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1. 发明授权

KR101408597B1 기판상의 표면결점 검출방법 및 그 방법을 사용하는 표면결점 검출장치 有权
标题翻译：使用所述方法检测基板和设备上的表面缺陷的方法
公开(公告)号：KR101408597B1
公开(公告)日：2014-06-17
申请号：KR1020097019902
申请日：2008-03-27
申请人： 소이텍 , 알따떼크 세미컨덕터
发明人： 물랭,쎄씰 , 모리쯔,소피 , 갸스딸도,필립 , 베르줴,프랑수아 , 델까리,장뤽 , 벨랭,빠트리스 , 말르빌,크리스토프
IPC分类号： G01B11/25 , G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01B11/2527 , G01B11/306 , G01N2021/8829
摘要： 기판상의 결점검출 방법 및 그 방법을 사용한 장치이며, 전자소자, 광전자소자 및 아날로그 전자소자를 설계하는데 사용되는 기판(2) 상에 생성되는 슬립라인과 같은 표면결점을 검출하는 방법은적어도 아래의 스템으로 구성되며; - 기판표면에서 반사되는 줄무늬를 생성하기 위하여 기판상에 밝은 줄무늬와 검은 밴드가 반복되게 구성한 패턴을 기판에 주사하는 단계; - 상기 기판 상에 주사된 줄무늬 패턴을 치환하기 위하여 적어도 한 방향을 따라 기판(2)과 패턴의 상대적 변위를 얻는 단계; - 이미지를 센서(8)로 기판(2)에서 반사되는 줄무늬 패턴의 변위에 해당하는 패턴 이미지를 한 시컨스에서 적어도 3개를 획득하는 단계; 줄무늬 패턴의 변위를 이용하여 기판표면의 기울기를 결정 판단하는 단계; - 기판(2) 표면의 기울기 편차를 이용하여 기판(2)상에서 표면결점의 존재 여부를 판단하는 단계로 구성되어 있다. 발명의 다른 목적은 상기 방법을 사용한 장치와 관련되어 있다.
슬립라인, 표면결점, 줄무늬 패턴, 변위

2. 发明公开

KR1020100014555A 기판상의 표면결점 검출방법 및 그 방법을 사용하는 표면결점 검출장치 有权
标题翻译：用于检测基板上的表面缺陷的方法和使用上述方法的设备
公开(公告)号：KR1020100014555A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：KR1020097019902
申请日：2008-03-27
申请人： 소이텍 , 알따떼크 세미컨덕터
发明人： 물랭,쎄씰 , 모리쯔,소피 , 갸스딸도,필립 , 베르줴,프랑수아 , 델까리,장뤽 , 벨랭,빠트리스 , 말르빌,크리스토프
IPC分类号： G01B11/25 , G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01B11/2527 , G01B11/306 , G01N2021/8829
摘要： Method for detecting surface defects on a substrate and device using said method. This invention relates to a method for detecting surface defects, such as type defects, on a substrate (2) designed to be used in electronics, optoelectronics or analogue, remarkable in that it comprises at least the following steps:-projection of a pattern composed of an alternation of light fringes and dark bands onto the substrate (2), so as to generate fringes reflected by the surface of the substrate (2),-relative displacement of the pattern and the substrate (2) along at least one direction, so as to displace the fringes of the pattern on the substrate (2),-acquisition of a sequence of at least three images of the pattern reflected by the substrate (2) by a sensor (8), the images corresponding to displacement of the fringes of the pattern,-determination of the gradient of the surface of the substrate (2) using displacements of fringes of the pattern, and-determination of the presence of a surface defect on the substrate (2) using variations in the gradient of the surface of the substrate (2). Another purpose of the invention relates to a device using said method.
摘要翻译：使用所述方法检测衬底和器件上的表面缺陷的方法。本发明涉及一种用于在设计用于电子学，光电子学或类似物的衬底（2）上检测诸如<滑线>型缺陷的表面缺陷的方法，其显着的至少包括以下步骤： - 投影由基板（2）上的光条纹和暗带的交替组成的图案，以产生由基板（2）的表面反射的边缘， - 图案和基板（2）沿着相对位移至少一个方向，以便移动基板（2）上的图案的条纹， - 通过传感器（8）获取由基板（2）反射的图案的至少三个图像的序列，所述图像对应使图案的边缘移位，使用图案的边缘的位移确定基底（2）的表面的梯度，以及使用基底（2）上的变化来确定表面缺陷的存在冲浪的梯度（2）。本发明的另一个目的涉及一种使用所述方法的装置。

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