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1. 发明授权

KR102157838B1 노즐 유닛, 기판 처리 장치, 그리고 노즐 세정 방법 有权
公开(公告)号：KR102157838B1
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：KR1020130149296
申请日：2013-12-03
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 배상직
IPC分类号： H01L21/67 , G02F1/13

2. 发明公开

KR1020110082291A 기판 린스 장치 无效
标题翻译：用于冲洗基材的装置
公开(公告)号：KR1020110082291A
公开(公告)日：2011-07-19
申请号：KR1020100002199
申请日：2010-01-11
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 박문오 , 인의식 , 이우송
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67051 , G02F1/1303
摘要： PURPOSE: A substrate rinse device is provided to spray air onto a substrate, thereby preventing rinse liquid from deviating from entering an entrance area. CONSTITUTION: A rinse chamber(110) comprises a rinse processing space. A substrate transfer unit(120) horizontally transfers a substrate using transfer rollers in the rinse chamber. A spray unit(130) includes a plurality of nozzles for spraying rinse liquid onto the substrate. An air knife(140) sprays air onto the substrate to prevent rinse liquid from entering an entrance area. A drain unit(150) drains rinse liquid from the substrate.
摘要翻译：目的：提供衬底漂洗装置以将空气喷射到基底上，从而防止冲洗液体偏离入口区域。构成：冲洗室（110）包括漂洗处理空间。衬底转移单元（120）使用漂洗室中的转印辊水平地转移衬底。喷射单元（130）包括用于将冲洗液喷射到基板上的多个喷嘴。气刀（140）将空气喷射到基板上以防止冲洗液体进入入口区域。排水单元（150）从基板排出冲洗液。

3. 发明公开

KR1020110040512A 기판 건조 장치 有权
标题翻译：干燥基材的装置
公开(公告)号：KR1020110040512A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：KR1020090097815
申请日：2009-10-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 김정규 , 이우송
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034
摘要： PURPOSE: An apparatus for drying a substrate is provided to improve a fault remaining an edge part and a chamfered part by completely drying the edge and chamfered part through an air nozzle. CONSTITUTION: In an apparatus for drying a substrate, a substrate transfer unit(110) transfers a substrate(10) to be processed in a drying process. A transfer guide unit(120) guides the edge of the substrate which is transferred to through the substrate transfer unit. The transfer guide unit comprises a guide roller(122) preventing the separation of the substrate. An air knife(130) discharges a liquid for drying the substrate. An air nozzle unit(140) discharges the liquid to the edge of the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种用于干燥基材的设备，以通过空气喷嘴完全干燥边缘和倒角部分来改善残留边缘部分和倒角部分的故障。构成：在用于干燥基板的设备中，基板传送单元（110）在干燥过程中传送待处理的基板（10）。转印引导单元（120）引导通过基板转印单元转印的基板的边缘。传送引导单元包括防止基板分离的引导辊（122）。气刀（130）排出用于干燥基底的液体。空气喷嘴单元（140）将液体排放到基板的边缘。

4. 发明公开

KR1020090038677A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020090038677A
公开(公告)日：2009-04-21
申请号：KR1020070104104
申请日：2007-10-16
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 이명기
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02
CPC分类号： G02F1/1303 , B05B3/008
摘要： An apparatus for treating a substrate is provided to perform a maint operation by arranging a detachable coupling part between a fluctuation part and a spray pipe. A chamber(50) is a space for performing a substrate treating process including an etching process, a developing process, and a cleaning process. The chamber includes an entrance, an exit, and a vent. An exhaust pipe exhausting an exhaust gas is formed on a side wall of the chamber. A substrate transfer part includes a plurality of shafts, a plurality of rollers, and a driving part. Each shaft is arranged into a substrate transfer direction, is rotated by the driving part, and is inserted in a plurality of rollers. A spray part(300) sprays a fluid to a substrate, and includes a nozzle part(310) spraying the fluid and a fluctuation part(320) shaking the nozzle part. The fluctuation part is arranged on a center of the spray part. The nozzle part includes a plurality of nozzles(315) and a spray pipe(313). The fluctuation part includes a first fluctuation body(327), a first support body(325), a second fluctuation body(323), and a second support body(321).
摘要翻译：提供了一种用于处理基板的设备，通过在波动部分和喷射管之间布置可拆卸的联接部分来执行维护操作。室（50）是用于进行包括蚀刻处理，显影处理和清洁处理的基板处理工艺的空间。该房间包括入口，出口和通风口。在室的侧壁上形成排出排气的排气管。基板转印部分包括多个轴，多个辊和驱动部。每个轴被布置成基板传送方向，由驱动部分旋转，并被插入多个辊中。喷射部件（300）将流体喷射到基板，并且包括喷射流体的喷嘴部分（310）和摇动喷嘴部分的波动部分（320）。波动部分布置在喷射部分的中心。喷嘴部分包括多个喷嘴（315）和喷射管（313）。波动部分包括第一波动体（327），第一支撑体（325），第二波动体（323）和第二支撑体（321）。

5. 发明公开

KR1020090035953A 기판 처리 방법 无效
标题翻译：生成板的方法
公开(公告)号：KR1020090035953A
公开(公告)日：2009-04-13
申请号：KR1020070101006
申请日：2007-10-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이명기 , 이우송
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02057 , H01L21/30604
摘要： A method for treating the substrates is provided to efficiently remove the substrate processing liquid remaining behind on the top of substrate on the top of substrate. The substrate processing liquid is uniformly coated onto the top of the substrate(P) through the slit nozzle(200). The slit nozzle is connected to the substrate processing liquid feed port(220). The chemical solution is supplied to the slit hole(210). The substrate processing liquid is uniformly coated onto the substrate by the movement of substrate or the slit nozzle. The substrate processing liquid remaining behind on the substrate is removed by inclining the substrate with the designated angle. The substrate processing liquid is removed by supplying the cleaning solution on the top of substrate.
摘要翻译：提供一种处理基板的方法，以有效地去除在基板顶部的基板顶部剩余的基板处理液。基板处理液通过狭缝喷嘴（200）均匀地涂覆在基板（P）的顶部上。狭缝喷嘴连接到基板处理液体供给口（220）。将化学溶液供给到狭缝孔（210）。基板处理液通过基板或狭缝喷嘴的移动均匀地涂覆在基板上。通过以指定的角度倾斜基板来去除残留在基板上的基板处理液。通过在基板的顶部供给清洗液来除去基板处理液。

6. 发明公开

KR1020160041160A 액 공급 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치, 그리고 히터 교체 방법 审中-实审
标题翻译：供应化学品单位，用于用单元处理基板的装置和替代加热器的方法
公开(公告)号：KR1020160041160A
公开(公告)日：2016-04-18
申请号：KR1020140134502
申请日：2014-10-06
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 이치영
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/02 , H01L21/08
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/02052 , H01L21/67098 , H01L21/6715
摘要： 본발명의실시예는기판을액 처리하는장치및 방법을제공한다. 액공급유닛은내부에처리액이채워지는수용공간을가지는탱크및 상기탱크내에제공된처리액을열 처리하는열 처리부재를포함하되, 상기열 처리부재는바디, 상기바디내에위치되는히터, 상기바디의일단에결합되는캡, 그리고상기히터를상기탱크에고정시키는고정부재를포함한다. 이에따라바디로부터캡을제거하더라도, 바디는고정부재에의해그 위치가고정된다. 이에따라탱크내에처리액이채워진상태에서히터를교체할수 있다.
摘要翻译：根据本发明的实施例，提供了一种用于液体处理基板的装置及其方法。液体供应单元包括：具有填充有处理液体的容纳空间的罐; 以及热处理构件，其构造成热处理设置在所述槽中的处理液。热处理构件包括：主体; 位于身体的加热器; 一个与身体一端相连的帽子; 以及固定构件，其将所述加热器固定到所述罐。因此，即使将帽从身体上取下，身体的位置被固定部件固定。因此，当罐被处理液充满时，可以更换加热器。

7. 发明公开

KR1020150076807A 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법 审中-实审
标题翻译：用于处理基板的装置和用于感测基板传送的方法
公开(公告)号：KR1020150076807A
公开(公告)日：2015-07-07
申请号：KR1020130165415
申请日：2013-12-27
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 이치영
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68 , B65G43/00
CPC分类号： H01L21/67796 , B65G43/00 , H01L21/68
摘要： 본발명은기판의이송여부를감지하는센서를구비하는기판처리장치및 기판이송감지방법에관한것이다. 본발명의일실시예에따른기판처리장치는, 기판이이송되는제1 방향을따라나란하게배열되며, 기판의하면과접촉되는다수의롤러가설치된회전가능한복수의이송샤프트를갖는이송유닛과, 상기이송유닛의일측에상부에서바라볼때 상기제1 방향과수직한제2 방향으로설치되어, 이송되는기판을감지하는감지센서를포함하되, 상기감지센서는, 몸체와, 상기몸체의내부에수직축을중심으로수평방향으로회동가능하게설치되고, 일단에자석을갖는수평회동부재와, 이송되는기판측으로상기수평회동부재의타단에설치되어이송되는기판과접촉하여회전되는수평롤러와, 상기몸체에배치되어상기자석과의상호작용으로발생된척력으로상기수평회동부재를회동상태에서정지상태로복귀시키는자성체와, 상기수평회동부재의일단에서이격되어상기몸체에배치되는자기센서를포함하고, 기판이상기수평롤러에접촉되는경우상기수평회동부재는정지상태에서수평방향으로회동한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用传感器检测基板的处理方法，该装置检测基板是否被转印，以及一种感测基板的方法。根据本发明的一个实施例，用于处理衬底的设备包括：传送单元，包括沿第一方向布置的多个可转动的传送轴，其中基板被平行地传送并且具有与多个辊接触的多个辊衬底的下表面; 以及安装在所述传送单元的一侧上的传感器，当从上部观察时，在垂直于所述第一方向的第二方向上检测所述传送单元。传感器包括一个主体; 水平旋转构件，其相对于竖直轴线在水平方向可旋转地安装在主体中，并且在其一端形成有磁体; 安装在水平旋转构件的另一端上的水平辊通过与被转印的基板接触而被转移和转动; 安装在本体中的磁体，其以与磁体相互反应产生的排斥力将水平旋转构件的旋转状态返回到停止状态; 以及与水平旋转构件的一端间隔开并配置在体内的磁性传感器。当基板与水平辊接触时，水平旋转构件在停止状态下沿水平方向旋转。

8. 发明公开

KR1020090022547A 기판 처리 장치 失效
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020090022547A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：KR1020070088000
申请日：2007-08-31
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이명기 , 이우송
IPC分类号： H01L21/304
摘要： A substrate processing apparatus is provided to extend the lifespan by preventing the outflow of the process fluid from the bath. A substrate processing apparatus comprises a bath portion(10), and a brushing part(30) and a leak prevention unit(40). The bath portion provides the work space performing the substrate processing process. The brushing part has an axis of rotation(31) and a brush(35). The axis of rotation passes through axle holes(13,17) of the side wall of the bath portion. The brush is connected to the axis of rotation and blushes the surface of substrate. The leak prevention unit has a rotational plate(51) and a blade(55). The rotational plate is connected to the axis of rotation and rotates with the axis of rotation. The blade is connected to the rotational plate and injects the air into the axle holes of the side wall of the bath portion.
摘要翻译：提供了一种衬底处理装置，通过防止工艺流体从浴中流出来延长寿命。衬底处理设备包括浴室部分（10）和刷洗部分（30）和防漏单元（40）。洗浴部分提供执行基板处理过程的工作空间。刷子具有旋转轴线（31）和刷子（35）。旋转轴线穿过槽部侧壁的轴孔（13,17）。刷子连接到旋转轴线并使基片的表面沾染。防漏单元具有旋转板（51）和叶片（55）。旋转板连接到旋转轴线并与旋转轴线一起旋转。叶片连接到旋转板，并将空气注入浴槽侧壁的轴孔中。

9. 发明公开

KR1020150072204A 단선 방지 장치 审中-实审
标题翻译：防止加热器断开的装置
公开(公告)号：KR1020150072204A
公开(公告)日：2015-06-29
申请号：KR1020130159599
申请日：2013-12-19
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 배상직
IPC分类号： H05B3/00 , H05B3/56
CPC分类号： H05B3/06 , H05B3/44
摘要： 본발명은히터의단선방지장치에관한것으로, 하우징, 하우징내에삽입되는단자대, 단자대에고정되며전력을공급받을수 있는복수의단자및 복수의단자와연결되는복수의열선을포함하고, 하우징내부에는걸림턱이형성되고, 단자대는단자대가회전할때 상기복수의열선이손상되는것을방지하기위해상기걸림턱과대응하는형상의걸림홈이형성되는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于防止加热器断开的装置。其包括壳体，插入壳体中的终端单元，固定到终端单元并接收电力的多个端子以及连接到端子的多个热丝。在壳体中形成突起。端子单元具有突起槽，该突出槽具有与突起相对应的形状，以防止端子单元旋转时对热丝的损坏。

10. 发明公开

KR1020150064497A 노즐 유닛, 기판 처리 장치, 그리고 노즐 세정 방법 审中-实审
标题翻译：喷嘴单元，底板处理装置和喷嘴清洁方法
公开(公告)号：KR1020150064497A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：KR1020130149296
申请日：2013-12-03
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이우송 , 배상직
IPC分类号： H01L21/302
摘要： 본발명은기판을처리하는장치를제공한다. 하우징, 상기하우징내에위치하고, 기판을제 1 방향으로반송시키는반송유닛, 그리고상기반송유닛에놓인상기기판으로액을공급하는노즐유닛을포함하되, 상기노즐유닛은, 내부에상기액이저장되는버퍼공간및 상기버퍼공간으로부터그 하단으로연장된토출라인을갖고, 상기기판상으로상기액을분사하고로드형상으로제공되는바디, 상기바디로상기액이공급되는공급라인, 상기바디의상기길이방향의그 일단에탈착가능하게결합되고, 상기버퍼공간의제 1 측벽으로제공되는제 1 플레이트, 상기바디의상기길이방향의그 타단에탈착가능하게결합되고, 상기버퍼공간의제 2 측벽으로제공되는제 2 플레이트를포함할수 있다.
摘要翻译：本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：壳体; 传送单元，其位于所述壳体中并沿第一方向传送基板; 以及向装载在所述转印单元上的所述基板供给液体的喷嘴单元。喷嘴单元包括：主体，其包括容纳液体的缓冲空间和从缓冲空间延伸到其下侧的排出管，将液体喷射到基板上，并形成为杆状; 将液体供给到身体的供应管线; 第一板，其可拆卸地组合到主体的纵向方向的一端，并且设置在缓冲空间的第一侧壁; 以及第二板，其可拆卸地组合到所述主体的纵向方向的另一端，并且设置在所述缓冲空间的第二侧壁。

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