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1. 发明公开

KR1020020017982A 습식 처리 장치 失效
标题翻译：湿处理设备
公开(公告)号：KR1020020017982A
公开(公告)日：2002-03-07
申请号：KR1020010050654
申请日：2001-08-22
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67086 , B08B3/041 , B08B3/123 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/6708
摘要： PURPOSE: A wet treatment apparatus is provided to use a liquid saving type nozzle under optimum conditions. CONSTITUTION: A wet treatment apparatus includes a nozzle(1) having an approximately rectangular introduction opening surface(8a) which is open toward a substrate(W) to be treated and an approximately rectangular recovery opening surface(9a) which is open toward the substrate, these opening surfaces being flush with each other and disposed with the long side directions thereof in parallel with each other. A treatment liquid(L) is introduced between the introduction opening surface and the surface to be treated of the substrate and sucked and recovered from between the recovery opening surface and the surface to be treated of the substrate. At this time, the flow rate of the treatment liquid flowing from the introduction opening surface to the recovery opening surface through the surface to be treated of the substrate is controlled to 0.02 to 0.3 L/min per 1 cm in the long side direction of the introduction opening surface.
摘要翻译：目的：提供一种湿式处理设备，在最佳条件下使用节水型喷嘴。构成：湿式处理装置包括：具有大致为矩形的导入开口面（8a）的喷嘴（1），朝向被处理基板（W）开放，向基板开口的近似矩形的回收开口面（9a）这些开口面彼此齐平并且其长边方向彼此平行地设置。处理液（L）被引入到引入开口表面和待处理表面之间，并从回收开口表面和待处理表面之间被吸收和回收。此时，从基板的待处理面到从开口面向回收开口面流动的处理液的流量在该长度方向的1cm处被控制为0.02〜0.3L / min 介绍开口面。

2. 发明授权

KR100360120B1 기판세정장치 失效
标题翻译：基材清洁装置
公开(公告)号：KR100360120B1
公开(公告)日：2002-11-07
申请号：KR1020010078556
申请日：2001-12-12
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 장치의점유스패이스를감소할수 있고, 제조라인등에이용하여합리적인기판세정장치를구성하는것에관련된것으로써, 각각의선단에서피세정기판 W를하방측으로부터지지하는복수의지지체 14a와, 상기피세정기판 W의저면을따라서이동함과동시에상기피세정기판 W의저면에대하여세정액을공급하는세정용노즐을갖고, 그세정용노즐의이동방향전방의상기지지체 14a를이동하는세정용노즐과간섭하지않도록그 세정용노즐의이동과연동하여승강이동시키는지지체의승강구동장치를갖도록기판세정장치가구성된다.
摘要翻译：的被清洗物衬底，而且可以减少占据装置的空间，这将在有关什么构成使用这样的生产线中的合理基板清洗装置中，多个用于支撑所述物体支撑至W中的每个从下侧14a上的前端和待清洁底物，因此，移动所述W的，并在同一时间下表面不与所述清洗喷嘴干扰并且其具有用于供给对所述物体的下表面上的清洗液的清洗喷嘴待清洁衬底W，在移动方向前方的清洗喷嘴移动支撑本体14a 喷嘴的互锁yidonggwa由构造成具有所述支撑装置，使得的入口的基板清洗设备的提升运动洗涤。

3. 发明授权

KR100344775B1 기판세정장치 失效
标题翻译：清洁器具
公开(公告)号：KR100344775B1
公开(公告)日：2002-07-19
申请号：KR1019990041506
申请日：1999-09-28
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 장치의점유스패이스를감소할수 있고, 제조라인등에이용하여합리적인기판세정장치를구성하는것에관련된것으로써, 각각의선단에서피세정기판 W를하방측으로부터지지하는복수의지지체 14a와, 상기피세정기판 W의저면을따라서이동함과동시에상기피세정기판 W의저면에대하여세정액을공급하는세정용노즐을갖고, 그세정용노즐의이동방향전방의상기지지체 14a를이동하는세정용노즐과간섭하지않도록그 세정용노즐의이동과연동하여승강이동시키는지지체의승강구동장치를갖도록기판세정장치가구성된다.

4. 发明公开

KR1020000028720A 기판세정장치 失效
标题翻译：清洁基材的装置
公开(公告)号：KR1020000028720A
公开(公告)日：2000-05-25
申请号：KR1019990041506
申请日：1999-09-28
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A cleansing apparatus for a substrate is provided to prevent occurrence of spots and stains, to obtain uniform cleansing effect all over the substrate, to perform cleansing in one apparatus and to be used for an assembly line. CONSTITUTION: A cleansing apparatus(1) is used by setting a substrate(W) before cleansing on a loader cassette(9) and operating a start switch by an operator. Then, the substrate is delivered on a substrate supporting part(3) from the loader cassette by a substrate delivery robot(8), and then supported on each front ends of multiple supporting pins protruded from a pin insertion hole(13c) and a pin insertion hole connection part of a first substrate holder. Multiple supporting pins(14a) in front of the moving direction of cleansing nozzles descends at every row all the time when the cleansing nozzles approach when moving the nozzles for cleansing(4,5,6,7) along the bottom of the substrate from one end of a rack base(16). But the substrate is supported on each front end of the supporting pins. The substrate is supported repeatedly on the front ends according to the ascending of the supporting pin at every row when each cleansing nozzle passes. Accordingly, the four cleansing nozzles don't interrupt the supporting pin, and passing sequentially between the substrate and a first substrate holder(13) while cleansing the bottom of the substrate. And the bottom of the substrate is cleansed by an ultra violet ray cleansing, a hydrogen water cleansing, an ozone water cleansing and a rinsing cleansing by the cleansing nozzles.
摘要翻译：目的：提供一种用于基材的清洁装置，以防止斑点和污点的发生，从而在整个基材上获得均匀的清洁效果，在一个装置中进行清洁并用于装配线。构成：通过在装载机盒（9）上清洁之前将基板（W）设置并由操作者操作启动开关来使用清洁装置（1）。然后，通过基板输送机器人（8）将基板从装载器盒输送到基板支撑部（3）上，然后支撑在从销插入孔（13c）突出的多个支撑销的前端上，并且销第一基板支架的插入孔连接部。清洁喷嘴的移动方向前面的多个支撑销（14a）在清洁喷嘴接近时在每一行下降，当沿着衬底的底部移动用于清洁的喷嘴（4,5,6,7）时（16）的端部。但是基板支撑在支撑销的每个前端上。根据每个清洁喷嘴通过的每一行的支撑销的上升，基板在前端反复支撑。因此，四个清洁喷嘴不会中断支撑销，并且在清洁基板的底部之间顺序地在基板和第一基板保持件（13）之间通过。通过紫外线清洗，氢水清洗，臭氧水清洗和清洁喷嘴进行的漂洗清洁来清洁底物的底部。

5. 发明授权

KR100445041B1 습식 처리 장치 失效
标题翻译： 습식처리장치
公开(公告)号：KR100445041B1
公开(公告)日：2004-08-18
申请号：KR1020010050654
申请日：2001-08-22
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67086 , B08B3/041 , B08B3/123 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/6708
摘要： A wet treatment apparatus includes a nozzle (1) having an approximately rectangular introduction opening surface (8a) which is open toward a substrate (W) to be treated and an approximately rectangular recovery opening surface (9a) which is open toward the substrate, these opening surfaces being flush with each other and disposed with the long side directions thereof in parallel with each other. A treatment liquid (L) is introduced between the introduction opening surface and the surface to be treated of the substrate and sucked and recovered from between the recovery opening surface and the surface to be treated of the substrate. At this time, the flow rate of the treatment liquid flowing from the introduction opening surface to the recovery opening surface through the surface to be treated of the substrate is controlled to 0.02 to 0.3 L/min per 1 cm in the long side direction of the introduction opening surface. With this arrangement, there can be provided a wet treatment apparatus capable of using a liquid saving type nozzle under optimum conditions.
摘要翻译：本发明提供一种湿式处理装置，其具有：喷嘴（1），其具有朝向被处理基板（W）开口的大致长方形的导入开口面（8a）和朝向基板开口的大致矩形的回收开口面（9a）开口表面彼此齐平并且其长边方向彼此平行地布置。将处理液（L）导入到基板的导入开口面与被处理面之间，从基板的回收开口面与被处理面之间吸引回收。此时，将从基板的导入开口面经过被处理面流向回收口面的处理液的流量控制为每1cm在该长边方向上为0.02〜0.3L / min 引入开口表面。通过这种设置，可以提供一种能够在最佳条件下使用省液型喷嘴的湿处理装置。＆lt;图像＆GT;

6. 发明公开

KR1020020003850A 기판세정장치 失效
标题翻译：基板清洁装置
公开(公告)号：KR1020020003850A
公开(公告)日：2002-01-15
申请号：KR1020010078556
申请日：2001-12-12
申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 채기성 , 가사마야스히꼬 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A substrate cleaning apparatus is provided to reduce the space occupied by the apparatus and to be applicable to a production line and others. CONSTITUTION: A cleaning apparatus has supports(14a) for supporting a substrate(W) to be cleaned from the lower side by each tip, a cleaning nozzle which moves along the bottom surface of the substrate(W) and supplies a cleaning liquid to the bottom surface, and an apparatus which drives the supports(14a) vertically and is interlocked with the movement of the cleaning nozzle to prevent the interference between the supports(14a) in front of the moving direction of the nozzle and the moving nozzle.
摘要翻译：目的：提供一种基板清洁装置，以减少设备占用的空间，并适用于生产线等。构成：清洁装置具有用于通过每个尖端从下侧支撑待清洁的基板（W）的支撑件（14a），沿着基板（W）的底表面移动的清洁喷嘴，并将清洁液体供应到底部表面，以及垂直驱动支撑件（14a）并与清洁喷嘴的运动互锁的装置，以防止喷嘴移动方向前方的支撑件（14a）与移动喷嘴之间的干涉。

7. 发明授权

KR100224929B1 습식처리방법및처리장치 失效
标题翻译：湿处理方法及其设备
公开(公告)号：KR100224929B1
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019960028014
申请日：1996-07-11
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명의 목적은 피처리물을 세정할 때에, 필요최소한의 약품사용량으로 또 필요 최소한의 공정으로, 또한 종래보다 높은 세정도로 습식처리할 수 있는 습식처리방법 및 처리장치를 제공하는데 있는 것으로, 특히 Ce 제거능력이 우수하다.
피처리물을, 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하여 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수를 사용하여 습식처리하는 방법으로, 습식처리를, 상기 양극수또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 행하는 것을 특징으로 한다.

8. 发明公开

KR1019970026926A 이온수 제조장치 및 이온수 제조방법, 전해이온수 제조시스템 및 전해이온수 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019970026926A
公开(公告)日：1997-06-24
申请号：KR1019960058842
申请日：1996-11-28
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로 , 오르가노 코포레이션
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 가사마야스히꼬 , 야마나까고오지 , 이마오까다까시 , 오오미다다히로
IPC分类号： C02F1/46 , C25B1/06
摘要： 본 발명은 저농도의 전해질을 함유하는 이온수를 재현성 좋게 제조할 수 있는 이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 안정된 전해이온수를 얻을 수 있는 전해이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
원수와 기체를 혼합하는 기액혼합수단과, 상기 기액혼합수단에 의해 얻어지는 기액혼합액에 초음파를 인가하여 이온을 생성시키는 초음파 가진수단을 적어도 가지는 것을 특징으로 한다.
또, 원수와 물에 용해되고 이온을 생성한느 기체를 혼합하는 기액혼합수단을 가지는 것을 특징으로 하고, 또 상기 기액혼합수단은 기체만을 투과시키는 기체투과막을 개재하여 상기 기체와 상기 원수를 분리하고, 상기 기체를 원수측으로 투과시켜 상기 원수에 혼합시키는 것을 특징으로 한다.

9. 发明公开

KR1019970008390A 습식처리방법및처리장치 失效
标题翻译：湿法处理方法和处理装置
公开(公告)号：KR1019970008390A
公开(公告)日：1997-02-24
申请号：KR1019960028014
申请日：1996-07-11
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 오오미다다히로
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명의 목적은 피처리물을 세정할 때에, 필요 최소한의 약품사용량으로 또 필요 최소한의 공정으로, 또한 종래보다 높은 세정도로 습식처리할 수 있는 습식처리방법 및 처리장치를 제공하는데 있는 것으로, 특히 Ce제거능력이 우수하다.
피처리물을, 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하여 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수를 사용하여 습식처리하는 방법으로, 습식처리는 상기 양극수 또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 행하는 것을 특징으로 한다.

10. 发明授权

KR100173368B1 이온수 제조장치 및 이온수 제조방법, 전해이온수 제조시스템 및 전해이온수 제조방법 失效
标题翻译：用于生产离子水的装置和方法及其制备电解离子水的方法
公开(公告)号：KR100173368B1
公开(公告)日：1999-10-01
申请号：KR1019960058842
申请日：1996-11-28
申请人： 가부시키가이샤 프론테크 , 오미 다다히로 , 오르가노 코포레이션
发明人： 미쯔모리겐이찌 , 가사마야스히꼬 , 야마나까고오지 , 이마오까다까시 , 오오미다다히로
IPC分类号： C02F1/46 , C25B1/06
CPC分类号： Y02E60/366
摘要： 본 발명은 저농도의 전해질을 함유하는 이온수를 재현성 좋게 제조할 수 있는 이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 안정된 전해이온수를 얻을 수 있는 전해이온수 제조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
원수와 기체를 혼합하는 기액혼합수단과, 상기 기액혼합수단에 의해 얻어지는 기액혼합액에 초음파를 인가하여 이온을 생성시키는 초음파 가진수단을 적어도 가지는 것을 특징으로 한다.
또, 원수와 물에 용해되고 이온을 생성하는 기체를 혼합하는 기액혼합수단을 가지는 것을 특징으로 하고, 또 상기 기액혼합수단은 기체만을 투과시키는 기체투과막을 개재하여 상기 기체와 상기 원수를 분리하고, 상기 기체를 원수측으로 투과시켜 상기 원수에 혼합시키는 것을 특징으로 한다.

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