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1. 发明授权

KR102256930B1 식각액 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102256930B1
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：KR1020130124924
申请日：2013-10-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정재우 , 김인배 , 상현정 , 정종현 , 문영민 , 박홍식 , 김규포 , 서원국 , 신현철 , 이기범 , 조삼영 , 한승연
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/30 , H01L21/3213
摘要： 본발명의일 실시예에따르면, 과산화이황산암모늄 10 중량% 내지 20 중량%; 인산또는아인산화합물 0.1 중량% 내지 10 중량%; 염소산염계화합물 0.1 중량% 내지 5 중량%; 질산또는술폰산화합물 0.1 중량% 내지 5 중량%; 아졸계화합물 0.1 중량% 내지 3 중량%; 불소화합물 0.1 중량% 내지 2 중량%; 및물 55 중량% 내지 89.5 중량%를포함하는식각액조성물을제공한다.

2. 发明公开

KR1020160033855A 포토레지스트 박리용 조성물, 이를 이용한 금속 패턴의 형성 방법 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于剥离光电元件的组合物，使用其形成金属图案的方法和使用其制造显示器基板的方法
公开(公告)号：KR1020160033855A
公开(公告)日：2016-03-29
申请号：KR1020140124412
申请日：2014-09-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 박홍식 , 정재우 , 상현정 , 김인배 , 박영진 , 이상대 , 임찬규 , 전경민
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/422 , H01L21/02068
摘要： 제조공정의신뢰성및 생산성을향상시킬수 있는포토레지스트박리용조성물, 이를이용한금속패턴의형성방법및 박막트랜지스터기판의제조방법이개시된다. 포토레지스트박리용조성물은알칸올아민 1 내지 10 중량%, 모노알킬렌글리콜알킬에테르화합물 1 내지 10 중량%, 디알킬렌글리콜알킬에테르화합물 10 내지 85 중량%, 하기화학식 2로표시되는폴리알킬렌옥사이드화합물 1 내지 5 중량%, 부식방지제 0.001 내지 0.01 중량%, 함질소비양자성극성용매 5 내지 20중량% 및여분의물을포함한다. 이에따라, 포토레지스트제거력을향상시킬수 있으며, 박리된포토레지스트가기판상에재부착되는것을방지할수 있다. 또한, 포토레지스트하부의금속에대한부식을방지할수 있다. 이에따라, 금속패턴및 박막트랜지스터기판의제조공정의신뢰성을향상시킬수 있다.
摘要翻译：公开了用于分离光致抗蚀剂的组合物，其可以提高制造工艺的可靠性和生产率，用于形成金属图案的方法以及通过使用该方法制造薄膜晶体管基板的方法。用于分离光致抗蚀剂的组合物包括1-10重量％的链烷醇胺，1-10重量％的单亚烷基二醇烷基醚化合物，10-85重量％的二亚烷基二醇烷基醚化合物和1-5重量％的聚环氧烷化学式2表示的化合物，0.001-0.01重量％的防腐蚀剂，5-20重量％的含氮非质子极性溶剂和余下的水。因此，可以增加用于除去光致抗蚀剂的力，并且可以防止分离的光致抗蚀剂再次附着到基板上。此外，可以防止光致抗蚀剂下部的金属腐蚀。因此，可以提高用于制造金属图案和薄膜晶体管基板的工艺的可靠性。

3. 发明公开

KR1020150124540A 식각액 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于制造使用该显示装置的显示装置的方法和方法
公开(公告)号：KR1020150124540A
公开(公告)日：2015-11-06
申请号：KR1020140050924
申请日：2014-04-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 정종현 , 김인배 , 박홍식 , 김선일 , 국인설 , 남기용 , 박영철 , 유인호 , 윤영진 , 이석준
IPC分类号： C09K13/06 , C09K13/08 , H01L21/306
CPC分类号： H01L29/66765 , C23F1/02 , C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L27/1259 , H01L29/458 , H01L29/4908
摘要： 식각액및 이를사용한표시장치의제조방법이개시된다.
摘要翻译：公开了一种蚀刻剂和使用其的显示装置的制造方法。蚀刻剂包括过硫酸盐，氟化合物，无机酸，含氮杂环化合物，钠化合物，铜盐，有机酸或有机酸盐，给电子化合物和溶剂。

4. 发明公开

KR1020150092813A 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：触摸屏面板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150092813A
公开(公告)日：2015-08-17
申请号：KR1020140013233
申请日：2014-02-05
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 정종현 , 김인배 , 박홍식 , 이병진
IPC分类号： G06F3/044 , G06F3/041
CPC分类号： G06F3/0416 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04111
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은 터치 영역과 상기 터치 영역을 둘러싸는 주변 영역을 가지는 기판, 상기 터치 영역 위에 제1 방향으로 형성되어 있으며 제1 터치 신호를 전달하는 제1 터치 전극 패턴, 상기 터치 영역 위에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되어 있으며 제2 터치 신호를 전달하는 복수개의 제2 터치 전극 패턴, 상기 주변 영역 위에 형성되어 있으며 상기 제1 터치 전극 패턴과 연결되어 있는 제1 구동 회로 배선을 포함하고, 상기 제1 구동 회로 배선은 저저항 배선층을 포함할 수 있다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施例，触摸屏面板包括：具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域的基板; 第一触摸电极图案，其形成在第一方向上的触摸区域中并且发送第一触摸信号; 多个第二触摸电极图案，形成在与第一方向交叉的第二方向上的触摸区域中，并且发送第二触摸信号; 以及形成在周边区域中并与第一触摸电极图案连接的第一驱动电路布线。第一驱动电路布线可以具有低电阻布线层。

5. 发明授权

KR101527117B1 식각액 조성물, 이를 이용한 금속 배선 제조 방법 및 박막 트랜지스터 기판 제조방법 有权
标题翻译：使用金属接线和薄膜晶体管基板的蚀刻和制造方法
公开(公告)号：KR101527117B1
公开(公告)日：2015-06-09
申请号：KR1020130074896
申请日：2013-06-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 정종현 , 김인배 , 정재우 , 박홍식 , 국인설 , 남기용 , 박영철 , 유인호 , 윤영진 , 이석준
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/18
CPC分类号： H01L29/66742 , C09K13/08 , C23F1/02 , C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/32134 , H01L27/3276 , H01L29/458 , H01L29/4908
摘要： 본발명의일 실시예는식각액조성물에관한것으로서, 상기조성물의총 중량에대하여과황산염 0.5 내지 20 중량%, 불소화합물 0.01 내지 2 중량%, 무기산 1 내지 10 중량%, 고리형아민화합물 0.5 내지 5 중량%, 한화합물에아미노기와술폰산기를동시에갖는화합물 0.1 내지 10.0 중량%, 유기산또는그의염 0.1 내지 15.0 중량%, 그리고전체조성물의총 중량이 100중량%가되도록하는물을포함하는식각액조성물을제공한다.

6. 发明公开

KR1020150058620A 세정액 및 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 审中-实审
标题翻译：用于制造使用该显示装置的显示装置的清洁方案和方法
公开(公告)号：KR1020150058620A
公开(公告)日：2015-05-29
申请号：KR1020130140136
申请日：2013-11-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 김인배 , 박홍식 , 상현정 , 정재우 , 김병욱 , 윤석일 , 정세환 , 허순범
IPC分类号： C11D7/08 , C11D7/26
CPC分类号： H01L21/02052 , C03C23/0075 , C11D3/042 , C11D3/046 , C11D3/2075 , C11D3/2082 , C11D3/2086 , C11D3/3409 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/265 , C11D11/0047 , H01L27/1262
摘要： 세정액은세정액의총 중량을기준으로, 질산 2 내지 12 중량%; 유기산 0.5 내지 15 중량%; 염화합물 0.1 내지 10 중량%; 불소를포함하는무기염 0.01 내지 3 중량%; 및잔부의물을포함한다. 상기세정액을사용하면기판상의이물질을효과적으로세정할수 있다.
摘要翻译：基于总重量，清洗溶液含有2-12重量％的硝酸; 0.5-15重量％的有机酸; 0.1-10重量％的盐化合物; 0.01-3重量％的具有氟化物的矿物盐; 和剩余的水。当使用清洁液时，可以有效地清洁板上的异物。

7. 发明公开

KR1020150033821A 식각액 조성물, 및 이를 이용한 금속 배선과 박막 트랜지스터 기판 형성 방법 审中-实审
标题翻译：使用金属接线和薄膜晶体管基板的蚀刻和制造方法
公开(公告)号：KR1020150033821A
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：KR1020130113420
申请日：2013-09-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김인배 , 정종현 , 문영민 , 박홍식 , 김규포 , 서원국 , 신현철 , 이기범 , 조삼영 , 한승연
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/18
CPC分类号： H01L21/30604 , C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L29/45
摘要： 본발명의일 실시예에따른식각액조성물은식각액조성물총 중량에대하여 0.5중량% 내지 20중량%의과황산염, 0.01중량% 내지 1중량%의불소화합물, 1중량% 내지약 10중량%의무기산, 0.01중량% 내지 2중량%의아졸계화합물, 0.1중량% 내지 5중량%의염소화합물, 0.05중량% 내지 3중량%의구리염, 0.01중량% 내지 5중량%의항산화제또는상기항산화제의염, 및전체조성물의총 중량이 100중량%가되도록하는물을포함한다. 식각액조성물은구리를포함하는금속막을식각하여금속배선을형성하거나표시장치용박막트랜지스터기판제조시에사용될수 있다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施方案，蚀刻溶液组合物相对于蚀刻溶液组合物的总重量包含：0.5至20重量％的过硫酸盐; 0.01〜1重量％的氟化合物; 1至约10重量％的无机酸; 0.01〜2重量％的唑类化合物; 0.1〜5重量％的氯化物; 0.05〜3重量％的铜盐; 0.01〜5重量％的抗氧化剂或抗氧化剂的盐; 和剩余的水，使得组合物的总重量可以为100重量％。蚀刻溶液组合物可用于形成金属布线或通过蚀刻包括铜的金属膜制造用于显示器的薄膜晶体管基板。

8. 发明公开

KR1020120138456A 금속 패턴의 형성 방법 및 이를 포함하는 표시 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：形成金属图案的方法和制造包括该方法的显示基板的方法
公开(公告)号：KR1020120138456A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：KR1020110057937
申请日：2011-06-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 정종현 , 박지영 , 김선일 , 김상갑 , 김인배 , 정재우
IPC分类号： G02F1/1368 , H01L29/786 , C09K13/04
CPC分类号： C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/458 , H01L29/66765 , G02F1/136286
摘要： PURPOSE: A method for forming a metal pattern and a method for manufacturing a display substrate including the method are provided to use etchant solution including ammonium peroxodisulfate and azole family compound and to prevent a damage of other patterns caused by the etchant solution. CONSTITUTION: A copper metal layer of 1,500Å to 5,500Å thick is formed on a base substrate(110). A photo pattern is formed on the copper metal. The photo pattern is used as an etch prevention film. The copper metal layer is over-etched with 40% to 200% by using an etchant solution including ammonium peroxodisulfate(NH4) 2S2O8, ammonium persulfate 0.1 weight % to 50 weight %, and azole compound 0.01 weight % to 5 weight % and water. A metal pattern is formed.
摘要翻译：目的：提供一种用于形成金属图案的方法和包括该方法的显示基板的制造方法，以使用包括过二硫酸铵和唑类化合物的蚀刻剂溶液，并且防止由蚀刻剂溶液引起的其它图案的损坏。构成：在基底（110）上形成厚度为1,500至5,500的铜金属层。在铜金属上形成照片图案。照片图案用作防蚀漆膜。通过使用包括过二硫酸铵（NH 4）2 S 2 O 8，过硫酸铵0.1重量％至50重量％和吡唑化合物0.01重量％至5重量％的蚀刻剂溶液和水，将铜金属层过蚀刻为40％至200％。形成金属图案。

9. 发明授权

KR101922625B1 금속 배선 식각액 및 이를 이용한 금속 배선 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR101922625B1
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：KR1020120072295
申请日：2012-07-03
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정종현 , 김인배 , 김선일 , 박홍식 , 정재우 , 김규포 , 서원국 , 신현철 , 이기범 , 조삼영 , 한승연
IPC分类号： C23F1/16 , H05K3/06
CPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/4814
摘要： 금속배선식각액을제공한다. 본발명의한 실시예에따른금속배선식각액은과황산염, 술폰산염, 불소화합물, 아졸계화합물, 유기산, 질산염, 염소화합물을포함한다.

10. 发明公开

KR1020150041378A 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：化学液体供应装置和具有该液体装置的基板处理装置
公开(公告)号：KR1020150041378A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：KR1020130119826
申请日：2013-10-08
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김인배 , 정종현 , 김선일 , 박홍식
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/6708 , C23F1/18
摘要： 약액공급장치는, 기판처리공정챔버와연결되며상기기판처리공정챔버로약액을순환시키기위해상기약액을저장하는약액탱크, 상기약액탱크내에구비되며상기약액에유체를분무하기위한적어도하나의분무기를갖는유체분사부, 및상기약액탱크의측벽에구비되며상기분무기에의해상기약액으로부터휘발된수증기를배출하기위한배기부를포함한다.
摘要翻译：化学液体供应装置连接到基板处理室，包括：用于储存化学液体以使化学液体循环到基板工艺的室中的化学液体罐; 流体注射单元，其具有至少一个或多个喷雾器，以将流体喷射到设置在药液罐中的化学液体中; 和排气单元，以排出由喷雾器从化学液体挥发的水蒸汽。

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