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1. 发明公开

KR1020160039277A 기판들을 위한 유지 배열, 및 이를 사용하는 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：基板保持布置
公开(公告)号：KR1020160039277A
公开(公告)日：2016-04-08
申请号：KR1020167005484
申请日：2013-08-02
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브뤼닝,안드레 , 힌터슈스터,라이너 , 볼프,한스게오르그 , 칠바우어,토마스베르너
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/458 , C23C14/22 , H01L21/687
CPC分类号： C23C16/4585 , C23C14/50 , C23C16/4587
摘要： 진공층 증착동안에기판(20)을유지시키기위한유지배열(10)이제공된다. 유지배열(10)은, 2개또는그 초과의프레임엘리먼트들(31, 32, 33, 34)을갖는프레임(30) ―상기프레임엘리먼트들(31, 32, 33, 34)은애퍼처개구를형성함―, 및기판에지들에서기판(20)을클램핑하기위해상기기판에지들의부분들에대하여작용하는클램핑력을제공하도록구성된탄성수단(40)을포함한다.

2. 发明公开

KR1020140069277A 얇은 유리 기판들을 위한 캐리어 및 그 이용 无效
标题翻译：用于薄玻璃基板的载体及其用途
公开(公告)号：KR1020140069277A
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020147011215
申请日：2011-09-27
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브뤼닝,안드레 , 하이멜,올리버 , 힌테르슈스터,라이너 , 볼프,한스게오르그
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/00
CPC分类号： C23C14/50
摘要： 적어도 0.174 ㎡ 의 면적을 갖는 대면적 유리 기판을 기판 프로세싱 챔버 내에서 지지하기 위한 캐리어가 제공된다. 상기 캐리어는 기판의 프로세싱 중에 기판의 상부측에서 기판을 유지하도록 구성되고 그리고 기판의 중량의 적어도 60%를 지탱하도록 구성된 적어도 하나의 고정 요소, 및 상기 기판의 프로세싱 중에 본질적으로 수직인 배향으로 상기 기판을 유지하도록 구성된 적어도 하나의 지지 부분을 포함한다.

3. 发明授权

KR102219198B1 기판들을 위한 유지 배열, 및 이를 사용하는 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102219198B1
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：KR1020167005484
申请日：2013-08-02
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 브뤼닝,안드레 , 힌터슈스터,라이너 , 볼프,한스게오르그 , 칠바우어,토마스베르너
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/458 , C23C14/22 , H01L21/687
摘要： 진공층 증착동안에기판(20)을유지시키기위한유지배열(10)이제공된다. 유지배열(10)은, 2개또는그 초과의프레임엘리먼트들(31, 32, 33, 34)을갖는프레임(30) ―상기프레임엘리먼트들(31, 32, 33, 34)은애퍼처개구를형성함―, 및기판에지들에서기판(20)을클램핑하기위해상기기판에지들의부분들에대하여작용하는클램핑력을제공하도록구성된탄성수단(40)을포함한다.

4. 实用新型

KR2020170000328U 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치 审中-实审
标题翻译：用于沉积基材上的材料的沉积装置和在基材上沉积材料的方法
公开(公告)号：KR2020170000328U
公开(公告)日：2017-01-24
申请号：KR2020167000060
申请日：2014-05-20
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 칠바우어,토마스베르너 , 헬미히,안케 , 힌터슈스터,라이너 , 뮈흘펠트,우베 , 스토크,베른하르트 , 볼프,한스게오르그 , 벤더,마르쿠스
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/34 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/3464 , C23C14/562
摘要： 기판상에재료를증착하기위한증착장치(300)가제공된다. 증착장치(300)는, 제 1 프로세싱챔버(310) 및제 2 프로세싱챔버(320)를포함하는 2개또는그 초과의프로세싱챔버들; 적어도제 1 프로세싱챔버(310) 및제 2 프로세싱챔버(320)를통해연장하는기판지지부(330); 및제 1 프로세싱챔버(310) 내의제 1 증착소스어셈블리(350) 및제 2 프로세싱챔버(320) 내의제 2 증착소스어셈블리(360)를포함하는 2개또는그 초과의증착소스어셈블리들을포함한다. 2개또는그 초과의증착소스어셈블리들각각은, 적어도하나의제 1 증착소스및 적어도하나의프로세스디바이스를지지하도록구성된적어도하나의증착소스지지부(351, 361)를포함한다. 적어도하나의증착소스지지부(351, 361)는, 적어도제 1 포지션(position)과제 2 포지션사이에서이동가능하도록구성된다. 제 1 포지션에서는, 적어도하나의제 1 증착소스가기판지지부(330)를향해배향되며(oriented), 그리고제 2 포지션에서는, 적어도하나의프로세스디바이스가기판지지부(330)를향해배향된다.
摘要翻译：提供了用于将材料沉积在基板上的沉积设备（300）。沉积装置（300）包括两个或多个处理室，包括第一处理室（310）和第二处理室（320）。至少延伸穿过第一处理室（310）和第二处理室（320）的衬底支撑件（330）; 以及包括第一处理室（310）中的第一沉积源组件（350）和第二处理室（320）中的第二沉积源组件（360）的两个或更多个沉积源组件。两个或更多个沉积源组件中的每一个包括被配置为支撑至少一个第一沉积源和至少一个处理装置的至少一个沉积源支撑件（351,361）。至少一个沉积源支撑件（351,361）构造成至少在第一位置和第二位置之间是可移动的。在第一位置，至少一个第一沉积源朝向衬底支撑件（330）定向，并且在第二位置，至少一个处理装置朝向衬底支撑件（330）取向。

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