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    • 10. 发明公开
    • 리소그라피용 블록 코폴리머
    • 嵌入式嵌段共聚物
    • KR1020140027807A
    • 2014-03-07
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    • 삼성전자주식회사
    • 고행덕김미정박연정정성준
    • C08F297/04C08F279/06G03F7/004
    • C08F297/042C08F279/06C08F297/04G03F7/004G03F7/0045G03F7/0047
    • Provided is a block copolymer for lithography, having 3,000-30,000 of an average molecular weight number comprising: a first polymer block comprising a first monomer selected from a diene monomer, an aromatic vinyl monomer, a heteroaromatic vinyl monomer; and a second polymer block comprising a second monomer selected from a (meth)acrylate derivative, wherein the first polymer block and the second polymer block have at least 0.2 of an interaction parameter (χ) indicated by the mathematical formula 1 below: ′Mathematical Formula 1′ (In the formula above, χ refers to an interaction parameter, Vm to the molar volume of major polymer blocks, R to a gas constant, T to a temperature (K), δ_A to a solubility parameter of a homopolymer comprising the first monomer, and δ_B to a solubility parameter of a homopolymer comprising the second monomer).
    • 提供了一种用于光刻的嵌段共聚物,其具有3,000-30,000的平均分子量数,其包含:第一聚合物嵌段,其包含选自二烯单体,芳族乙烯基单体,杂芳族乙烯基单体的第一单体; 和包含选自(甲基)丙烯酸酯衍生物的第二单体的第二聚合物嵌段,其中所述第一聚合物嵌段和所述第二聚合物嵌段具有至少0.2个以下数学式1表示的相互作用参数(χ):“数学式 1'(在上式中,χ是指相互作用参数Vm与主要聚合物嵌段的摩尔体积,R与气体常数T相对于温度(K),δ_A与包含第一聚合物嵌段的均聚物的溶解度参数 单体和δ_B与包含第二单体的均聚物的溶解度参数)。