PURPOSE: A pattern replica method using oblique angle deposition is provided to form a pattern on an optical pattern without a lithography process, thereby reducing process time and process costs. CONSTITUTION: Patterns are formed on a substrate at a fixed interval. A first deposition material is deposited to form a first thin film layer(310) on patterns. The first thin film layer comprises a plurality of first patterns which has a vertically spiral structure. First patterns are tilted by a first incident angle. A second deposition material is deposited to form a second thin film layer(330) on the first thin film layer. The second thin film layer comprises a plurality of second patterns(331) which has a vertical structure on the first patterns. The substrate supported by the support plate has a second incident angle.
摘要翻译：目的：提供使用斜角沉积的图案复制方法以在没有光刻工艺的光学图案上形成图案，从而减少处理时间和处理成本。构成：以固定间隔在衬底上形成图案。沉积第一沉积材料以在图案上形成第一薄膜层（310）。第一薄膜层包括具有垂直螺旋结构的多个第一图案。第一图案倾斜第一入射角。沉积第二沉积材料以在第一薄膜层上形成第二薄膜层（330）。第二薄膜层包括在第一图案上具有垂直结构的多个第二图案（331）。由支撑板支撑的基板具有第二入射角。

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