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    • 6. 发明公开
    • 나노구조체의 제조 방법 및 나노구조화 물품
    • 制备纳米结构和纳米结构的方法
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    • B81C1/00C09J7/02
    • C23C16/0245B81C1/00031B81C2201/0132C09J7/22C09J2201/606C23C16/50H01J37/32082H01J37/32541H01J2237/3321H01J2237/3341
    • 반응종으로기재의주 표면을에칭하면서사실상동시에가스상혼합물로부터플라즈마화학증착에의해표면에층을침착시킴으로써나노구조체를제조하는방법및 나노구조화물품. 본방법은기재를제공하는단계, 플라즈마로형성될때 기재상에층을침착시킬수 있는제1 가스종을, 플라즈마로형성될때 기재를에칭할수 있는제2 가스종과혼합하여, 가스상혼합물을형성하는단계, 가스상혼합물을플라즈마로형성하는단계, 및기재의표면을플라즈마에노출시켜 - 표면이에칭되고, 사실상동시에, 에칭된표면의적어도일부분상에층이침착되며 -, 그럼으로써나노구조체를형성하는단계를포함한다. 기재는 (공)중합체성재료, 무기재료, 합금, 고용체, 또는이들의조합일수 있다. 침착된층은유기규소화합물, 금속알킬화합물, 금속아이소프로폭사이드화합물, 금속아세틸아세토네이트화합물, 금속할로겐화물화합물, 및이들의조합으로이루어진군으로부터선택되는화합물을포함하는반응물가스를사용하는플라즈마화학증착의반응생성물을포함할수 있다. 고종횡비를갖고선택적으로적어도하나의치수에서, 그리고바람직하게는 3개의직교하는치수들에서랜덤한치수를갖는나노구조체가제조될수 있다.
    • 一种通过从气体混合物的等离子体化学气相沉积而将基底沉积到基底的主表面上而形成纳米结构和纳米结构化制品的方法,同时基本上同时用反应性物质蚀刻该表面。 该方法包括提供基板; 当形成等离子体时,能够将能够沉积到衬底上的第一气态物质混合,当形成等离子体时,能够蚀刻衬底的第二气态物质,从而形成气态混合物; 将气态混合物形成等离子体; 以及将所述衬底的表面暴露于所述等离子体,其中所述表面被蚀刻并且基本上同时地在所述蚀刻表面的至少一部分上沉积层,从而形成所述纳米结构。 基底可以是(共)聚合物材料,无机材料,合金,固溶体或其组合。 沉积层可以包括使用包含选自有机硅化合物,金属烷基化合物,金属异丙醇化合物,金属乙酰丙酮化合物,金属卤化物化合物及其组合的化合物的反应气体的等离子体化学气相沉积的反应产物。 可以制备高纵横比的纳米结构,并且任选地在至少一个维度,优选三个正交尺寸的随机尺寸。