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    • 5. 发明公开
    • 2층의 재배선층이 형성된 에스아이피용 반도체 칩
    • 用于包含2层重新分配的SIP的半导体芯片
    • KR1020070038378A
    • 2007-04-10
    • KR1020050093625
    • 2005-10-05
    • 삼성전자주식회사
    • 권흥규김세년김태훈하정오변학균
    • H01L23/12H01L21/60
    • H01L23/522H01L24/26H01L25/073
    • 본 발명은 2층의 재배선층이 형성된 에스아이피(SIP; System In Package)용 반도체 칩에 관한 것으로, 2층의 재배선층을 팹(fab) 공정으로 형성할 경우 선폭 및 두께에 제약이 따르기 때문에 아날로그(analog) 및 고속 인터페이스(high speed interface)로 사용되는 특성 재배선층은 저항 증가에 따른 전기적 특성이 떨어질 수 있다. 2층의 재배선층을 웨이퍼 레벨(wafer level) 공정으로 형성할 경우, 재배선층을 둘러싸는 두꺼운 절연층으로 인하여 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨(warpage)이 심하게 발생되어 SIP 제조 공정 상에 문제가 발생될 수 있다.
      본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해서, 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성된 비특성 재배선층과, 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 상부에 형성된 특성 재배선층을 포함하는 2층의 재배선층이 형성된 SIP용 반도체 칩을 제공한다. 본 발명에 따르면, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정으로 필요한 두께와 폭으로 형성함으로써, 특성 재배선층의 전기적 특성을 확보할 수 있다. 그리고 비특성 재배선층은 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성하고, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 위에 형성함으로써, 웨이퍼 레벨 공정으로 형성되는 재배선층이 단층이기 때문에, 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨이 발생되는 것을 억제할 수 있다.
      재배선(redistribution), 팹(fab), 웨이퍼 레벨(wafer level), 시스템 인 패키지(System In Package), 적층(stack)