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1. 发明授权

KR100810638B1 박막트랜지스터와 그 제조방법 및 이를 구비한유기전계발광표시장치 失效
标题翻译：薄膜晶体管及其制造方法和包括其的有机发光二极管器件显示器
公开(公告)号：KR100810638B1
公开(公告)日：2008-03-07
申请号：KR1020060123043
申请日：2006-12-06
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박혜향 , 최병덕 , 김무진 , 김경보 , 이대우 , 정창용
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L29/4908 , H01L27/1214 , H01L29/66757
摘要： A thin film transistor, a method for fabricating the same, and an organic light emitting diode display device comprising the same are provided to obtain excellent characteristics thereof by manufacturing a polycrystalline layer having excellent crystallinity. An amorphous silicon layer is formed on a substrate(200). A polycrystalline silicon layer is formed by crystallizing the amorphous silicon layer. A semiconductor layer(203) is formed by patterning the polycrystalline silicon layer. A thermal oxidation layer(210) is formed by heat-treating the semiconductor layer under H20 atmosphere. A gate electrode(211) is formed on a constant region of the semiconductor layer. An interlayer dielectric(212) is formed on the entire surface of the substrate. Source/drain electrodes(213a,213b) are formed to be electrically connected to the semiconductor layer. The H20 atmosphere is formed under the pressure of 10000 Pa to 2 MPa.
摘要翻译：提供薄膜晶体管，其制造方法和包含该薄膜晶体管的有机发光二极管显示装置，以通过制造具有优异结晶度的多晶层来获得优异的特性。在基板（200）上形成非晶硅层。通过使非晶硅层结晶来形成多晶硅层。通过构图多晶硅层形成半导体层（203）。通过在H 2 O气氛下对半导体层进行热处理，形成热氧化层（210）。在半导体层的恒定区域上形成栅电极（211）。在基板的整个表面上形成层间电介质（212）。源极/漏极（213a，213b）形成为与半导体层电连接。在10000Pa〜2MPa的压力下形成H 2 O气氛。

2. 发明公开

KR1020070069603A 마스크 패턴, 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 이를사용하는 유기 전계 발광 표시 장치의 제조 방법 失效
标题翻译：掩模图案，制造薄膜晶体管的方法和用于制造有机发光显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020070069603A
公开(公告)日：2007-07-03
申请号：KR1020050131920
申请日：2005-12-28
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박혜향
IPC分类号： H01L21/027 , H01L29/786
CPC分类号： H01L21/02532 , H01L21/0268 , H01L27/1285
摘要： A mask pattern, a method for manufacturing a thin film transistor, and a method for manufacturing an organic light emitting display device using the same are provided to prevent nonuniform crystallization of polycrystal silicon due to nonuniform laser energy by differentiating the sum of a transparent pattern region from that of an opaque pattern region. A mask pattern includes a plurality of transparent patterns(100) and plural opaque patterns(200) with respect to a laser. The mask pattern is divided into n number of regions. The region of the transparent patterns and that of the opaque patterns are constant in at least two among the n number of regions, while the sum of the transparent patterns is different from that of the opaque pattern.
摘要翻译：提供掩模图案，薄膜晶体管的制造方法以及使用该薄膜晶体管的有机发光显示装置的制造方法，以防止由于不均匀的激光能量导致的多晶硅的不均匀结晶，通过使透明图案区域从不透明图案区域的。掩模图案包括相对于激光器的多个透明图案（100）和多个不透明图案（200）。掩模图案被分成n个区域。透明图案的区域和不透明图案的区域在n个区域中的至少两个中是恒定的，而透明图案的总和不同于不透明图案的总和。

3. 发明授权

KR100600852B1 다결정 실리콘 박막의 제조 방법 및 이를 사용하여 제조된디스플레이 디바이스 有权
标题翻译：制造多晶硅薄膜的方法和由其制造的显示装置
公开(公告)号：KR100600852B1
公开(公告)日：2006-07-14
申请号：KR1020030025536
申请日：2003-04-22
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 박혜향
IPC分类号： H01L21/324
摘要： 본 발명은 다결정 실리콘 박막의 제조 방법 및 이 다결정 실리콘 박막을 사용하여 제조된 디스플레이 디바이스에 관한 것으로, 레이저가 투과하는 패턴 그룹과 레이저가 투과하지 못하는 패턴 그룹이 혼합된 구조를 갖는 마스크를 사용하여 비정질 실리콘을 레이저를 이용하여 결정화하며, 상기 레이저가 투과하지 못하는 패턴 그룹이 규칙적으로 배열되어 있고, 상기 레이저가 투과하지 못하는 패턴 그룹은 스테이지 이동 방향에 수직한 방향에 대하여 서로 각각 일정한 간격만큼 서로 어긋나 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 디스플레이 디바이스용 다결정 실리콘 박막의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 다결정 실리콘 박막을 사용한 디스플레이 디바이스를 제공함으로써, 단결정에 가까운 커다란 결정립을 가지며 이에 따라 이를 사용하여 제조된 디스플레이 디바이스는 우수한 특성을 가지며, 스테이지의 이동 속도가 빨라짐에 따라 기판 전체에 걸쳐 결정화 시간을 줄일 수 있다. 또한 액티브 채널방향에 의존성이 없는 균일하고 우수한 특성의 TFT를 제조할 수 있다.
다결정 실리콘 박막, 박막 트랜지스터, 마스크 패턴
摘要翻译：本发明使用与制造方法的掩模和多晶作为图案组和所述激光是，激光通过使用多晶硅薄膜的无定形的硅薄膜制造的显示设备上发送的不发射图案组混合结构和使用激光的硅结晶，所述激光器是图案组规则地排列不能渗透，并且激光图案组不传输是相互交替分别由彼此的预定距离相对于沿垂直于载物台的移动方向，用于通过使用多晶硅薄膜，因此制备通过提供一种显示装置，包括所述结构的显示装置的制造多晶硅薄膜的方法，以及具有接近单晶一个大晶粒因此使用它的的显示装置具有优异的特性，能够降低结晶化时间在衬底上按照阶段更快的移动速度。另外，可以制造具有不依赖于有源沟道方向的均匀且优异的特性的TFT。

4. 发明授权

KR100579199B1 폴리실리콘 박막의 제조 방법 및 이를 사용하여 제조된폴리실리콘을 사용하는 디스플레이 디바이스 有权
标题翻译：用于显示器件制造多晶硅薄膜的方法和使用多晶硅薄膜的显示器件
公开(公告)号：KR100579199B1
公开(公告)日：2006-05-11
申请号：KR1020040009385
申请日：2004-02-12
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 박혜향
IPC分类号： H01L29/786
摘要： 본 발명은 디스플레이 디바이스용 폴리실리콘 박막의 제조 방법 및 이 방법에 의하여 제조된 폴리실리콘을 사용하는 디스플레이 디바이스에 관한 것으로, 레이저가 투과하는 투과 패턴과 레이저가 투과하지 못하는 불투과 패턴이 혼합된 구조를 갖는 마스크를 사용하여 비정질 실리콘을 레이저를 이용하여 결정화하는 디스플레이 디바이스용 폴리실리콘 박막의 제조 방법에 있어서, 상기 마스크는 레이저빔이 조사되는 중심부보다 레이저빔이 조사되는 가장자리의 상기 투과 패턴의 폭이 더 큰 것을 특징으로 하는 디스플레이 디바이스용 폴리실리콘 박막의 제조 방법 및 이 방법에 의하여 제조된 폴리실리콘을 사용하는 디스플레이 디바이스를 제공함으로써 SLS 결정화법으로 결정화시 에너지 밀도가 높은 레이저가 조사되는 영역과 에너지 밀도가 낮은 레이저가 조사되는 영역에 형성되는 결정립의 크기를 서로 다르게 하여 전계 이동도를 제어함으로써 이를 사용하여 디스플레이 디바이스를 제조하는 경우 종래에 발생되는 휘도 불균일을 억제할 수 있다.
폴리실리콘 박막, 박막 트랜지스터, 마스크 패턴

5. 发明授权

KR100543010B1 다결정 실리콘 박막의 제조 방법 및 이를 사용하여 제조된디스플레이 디바이스 有权
标题翻译：制造用于显示器件的多晶硅薄膜的方法和使用多晶硅薄膜的显示器件
公开(公告)号：KR100543010B1
公开(公告)日：2006-01-20
申请号：KR1020030073196
申请日：2003-10-20
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박혜향 , 박지용
IPC分类号： H01L21/268
CPC分类号： H01L21/0268 , B23K26/066 , C30B13/24 , C30B29/06 , H01L21/02532 , H01L21/02595 , H01L21/02691 , H01L21/2026
摘要： 본 발명은 디스플레이 디바이스용 다결정 실리콘 박막의 제조 방법에 관한 것으로, 레이저가 투과하는 투과 패턴 그룹과 레이저가 투과하지 못하는 불투과 패턴 그룹이 혼합된 구조를 갖는 마스크를 사용하여 비정질 실리콘을 레이저를 이용하여 결정화하는 디스플레이 디바이스용 다결정 실리콘 박막의 제조 방법에 있어서, 상기 마스크는 상기 불투과 패턴 그룹이 스캔 방향축과 수직으로 2 이상의 도트 패턴 그룹으로 이루어져 있으며 상기 도트 패턴 그룹은 일정한 형태를 이루며, 상기 도트 패턴 그룹이 스캔 방향축과 수직인 축 방향으로 서로 각각 일렬로 배열되지 않는 제 1 불투과 패턴 및 상기 제 1 불투과 패턴과 동일한 배열로 이루어지나 상기 제 1 불투과 패턴과 스캔 방향축의 수직축과 평행하게 위치하는 제 2 불투과 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 디바이스용 다결정 실리콘 박막의 제조 방법을 제공함으로써 다결정 실리콘 박막의 결정화가 균일하게 되어 라인 형태의 휘도 불균일이 발생하지 않는 디스플레이 디바이스를 제공할 수 있다.
다결정 실리콘 박막, 박막 트랜지스터, 마스크 패턴

6. 发明授权

KR100542990B1 비정질 실리콘 박막의 결정화 방법, 마스크 패턴 및 이를사용하여 제조되는 다결정 실리콘 박막을 사용하는 평판디스플레이 디바이스 失效
标题翻译：使用由相同方法制成的多晶硅薄膜的结构化硅，掩模图案和平板显示装置的方法
公开(公告)号：KR100542990B1
公开(公告)日：2006-01-20
申请号：KR1020030050775
申请日：2003-07-23
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박혜향 , 박지용
IPC分类号： H01L21/20
摘要： 본 발명은 비정질 실리콘 박막의 결정화 방법, 마스크 패턴 및 이를 사용하여 제조되는 다결정 실리콘 박막을 사용하는 평판 디스플레이 디바이스에 관한 것으로, 동일한 레이저를 조사하여 하나의 마스크에 비정질 실리콘을 결정화시키기 위한 제 1 마스크 패턴과 탈수소화 공정을 행하기 위한 제 2 마스크 패턴을 동시에 갖는 마스크를 사용하는 것을 특징으로 하는 비정질 실리콘 박막의 결정화 방법 및 이에 사용되는 마스크 패턴과 이 방법에 의하여 제조된 다결정 실리콘 박막을 사용하는 평판 디스플레이 디바이스를 제공함으로써, 공정 시간과 비용을 절감할 수 있으며 전류 특성 우수한 평판 디스플레이 디바이스를 제공할 수 있다.
다결정 실리콘, 탈수소화, 마스크 패턴

7. 发明授权

KR100521275B1 씨모스 박막 트래지스터 및 이를 사용한 디스플레이디바이스 有权
标题翻译： Cmos薄膜晶体管和使用相同的显示设备
公开(公告)号：KR100521275B1
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：KR1020030038826
申请日：2003-06-16
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 구재본 , 박혜향 , 이기용 , 이을호
IPC分类号： H01L29/786
摘要： 본 발명은 CMOS 박막 트랜지스터 및 이를 사용하는 디스플레이 디바이스에 관한 것으로, 액티브 채널 영역에 포함되는 기판 위에 형성되는 폴리 실리콘의 두께가 P형 박막 트랜지스터보다 N형 박막 트랜지스터가 더 두꺼우며, 상기 N형 박막 트랜지스터에 포함되는 결정립의 크기가 상기 P형 박막 트랜지스터에 포함되는 결정립의 크기보도 작은 것을 특징으로 하는 CMOS 박막 트랜지스터 및 이를 사용하는 평판 디스플레이 디바이스를 제공함으로써 문턱 전압의 절대값 및 전류 이동도를 제어할 수 있으므로 전기적 특성이 향상된 CMOS 박막 트랜지스터 및 평판 디스플레이 디바이스를 제공할 수 있다.

8. 发明授权

KR100514179B1 박막 트랜지스터 및 이를 사용하는 유기 전계 발광 소자 有权
标题翻译：薄膜晶体管和使用其的电子显示器件
公开(公告)号：KR100514179B1
公开(公告)日：2005-09-13
申请号：KR1020020071998
申请日：2002-11-19
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 박혜향
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L29/78696 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/04 , H01L29/78672
摘要： 본 발명은 특성 및 균일성이 우수한 박막 트랜지스터 및 그를 사용하는 유기 전계 발광 소자에 관한 것으로, 다결정 실리콘의 프라이머리 결정립 경계가 드레인 영역과 액티브 채널 영역의 경계와 만나지 않는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터를 제공함으로써 전류 특성 및 균일성이 우수한 박막 트랜지스터를 제공할 수 있으므로 성능이 우수한 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있다.

9. 发明授权

KR100501700B1 엘디디/오프셋 구조를 구비하고 있는 박막 트랜지스터 有权
标题翻译：具有LDD /偏移结构的薄膜晶体管
公开(公告)号：KR100501700B1
公开(公告)日：2005-07-18
申请号：KR1020020080326
申请日：2002-12-16
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 이기용 , 박혜향
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L29/78696 , H01L27/1296 , H01L29/04 , H01L29/66757 , H01L29/78621 , H01L29/78675
摘要： 본 발명은 LDD/오프셋 영역을 구비하고 있는 박막 트랜지스터에 관한 것으로, 상기 LDD/오프셋 영역에서는 폴리 실리콘 기판의 "프라이머리" 결정립 경계가 위치하지 않는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터를 제공함으로써, 누설 전류 특성 등의 전기적 특성이 우수한 박막 트랜지스터를 제공할 수 있다.

10. 发明授权

KR100501314B1 평판 표시 장치 有权
公开(公告)号：KR100501314B1
公开(公告)日：2005-07-18
申请号：KR1020030037245
申请日：2003-06-10
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
发明人： 박지용 , 이을호 , 구재본 , 박혜향
IPC分类号： H05B33/00
摘要： 본 발명은 액티브 매트릭스형 평판 표시 장치에 관한 것으로, 녹색, 적색 및 청색 화소 영역을 구비하고 있으며, 동일한 액티브 채널 길이 및 폭을 갖는 상기 화소를 구동하는 구동 박막 트랜지스터를 구비하고 있으며, 상기 구동 박막 트랜지스터의 액티브 채널 영역 내에 포함되는 다결정 실리콘의 결정립 경계의 수가 각 화소마다 서로 다른 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치를 제공함으로써 화소를 구동하는 구도 박막 트랜지스터의 액티브 채널 영역의 폭이나 크기를 변경하지 않고 구동전압을 변경하지 않으면서 동일 크기의 액티브 채널 영역을 가지고도 화이트 밸런스를 맞출 수 있고, 부화소별로 적정한 전류를 공급하므로 적정 휘도를 얻을 수 있고, 수명 열화를 방지할 수 있다.

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