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    • 1. 发明授权
    • 유도 결합 코일 및 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치
    • 空值
    • KR101048245B1
    • 2011-07-08
    • KR1020097002279
    • 2007-01-26
    • 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
    • 송차오리난지안회이
    • H05H1/46H01L21/3065H05H1/24
    • H01J37/3211H01F27/28H01F38/10H01F38/14H01J37/321H01J37/32119H01J37/32183H01J2237/3344
    • 유도 결합 코일 또는 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치는 내부 코일과 외부 코일을 구비한다. 내부 코일과 외부 코일은 서로 독립되고 동축으로 배치된다. 내부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 내부 서브 코일을 포함하고, 다수개의 독립된 내부 서브 코일은 축에 대해 대칭으로 배치된다. 외부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 외부 서브 코일로 이루어지고, 다수개의 서로 독립한 외부 서브 코일은 축에 대해 독립적으로 배열된다. 유도 결합 코일은 유도 결합 플라즈마 장치의 반응 챔버에 위치하고 RF 파워와 연결된다. 이는 반응챔버 내 칩 상에 플라즈마 분포를 균일하게 하여 웨이퍼 표면에 화학 반응 속도차가 작게 하고 식각된 칩의 품질을 향상시킨다. 이는 반도체 칩 프로세스 장치와 다른 장치에 적용될 수 있다.
    • 本发明公开了一种电感耦合线圈和使用该线圈的电感耦合等离子体装置。 电感耦合线圈包括内部线圈和外部线圈,它们彼此相对并且同轴布置,内部线圈包括具有嵌套在一起的相同构造的多个内部各自的分支,所述多个内部各自的分支对称地布置有 相对于电感耦合线圈的轴线; 所述外部线圈包括具有嵌套在一起的相同配置的多个外部各自的分支,所述多个外部相应的分支相对于所述电感耦合线圈的轴对称地布置。 电感耦合线圈位于感应耦合等离子体装置的反应室上,并连接到RF源。 可以使等离子体均匀地分布在反应室中的晶片上,使晶片表面的化学反应速度差小,蚀刻后的晶片的品质提高。 它们可以应用于半导体晶片制造装置中,并且也可以适用于其他装置。
    • 2. 发明公开
    • 유도 결합 코일 및 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치
    • 感应耦合线圈和电感耦合等离子体装置
    • KR1020090036125A
    • 2009-04-13
    • KR1020097002279
    • 2007-01-26
    • 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
    • 송차오리난지안회이
    • H05H1/46H01L21/3065H05H1/24
    • H01J37/3211H01F27/28H01F38/10H01F38/14H01J37/321H01J37/32119H01J37/32183H01J2237/3344
    • An inductive coupled coil or an inductive coupled plasma device using the same comprises an internal coil and an exterior coil. The internal coil and the exterior coil are independent and are in coaxial alignment. The internal coil is consist of several independent internal sub-coils nested each other that is the same in structure, and the several independent internal sub-coils are arranged symmetrically respect to an axes. The exterior coil is consist of several independent exterior sub-coils nested each other that is the same in structure, and the several independent exterior sub-coils are arranged symmetrically respect to an axes. The inductive coupled coil is located on the reaction chamber of the inductive coupled plasma device and is connected to a RF power. It can make the plasma distribute uniformly on the chip in the reaction chamber so that the difference in chemical reaction rate on the surface of the chip is small and the quality of the etched chip is improved. They can be applied in a semiconductor chip process device and other devices.
    • 感应耦合线圈或使用其的感应耦合等离子体装置包括内部线圈和外部线圈。 内部线圈和外部线圈是独立的并且是同轴对准的。 内部线圈由几个彼此嵌套的独立的内部子线圈组成,其结构相同,并且几个独立的内部子线圈相对于轴对称地布置。 外部线圈由几个独立的外部子线圈组成,其结构相同,并且几个独立的外部子线圈相对于轴对称地布置。 电感耦合线圈位于感应耦合等离子体装置的反应室上并连接到RF电源。 可以使等离子体均匀分布在反应室的芯片上,使得芯片表面的化学反应速度差小,蚀刻芯片的质量提高。 它们可以应用于半导体芯片工艺装置等设备中。
    • 4. 发明公开
    • 유도 결합 플라즈마 장치
    • 感应耦合线圈和电感耦合等离子体装置
    • KR1020110056434A
    • 2011-05-27
    • KR1020117010679
    • 2007-01-26
    • 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
    • 송차오리난지안회이
    • H05H1/46H01L21/3065H05H1/24
    • H01J37/3211H01F27/28H01F38/10H01F38/14H01J37/321H01J37/32119H01J37/32183H01J2237/3344
    • 유도 결합 코일 또는 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치는 내부 코일과 외부 코일을 구비한다. 내부 코일과 외부 코일은 서로 독립되고 동축으로 배치된다. 내부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 내부 서브 코일을 포함하고, 다수개의 독립된 내부 서브 코일은 축에 대해 대칭으로 배치된다. 외부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 외부 서브 코일로 이루어지고, 다수개의 서로 독립한 외부 서브 코일은 축에 대해 독립적으로 배열된다. 유도 결합 코일은 유도 결합 플라즈마 장치의 반응 챔버에 위치하고 RF 파워와 연결된다. 이는 반응챔버 내 칩 상에 플라즈마 분포를 균일하게 하여 웨이퍼 표면에 화학 반응 속도차가 작게 하고 식각된 칩의 품질을 향상시킨다. 이는 반도체 칩 프로세스 장치와 다른 장치에 적용될 수 있다.
    • 本发明公开了一种电感耦合线圈和使用该线圈的电感耦合等离子体装置。 电感耦合线圈包括内部线圈和外部线圈,它们彼此相对并且同轴布置,内部线圈包括具有嵌套在一起的相同构造的多个内部各自的分支,所述多个内部各自的分支对称地布置有 相对于电感耦合线圈的轴线; 所述外部线圈包括具有嵌套在一起的相同配置的多个外部各自的分支,所述多个外部相应的分支相对于所述电感耦合线圈的轴对称地布置。 电感耦合线圈位于感应耦合等离子体装置的反应室上,并连接到RF源。 可以使等离子体均匀地分布在反应室中的晶片上,使晶片表面的化学反应速度差小,蚀刻后的晶片的品质提高。 它们可以应用于半导体晶片制造装置中,并且也可以适用于其他装置。
    • 5. 发明授权
    • 유도 결합 플라즈마 장치
    • 电感耦合等离子体装置
    • KR101104571B1
    • 2012-01-11
    • KR1020117010679
    • 2007-01-26
    • 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디.
    • 송차오리난지안회이
    • H05H1/46H01L21/3065H05H1/24
    • H01J37/3211H01F27/28H01F38/10H01F38/14H01J37/321H01J37/32119H01J37/32183H01J2237/3344
    • 유도 결합 코일 또는 이를 이용한 유도 결합 플라즈마 장치는 내부 코일과 외부 코일을 구비한다. 내부 코일과 외부 코일은 서로 독립되고 동축으로 배치된다. 내부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 내부 서브 코일을 포함하고, 다수개의 독립된 내부 서브 코일은 축에 대해 대칭으로 배치된다. 외부 코일은 다수개의 동일한 구조를 가진 서로 함유한 독립된 외부 서브 코일로 이루어지고, 다수개의 서로 독립한 외부 서브 코일은 축에 대해 독립적으로 배열된다. 유도 결합 코일은 유도 결합 플라즈마 장치의 반응 챔버에 위치하고 RF 파워와 연결된다. 이는 반응챔버 내 칩 상에 플라즈마 분포를 균일하게 하여 웨이퍼 표면에 화학 반응 속도차가 작게 하고 식각된 칩의 품질을 향상시킨다. 이는 반도체 칩 프로세스 장치와 다른 장치에 적용될 수 있다.
    • 本发明公开了一种电感耦合线圈和使用该线圈的电感耦合等离子体装置。 电感耦合线圈包括内部线圈和外部线圈,它们彼此相对并且同轴布置,内部线圈包括具有嵌套在一起的相同构造的多个内部各自的分支,所述多个内部各自的分支对称地布置有 相对于电感耦合线圈的轴线; 所述外部线圈包括具有嵌套在一起的相同配置的多个外部各自的分支,所述多个外部相应的分支相对于所述电感耦合线圈的轴对称地布置。 电感耦合线圈位于感应耦合等离子体装置的反应室上,并连接到RF源。 可以使等离子体均匀地分布在反应室中的晶片上,使晶片表面的化学反应速度差小,蚀刻后的晶片的品质提高。 它们可以应用于半导体晶片制造装置中,并且也可以适用于其他装置。