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2. 发明公开

KR1020000053050A 기판 처리용 장치 失效
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR1020000053050A
公开(公告)日：2000-08-25
申请号：KR1019997003956
申请日：1997-10-01
申请人： 에스씨피 저머니 게엠베하
发明人： 웨버,마르틴
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67023 , C23G3/00 , Y10S134/902
摘要： PURPOSE: A vapour suction arrangement is provided to draw off vapour in an area of a lift arrangement placed over treatment fluid. CONSTITUTION: Treatment fluid flows to a fluid container(1) through an inlet tube(15). Then the treatment fluid is drawn off from an overflow slot(16) placed along an upper edge of the fluid container(1). Vapour in a lift arrangement(8) area is drawn off through a plate(17) including pipes connected to an elbow element(20). A housing(9) of the lift arrangement(8) covers a part of the fluid container(1) to cover the area of the lift arrangement(8) placed over the fluid container(1) connected to a support arm(7).
摘要翻译：目的：提供蒸汽抽吸装置，以在放置在处理液体上的提升装置的区域中抽出蒸气。构成：处理流体通过入口管（15）流到流体容器（1）。然后，处理流体从沿着流体容器（1）的上边缘放置的溢流槽（16）抽出。升降装置（8）区域中的蒸汽通过包括连接到肘部元件（20）的管道的板（17）抽出。提升装置（8）的壳体（9）覆盖流体容器（1）的一部分以覆盖放置在连接到支撑臂（7）上的流体容器（1）上的提升装置（8）的区域。

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