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    • 기판프로세싱시스템을위한가스전달시스템은제 1 매니폴드및 제 2 매니폴드를포함한다. 가스전달서브시스템은가스소스들로부터가스들을선택적으로전달한다. 가스전달서브시스템은제 1 가스혼합물을제 1 매니폴드로전달하고제 2 가스혼합물을제 2 매니폴드로전달한다. 가스스플리터는제 2 매니폴드의유출부와유체로연통하는유입부, 제 1 매니폴드의유출부와유체로연통하는제 1 유출부, 및제 2 유출부를포함한다. 가스스플리터는제 2 가스혼합물을제 1 유출부로출력되는제 1 플로우레이트의제 1 부분및 제 2 유출부로출력되는제 2 플로우레이트의제 2 부분으로스플릿한다 (split). 기판프로세싱시스템의제 1 존및 제 2 존은가스스플리터의제 1 유출부및 제 2 유출부와각각유체로연통한다.
    • 用于基板处理系统的气体输送系统包括第一歧管和第二歧管。 气体输送子系统选择性地从气体源输送气体。 气体输送子系统将第一气体混合物输送到第一歧管和第二气体混合物。 气体分配器包括与第二歧管的出口流体连通的入口,与第一歧管的出口流体连通的第一出口和第二出口。 气体分配器以第一流量将第二气体混合物分成第一部分,第一流量输出到第一出口,第二部分以第二流量分配,输出到第二出口。 基板处理系统的第一和第二区分别与气体分离器的第一和第二出口流体连通。