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1. 发明授权

KR102244964B1 열 결합된 석영 돔 히트 싱크 有权
公开(公告)号：KR102244964B1
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：KR1020157027313
申请日：2014-02-11
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 래니쉬,조셉,엠. , 사미르,메흐메트,투그룰 , 브릴하트,폴
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/46
摘要： 본명세서에설명된실시예들은일반적으로기판들을처리하기위한장치에관한것이다. 이장치는일반적으로기판지지체를내부에갖는프로세스챔버를포함한다. 복수의램프가복사에너지를광학적으로투명한윈도우를통해기판지지체상에위치된기판으로제공하도록위치된다. 복수의램프는램프하우징에위치된다. 램프하우징에냉각채널이형성된다. 램프하우징의표면은광학적으로투명한윈도우로부터소정거리만큼이격되어, 램프하우징의표면과광학적으로투명한윈도우사이에갭을형성한다. 이갭은유체채널로서기능하고, 내부에유체를포함하여, 광학적으로투명한윈도우의냉각을용이하게하도록되어있다. 램프하우징의표면에형성된난류유도피처들, 예컨대개구들이냉각유체의난류를유도하고, 그에따라광학적으로투명한윈도우와램프하우징사이의열 전달을개선한다.

2. 发明公开

KR1020170008834A 저압 열 프로세스들을 위한 광 파이프 구조물 윈도우 审中-实审
标题翻译：用于低压热工艺的轻质管道结构窗口
公开(公告)号：KR1020170008834A
公开(公告)日：2017-01-24
申请号：KR1020167035626
申请日：2015-04-07
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브릴하트,폴 , 라니시,조세프엠. , 헌터,아론뮤어 , 통,에드릭 , 맥,제임스프란시스 , 로,킨퐁 , 산체즈,에롤안토니오씨. , 예,즈위안 , 창,안종
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324 , H01L21/687 , G02B6/08 , H05B3/00
CPC分类号： H01L21/67115 , G02B6/08 , H01L21/2686 , H01L21/67201 , H01L21/68742 , H05B3/0047
摘要： 본명세서에개시된실시예들은반도체기판들의열 처리를위한광 파이프구조물에관한것이다. 일실시예에서, 열프로세스챔버에서이용하기위한광 파이프윈도우구조물은투명플레이트, 및투명플레이트에연결되는투명재료에형성된복수의광 파이프구조물을포함하고, 복수의광 파이프구조물각각은반사성표면을포함하고, 투명플레이트의평면에대하여실질적으로수직관계로배치되는세로축을갖는다.
摘要翻译：本文公开的实施例涉及用于半导体衬底的热处理的光管结构。在一个实施例中，用于热处理室的光管窗结构包括透明板和形成在透明材料中的多个光管结构，所述多个光管结构联接到透明板，所述多个光管结构中的每一个包括反射表面并且具有设置在与透明板的平面基本上垂直的方向上的纵向轴线。

3. 发明公开

KR1020110022035A 신속한 기판 지지부 온도 제어 有权
标题翻译：快速基板支持温度控制
公开(公告)号：KR1020110022035A
公开(公告)日：2011-03-04
申请号：KR1020117000068
申请日：2009-05-29
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 포벨,리챠드 , 브릴하트,폴 , 이,상인 , 칸,애니슐에이치. , 디네브,지브코 , 네빌,샤네
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/683
CPC分类号： F28D15/00 , F28D2021/0077 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要： 본 명세서에서는 기판 지지부의 온도를 제어하기 위한 방법 및 장치를 제공한다. 일부 실시예에서는, 기판 지지부의 온도를 제어하기 위한 장치가, 제1 열 전달 루프(heat transfer loop) 및 제2 열 전달 루프를 포함할 수 있다. 제1 열 전달 루프는 제1 온도에서 제1 열 전달 유체를 구비하는 제1 용액조를 가질 수 있다. 제2 열 전달 루프도 제2 온도에서 제2 열 전달 유체를 구비하는 제2 용액조를 가질 수 있다. 제1 온도는 제2 온도와 동일하거나 다를 수 있다. 기판 지지부에 제1 열 전달 유체 및 제2 열 전달 유체를 각각 제공하기 위하여 제1 및 제2 유동 제어기가 제공될 수 있다. 상기 제1 열 전달 유체 및 제2 열 전달 유체를 상기 제1 및 제2 용액조로 복귀시키기 위해 하나 또는 다수의 복귀 라인이 상기 기판 지지부의 하나 또는 다수의 배출부를 상기 제1 및 제2 용액조에 결합시킬 수 있다.

4. 发明授权

KR100978690B1 가스 유동 확산기 失效
标题翻译：气体流动扩散器
公开(公告)号：KR100978690B1
公开(公告)日：2010-08-30
申请号：KR1020080025360
申请日：2008-03-19
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브릴하트,폴 , 호프만,다니엘제이. , 카두치,제임스디. , 죠우,지아오핑 , 밀러,매튜엘.
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/45502 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01L21/67069 , Y10T137/85938
摘要： 처리 챔버 내부에 유동을 제공하는 방법 및 장치가 제공된다. 일 실시예에서, 내부체적을 갖는 챔버 본체, 상기 내부 체적내에 배치되는 기판 지지부, 및 가스 분사 포트가 비대칭적으로 분포된 가스 분배 조립체를 포함하는 진공 처리 챔버가 제공된다. 다른 실시예에서, 처리 챔버 내부의 기판 지지부 상에 기판을 배치하는 단계, 상기 기판에 걸쳐서 상기 처리 챔버 내에 위치되는 가스 분배 플레이트 상에 형성된 공간 내부로 처리 가스를 측방향으로 유동시키는 단계, 및 상기 처리 가스의 면전에서 상기 기판을 처리하는 단계를 포함하는 기판 진공 처리 방법이 제공된다.

5. 发明公开

KR1020080086361A 가스 유동 확산기 失效
标题翻译：气体流动扩散器
公开(公告)号：KR1020080086361A
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：KR1020080025360
申请日：2008-03-19
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브릴하트,폴 , 호프만,다니엘제이. , 카두치,제임스디. , 죠우,지아오핑 , 밀러,매튜엘.
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/45502 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01L21/67069 , Y10T137/85938
摘要： A gas flow diffuser is provided to enable compensation for conductance or other chamber attributes that cause asymmetrical processing. A vacuum processing chamber comprises a chamber body(110), a substrate support(116), a pumping port, and a gas distribution assembly. The chamber body has an interior volume(178). The substrate support is disposed in the interior volume. The pumping port is disposed below a plane of a substrate supporting surface of the substrate support, wherein a location of the pumping port and geometry of the interior volume have a configuration that produces an asymmetrical processing result on a substrate(114) disposed on the substrate supporting surface of the substrate support. The gas distribution assembly is positioned above the plane of the substrate supporting surface of the substrate support, wherein a configuration of the gas distribution assembly is selected to tune asymmetry for the processing result caused by the location of the pumping port and geometry of the interior volume.
摘要翻译：提供气流扩散器以能够补偿导致不对称处理的电导或其它室属性。真空处理室包括室主体（110），基板支撑件（116），泵送端口和气体分配组件。腔体具有内部容积（178）。衬底支撑件设置在内部容积中。泵送端口设置在衬底支撑表面的平面的下方，其中泵送端口的位置和内部空间的几何形状具有在设置在衬底上的衬底（114）上产生不对称处理结果的构造支撑表面的基板支撑。气体分配组件位于衬底支撑表面的平面之上，其中选择气体分配组件的配置来调节由泵送端口的位置和内部体积的几何形状引起的处理结果的不对称性。

6. 发明公开

KR1020170048578A 분위기 에피택셜 퇴적 챔버 审中-实审
标题翻译：大气外延沉积室
公开(公告)号：KR1020170048578A
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020177009328
申请日：2015-09-02
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 라우,슈-콴 , 사미르,메흐메트투그룰 , 마이오,니오 , 밀러,아론 , 헌터,아론뮤어 , 산체즈,에롤안토니오씨. , 브릴하트,폴 , 라니시,조세프엠. , 샤,카르틱 , 데마르스,데니스엘. , 쿠푸라오,사티시
IPC分类号： C30B25/08 , C23C16/458 , C23C16/48 , C30B25/14 , C30B29/06 , C30B29/08 , C30B29/42 , C30B29/40
CPC分类号： C30B25/14 , C23C16/4585 , C23C16/481 , C30B25/08 , C30B29/06 , C30B29/08 , C30B29/406 , C30B29/42
摘要： 본명세서에설명된실시예들은에피택셜퇴적챔버들및 그것의컴포넌트들을개시한다. 일실시예에서, 챔버는처리영역에위치된기판지지체, 복수의복사에너지소스를포함하는복사에너지어셈블리, 상부라이너와하부라이너를갖는라이너어셈블리, 및기판지지체와복사에너지어셈블리사이에위치된돔 어셈블리를포함할수 있다. 본명세서에설명된에피택셜퇴적챔버들은, 스루풋을유지하고비용을감소시키고신뢰가능하게균일한퇴적생성물을제공하면서더 큰기판들의처리를허용한다.
摘要翻译：这里描述的实施例公开了外延沉积腔室及其部件。在一个实施例中，该腔室位于所述辐射组件之间，具有上衬垫和下衬垫，以及基板支撑件，并包括衬底支撑辐射组件，在处理区域圆顶组件的多个辐射源位置的衬里组件在可以包含。这里描述的外延沉积室允许处理更大的衬底，同时保持生产量，降低成本并提供可靠的均匀沉积产品。

7. 发明公开

KR1020170032353A 서셉터의 정렬을 위한 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于对准感受器的设备和方法
公开(公告)号：KR1020170032353A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：KR1020177003532
申请日：2015-06-08
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 통,에드릭 , 맥,제임스프란시스 , 브릴하트,폴
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67 , C30B25/08 , C30B25/10 , C30B25/12 , C30B35/00 , H05B3/00 , C23C16/458 , H01L21/683
CPC分类号： C30B25/08 , C23C16/4584 , C30B23/06 , C30B25/10 , C30B25/12 , C30B35/005 , H05B3/0047 , H05B3/68
摘要： 본명세서에설명된실시예들은일반적으로서셉터를프로세스챔버에결합하기위한스템어셈블리에관한것이다. 스템어셈블리는피벗메커니즘; 피벗메커니즘에결합된제1 가요성밀봉부; 플레이트의제1 면상에서플레이트에결합된제2 가요성밀봉부 - 플레이트는제1 가요성밀봉부에결합된제2 면을가짐 -; 제2 가요성밀봉부에결합된하우징; 및하우징을 X 축및 Y 축으로이동시키고서셉터를프로세스챔버의 X-Y 평면에대하여각도적으로위치시키도록되어있는모션어셈블리를포함한다.
摘要翻译：这里描述的实施例总体上涉及用于将基座耦合到处理室的杆组件。杆组件包括枢转机构; 联接到所述枢转机构的第一柔性密封件; 第二柔性密封件，所述第二柔性密封件在所述板的第一侧上联接到所述板，所述板具有联接到所述第一柔性密封件的第二侧; 耦合到第二柔性密封件的壳体; 以及运动组件，该运动组件构造成沿X轴和Y轴移动壳体并且相对于处理室的X-Y平面将基座角定位。

8. 发明公开

KR1020160062094A 탄소 섬유 링 서셉터 审中-实审
标题翻译：碳纤维环戒指
公开(公告)号：KR1020160062094A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：KR1020167010851
申请日：2014-09-26
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 라니쉬,조셉엠. , 브릴하트,폴 , 사미르,메흐메트투그룰 , 라우,슈-콴 , 쿠마르,수라짓
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/48 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4581 , C23C16/4408 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , C23C16/46 , C23C16/481
摘要： 본명세서에설명된실시예들은일반적으로기판들을가열하기위한장치에관한것이다. 일실시예에서, 서셉터는중앙개구를갖는링 형상바디, 및중앙개구를둘러싸는, 바디의에지로부터연장되는립을포함한다. 서셉터는탄소섬유또는그래핀을포함한다. 다른실시예에서, 서셉터를형성하기위한방법은유기결합제와함께탄소섬유를링 서셉터의형상으로몰딩하고, 유기결합제를소성하는단계를포함한다. 또다른실시예에서, 서셉터를형성하기위한방법은그래핀시트들을링 서셉터의형상으로적층하는단계를포함한다.

9. 发明公开

KR1020160006778A 연성 재료를 이용한 돔 냉각 审中-实审
标题翻译：使用合适材料的圆顶冷却
公开(公告)号：KR1020160006778A
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020157035154
申请日：2014-04-15
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 래니쉬,조셉엠. , 브릴하트,폴
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/56
CPC分类号： H01L21/67115
摘要： 본명세서에설명된실시예들은일반적으로기판들을처리하기위한장치에관한것이다. 일반적으로, 이장치는, 광학적으로투명한윈도우에인접위치된램프들을포함하는램프하우징을포함하는프로세스챔버를포함한다. 램프하우징내의램프들은기판지지체상에위치된기판에복사에너지를제공한다. 광학적으로투명한윈도우의온도제어는램프하우징내의냉각채널들을이용하여용이하게된다. 연성전도체들을사용하여램프하우징은광학적으로투명한윈도우에열적으로결합된다. 연성전도체들은광학적으로투명한윈도우와램프하우징의머시닝허용오차와무관하게균일한전도길이를유지한다. 균일한전도길이는정확한온도제어를촉진한다. 연성전도체들의길이가챔버컴포넌트들의머시닝허용오차와무관하게균일하기때문에, 전도길이는상이한프로세스챔버들에대해동일하다. 따라서, 다수의프로세스챔버사이에서온도제어가균일하고, 이는챔버간편차를감소시킨다.

10. 发明公开

KR1020150130479A ＥＰＩ 프로세스를 위한 균일성 튜닝 렌즈를 갖는 서셉터 지지 샤프트 审中-实审
标题翻译： SUSEEPTOR支持轴与EPI过程的均匀调谐镜头
公开(公告)号：KR1020150130479A
公开(公告)日：2015-11-23
申请号：KR1020157028642
申请日：2014-02-14
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 콩,제펭 , 라마찬드란,발라수브라마니안 , 이시이,마사토 , 리,수에빈 , 사미르,메흐메트투그룰 , 라우,슈-콴 , 브릴하트,폴
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , H05B1/02
CPC分类号： H05B1/0227 , H05B2203/032
摘要： 본발명의실시예들은일반적으로서셉터지지샤프트들, 및서셉터지지샤프트들을포함하는프로세스챔버들에관한것이다. 서셉터지지샤프트는그 위에서셉터를지지하고, 차례로서셉터는처리중에기판을지지한다. 서셉터지지샤프트는, 서셉터지지샤프트가회전할때에도, 서셉터및/또는기판을향하여지향되는고온계초점빔에대해일관된경로를제공함으로써서셉터및/또는기판의온도측정에서의변동을감소시킨다. 서셉터지지샤프트들은프로세스챔버의램프업및 램프다운속도를증가시키는비교적낮은열 용량을또한갖는다. 일부실시예들에서, 맞춤형으로제작된굴절요소가솔리드디스크의상부에제거가능하게배치되어, 에피택시프로세스의최적의두께균일성을위해서셉터및/또는기판에걸쳐 2차열 분배를재분배할수 있다.

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