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    • 6. 发明授权
    • 광학특성 회복장치, 회복방법, 및 이 장치에 이용되는광학시스템
    • 光学性能恢复单元,恢复方法,以及在该装置中使用的光学系统
    • KR100610540B1
    • 2006-08-09
    • KR1020040030716
    • 2004-04-30
    • 미츠비시 쥬고교 가부시키가이샤
    • 사까이사또시쯔루가시게노리야마꼬시히데오구리바야시시즈마단노미노루후따미히로시야마자끼노리꼬
    • H01J9/42
    • 본 발명의 목적은 광 투과, 회절, 반사, 스펙트럼 생성 및 간섭 및 이들의 조합과 같은 효과를 전달하는 광학장치의 수명을 결정하는 광학시스템의 열화를 방지하거나 억제하며, 이에 의해 윈도우 교체와 같은 유지보수 동작의 빈도를 감소시키고 이러한 동작에 대한 비용을 감소시키는 것이다. 본 발명은 탄소의 산화반응을 여기시키는 활성 에너지의 존재로 근진공영역을 형성하는 단계로서, 이 근진공영역은 광학시스템의 라이팅 표면에 대향하는 단계, OH 라디컬, OH
      - 이온들, 오존, O
      2
      _ 이온, O 라디컬과 같은 산소원자들을 포함하는 불안정 화학시드와 같은, 근진공영역의 음이온 또는 라디컬들을 생성하는 단계, 및 음 이온 또는 라디컬들과 성막된 탄소를 반응시켜, 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계들에 의해 특징화된다. 더욱 자세하게는, 본 발명에 따른 방법은 활성 에너지를 공급하면서 수성가스 또는 산화가스 (예를 들면, 수증기, 산소, 수소, 과산화수소, 오존, 또는 (공기를 포함하는) 비활성 가스와 상기 가스의 혼합물) 와 같은 산소원자 함유가스의 플로우를 근진공 영역으로 공급하여, 공급된 활성 에너지와 축적된 탄소의 산화반응을 여기시켜 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계에 의해 특징화된다.
      광학특성 회복장치, 광투과 윈도우
    • 本发明中,光透射,衍射的目的,产生的反射光谱和干扰和防止光学系统的恶化,用于确定光学装置的寿命用于递送相同的效果的组合,或抑制,并保持诸如更换窗,并由此 减少维护操作的频率和减少这样的操作的成本。 本发明的形成在对碳的令人兴奋的氧化的活性能量的存在下,接近真空区域中,接近真空的区域相相对于光学系统的书写表面,OH自由基,OH
    • 7. 发明公开
    • 광학특성 회복장치, 회복방법, 및 이 장치에 이용되는광학시스템
    • 光学特性恢复装置,恢复方法和设备中使用的光学系统
    • KR1020060066684A
    • 2006-06-16
    • KR1020060038158
    • 2006-04-27
    • 미츠비시 쥬고교 가부시키가이샤
    • 사까이사또시쯔루가시게노리야마꼬시히데오구리바야시시즈마단노미노루후따미히로시야마자끼노리꼬
    • H01J9/42
    • 본 발명의 목적은 광 투과, 회절, 반사, 스펙트럼 생성 및 간섭 및 이들의 조합과 같은 효과를 전달하는 광학장치의 수명을 결정하는 광학시스템의 열화를 방지하거나 억제하며, 이에 의해 윈도우 교체와 같은 유지보수 동작의 빈도를 감소시키고 이러한 동작에 대한 비용을 감소시키는 것이다. 본 발명은 탄소의 산화반응을 여기시키는 활성 에너지의 존재로 근진공영역을 형성하는 단계로서, 이 근진공영역은 광학시스템의 라이팅 표면에 대향하는 단계, OH 라디컬, OH
      - 이온들, 오존, O
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      _ 이온, O 라디컬과 같은 산소원자들을 포함하는 불안정 화학시드와 같은, 근진공영역의 음이온 또는 라디컬들을 생성하는 단계, 및 음 이온 또는 라디컬들과 성막된 탄소를 반응시켜, 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계들에 의해 특징화된다. 더욱 자세하게는, 본 발명에 따른 방법은 활성 에너지를 공급하면서 수성가스 또는 산화가스 (예를 들면, 수증기, 산소, 수소, 과산화수소, 오존, 또는 (공기를 포함하는) 비활성 가스와 상기 가스의 혼합물) 와 같은 산소원자 함유가스의 플로우를 근진공 영역으로 공급하여, 공급된 활성 에너지와 축적된 탄소의 산화반응을 여기시켜 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계에 의해 특징화된다.
      광학특성 회복장치, 광투과 윈도우
    • 10. 发明授权
    • 광학특성 회복장치, 회복방법, 및 이 장치에 이용되는광학시스템
    • 光学特性恢复装置,恢复方法和设备中使用的光学系统
    • KR100701837B1
    • 2007-04-02
    • KR1020060038158
    • 2006-04-27
    • 미츠비시 쥬고교 가부시키가이샤
    • 사까이사또시쯔루가시게노리야마꼬시히데오구리바야시시즈마단노미노루후따미히로시야마자끼노리꼬
    • H01J9/42
    • 본 발명의 목적은 광 투과, 회절, 반사, 스펙트럼 생성 및 간섭 및 이들의 조합과 같은 효과를 전달하는 광학장치의 수명을 결정하는 광학시스템의 열화를 방지하거나 억제하며, 이에 의해 윈도우 교체와 같은 유지보수 동작의 빈도를 감소시키고 이러한 동작에 대한 비용을 감소시키는 것이다. 본 발명은 탄소의 산화반응을 여기시키는 활성 에너지의 존재로 근진공영역을 형성하는 단계로서, 이 근진공영역은 광학시스템의 라이팅 표면에 대향하는 단계, OH 라디컬, OH
      - 이온들, 오존, O
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      _ 이온, O 라디컬과 같은 산소원자들을 포함하는 불안정 화학시드와 같은, 근진공영역의 음이온 또는 라디컬들을 생성하는 단계, 및 음 이온 또는 라디컬들과 성막된 탄소를 반응시켜, 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계들에 의해 특징화된다. 더욱 자세하게는, 본 발명에 따른 방법은 활성 에너지를 공급하면서 수성가스 또는 산화가스 (예를 들면, 수증기, 산소, 수소, 과산화수소, 오존, 또는 (공기를 포함하는) 비활성 가스와 상기 가스의 혼합물) 와 같은 산소원자 함유가스의 플로우를 근진공 영역으로 공급하여, 공급된 활성 에너지와 축적된 탄소의 산화반응을 여기시켜 라이팅 표면 상에 성막시키는, 축적된 탄소를 제거 또는 감소시키는 단계에 의해 특징화된다.
      광학특성 회복장치, 광투과 윈도우